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用于確定容納在容器中的介質(zhì)的電導(dǎo)率的梯度計(jì)的制作方法

文檔序號(hào):5953114閱讀:312來源:國(guó)知局
專利名稱:用于確定容納在容器中的介質(zhì)的電導(dǎo)率的梯度計(jì)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及用于確定容納在容器中的介質(zhì)的電導(dǎo)率的梯度計(jì)。
背景技術(shù)
在過程測(cè)量技術(shù)和在工業(yè)測(cè)量技術(shù)中,為了測(cè)量液體的電導(dǎo)率,通常使用電導(dǎo)率傳感器,電導(dǎo)率傳感器根據(jù)感應(yīng)或?qū)щ姕y(cè)量原理來工作。例如,從EP990 894B1已知一種電導(dǎo)率傳感器,該電導(dǎo)率傳感器包括至少兩個(gè)電極,為了測(cè)量,將該至少兩個(gè)電極浸入介質(zhì)中。為了確定介質(zhì)的電導(dǎo)率,確定了介質(zhì)中電極測(cè)量路徑的電阻或?qū)щ娦?。在已知電池常?shù)的情形下,可以由此確認(rèn)介質(zhì)的導(dǎo)電性。為了借助電導(dǎo)率傳感器測(cè)量被測(cè)液體的導(dǎo)電性,使至少兩個(gè)電極與被測(cè)液體接觸是絕對(duì)必要的。
在用于過程介質(zhì)的導(dǎo)電性確定的感應(yīng)原理的情形下,應(yīng)用傳感器,該傳感器具有發(fā)射線圈以及與該發(fā)射線圈間隔開布置的接收線圈。經(jīng)由該發(fā)射線圈產(chǎn)生了交變電磁場(chǎng),該交變電磁場(chǎng)作用在液體介質(zhì)中的帶電粒子(如離子)上,并且在介質(zhì)中引起相應(yīng)的電流流動(dòng)。經(jīng)由該電流流動(dòng),也在接收線圈上出現(xiàn)電磁場(chǎng),這根據(jù)法拉第感應(yīng)定律在接收線圈中感應(yīng)接收信號(hào)(感應(yīng)電壓)。該接收信號(hào)可以被評(píng)估并用于確定液體介質(zhì)的電導(dǎo)率。通常,感應(yīng)式電導(dǎo)率傳感器構(gòu)造如下通常將發(fā)射線圈和接收線圈實(shí)現(xiàn)為環(huán)形線圈并包括由介質(zhì)可接觸的橫越開口,使得介質(zhì)圍繞兩個(gè)線圈流動(dòng)。在激勵(lì)的情形下,發(fā)射線圈形成在介質(zhì)內(nèi)延伸的閉合式電流路徑,其穿過發(fā)射線圈以及接收線圈兩者。通過響應(yīng)于發(fā)射線圈的信號(hào)而評(píng)估接收線圈的電流或電壓信號(hào),隨后可以確認(rèn)被測(cè)液體的導(dǎo)電性。這樣的原理在工業(yè)過程測(cè)量技術(shù)中建立并且在專利文件的大量文獻(xiàn)中記載,例如在DE 19851 146A1 中。借助于梯度計(jì)的梯度測(cè)量是使用兩個(gè)傳感器同時(shí)測(cè)量梯度,傳感器布置在相對(duì)于彼此固定的距離處。通常,使用梯度計(jì)來測(cè)量磁場(chǎng)。在該情形下,傳感器通常實(shí)現(xiàn)為磁力計(jì),在最簡(jiǎn)單的情形下實(shí)現(xiàn)為線圈。在這樣的情形下,測(cè)量值通常彼此相減,以便檢測(cè)在兩個(gè)傳感器之間的磁場(chǎng)差。因此,可以產(chǎn)生高度精確的磁場(chǎng)測(cè)量。因而,在這種布置中的線圈可以作為梯度計(jì)而用作電導(dǎo)率傳感器。在梯度計(jì)的情形下存在問題的是,由于場(chǎng)構(gòu)造,梯度計(jì)受在其較近的環(huán)境中所有感應(yīng)物體的影響。特別是,例如容器壁的金屬物體可能以干擾的方式作用于測(cè)量結(jié)果,因?yàn)樵谠摻饘傥矬w中產(chǎn)生渦電流,渦電流引起疊加在實(shí)際測(cè)量信號(hào)上的擾動(dòng)信號(hào)。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的是提供一種用于確定電導(dǎo)率的梯度計(jì),該梯度計(jì)也可應(yīng)用在金屬容器的情形下。通過一種梯度計(jì)來實(shí)現(xiàn)該目的,包括至少第一電線圈、第二電線圈和第三電線圈,其中第一線圈實(shí)現(xiàn)為發(fā)射線圈,其中第二和第三線圈實(shí)現(xiàn)為接收線圈,
保持裝置,其中第一、第二和第三線圈纏繞在保持裝置上,其中保持裝置被布置穿過容器壁中的容器開口以使得第一線圈關(guān)于容器壁中心地定位,其中第二和第三線圈被布置成關(guān)于第一線圈鏡像對(duì)稱并且與第一線圈感應(yīng)地耦
口 ο經(jīng)由第一線圈關(guān)于容器壁的中心定位以及第二和第三線圈關(guān)于第一線圈的鏡像對(duì)稱布置,得到了作為梯度計(jì)的有利布置,其對(duì)于電導(dǎo)率的敏感測(cè)量是有利的。如果將電流——特別是交流電流發(fā)送通過第一線圈,則出現(xiàn)磁場(chǎng)。根據(jù)法拉第感應(yīng)定律,由此在第二和第三線圈中感應(yīng)電壓,在理想的鏡像對(duì)稱布置的情形下,該電壓在第 二和第三線圈中是等大的。電磁波經(jīng)由保持裝置以及也經(jīng)由容器中的介質(zhì)和容器外部的介質(zhì)兩者而耦合。由于兩種介質(zhì)的不同電特性,布置在容器中的線圈中與布置在容器外部的線圈中感應(yīng)不同的電壓。通常,因?yàn)榻?jīng)由第一線圈的磁場(chǎng)而在位于容器中的介質(zhì)中感應(yīng)渦電流,所以布置在容器內(nèi)的線圈中感應(yīng)更大的電壓。渦電流由另一磁場(chǎng)包圍。通過確定第二和第三線圈之間的電壓差,可以確認(rèn)容器中介質(zhì)的電導(dǎo)率。在有利實(shí)施例中,第二和第三線圈以相反方向纏繞。因?yàn)闉榱舜_定導(dǎo)電性,在第二和第三線圈中感應(yīng)的電壓之間的差是決定性的,且第二和第三線圈的相反繞組感應(yīng)具有不同符號(hào)的電壓,所以僅需要將兩個(gè)電壓相加以獲得電壓差。在電路方面,這實(shí)現(xiàn)起來相對(duì)簡(jiǎn)單,且因此被認(rèn)為是有利的。而且,因此抑制了與第二和第三線圈中的信號(hào)等大的第一線圈的信號(hào),使得僅測(cè)量電壓差。這關(guān)于電路同樣是有利的,因?yàn)橥ǔ5谝痪€圈的信號(hào)比差信號(hào)要大得多。在優(yōu)選實(shí)施例中,第二和第三線圈彼此電互連。在這種情形下,并聯(lián)電路以及串聯(lián)電路兩者都是選擇。從電觀點(diǎn)來看,第二和第三線圈隨后實(shí)際上形成單一電路;然而,物理上,第二和第三線圈仍由兩個(gè)分離的繞組段組成。通過該實(shí)施例促進(jìn)了電壓差的確認(rèn),且最小化了隨后的電路復(fù)雜性。在優(yōu)選實(shí)施例形式中,設(shè)置了保護(hù)層或保護(hù)系統(tǒng),該保護(hù)層或保護(hù)系統(tǒng)被實(shí)現(xiàn)以使得針對(duì)待檢測(cè)的介質(zhì)保護(hù)第一、第二和第三線圈。因?yàn)榻橘|(zhì)通常是化學(xué)和/或生物侵蝕性的,所以必須針對(duì)介質(zhì)保護(hù)線圈,以使得梯度計(jì)能夠經(jīng)久地操作。 在進(jìn)一步有利的發(fā)展中,保持裝置布置在容器壁的不導(dǎo)電區(qū)域中。因此,可以例如借助于凸緣而將梯度計(jì)安裝在容器中,并且凸緣的不導(dǎo)電部分是其密封部。通過將梯度計(jì)安裝在不導(dǎo)電部分中,防止了容器壁中不期望的渦電流,渦電流將遞送擾動(dòng)信號(hào)。在不導(dǎo)電部分中,不產(chǎn)生渦電流,且測(cè)量由此更精確且更可重復(fù)。本發(fā)明的梯度計(jì)由此特別適合于金屬容器。在有利實(shí)施例中,保持裝置布置為其主軸線垂直于容器壁。因此,可以理想地確保第二和第三線圈具有與第一線圈相同的分離(在幅值和角度上)并且確保給出理想的測(cè)量條件。在有用的實(shí)施例形式中,保持裝置由具有大于I的相對(duì)磁導(dǎo)率的材料組成。在該實(shí)施例形式中,將磁場(chǎng)線理想地引入保持裝置。在優(yōu)選實(shí)施例中,設(shè)置有調(diào)節(jié)系統(tǒng),該調(diào)節(jié)系統(tǒng)被實(shí)現(xiàn)成使得在容器內(nèi)部和外部的介質(zhì)相同的情形下在第二和第三線圈中感應(yīng)的電壓至少在幅值上相等。如果例如因?yàn)榻Y(jié)構(gòu)原因,出現(xiàn)了第一線圈沒有確切地關(guān)于第二和第三線圈中心地定位的情形,則即使是在容器內(nèi)部和外部的介質(zhì)相同的情形下,在第二和第三線圈中感應(yīng)電壓差。因此,也可能不能實(shí)現(xiàn)待測(cè)量介質(zhì)的導(dǎo)電性的正確確定。經(jīng)由安裝調(diào)節(jié)系統(tǒng)也可以解釋該情況,并且可以在所描述狀態(tài)中實(shí)現(xiàn)OV的電壓差。在這種情形下,在有利的實(shí)施例形式中,作為調(diào)節(jié)系統(tǒng),在保持裝置背離容器中的介質(zhì)的端部上設(shè)置了開口,其中該開口被實(shí)現(xiàn)以使得在其中容納具有大于I的相對(duì)磁導(dǎo)率的芯部,并且其中芯部進(jìn)入開口中的插入深度改變第一和第二線圈和/或第一和第三線圈之間的耦合因子。在替代的實(shí)施例形式中,調(diào)節(jié)系統(tǒng)以至少一個(gè)上級(jí)單元的形式實(shí)現(xiàn)。上級(jí)單元的一部分可以例如是執(zhí)行調(diào)節(jié)的微控制器。
此外,上級(jí)單元被實(shí)現(xiàn)成使得其通過第一線圈產(chǎn)生開環(huán)控制和/或閉環(huán)控制電流——特別是交流電流,和/或確認(rèn)和/或進(jìn)一步處理在第二和第三線圈中感應(yīng)的電壓。這也可在單個(gè)芯片上實(shí)現(xiàn)。


現(xiàn)將基于附圖更詳細(xì)地解釋本發(fā)明,其中圖I是穿過具有梯度計(jì)的容器的橫截面視圖,圖2是穿過具有梯度計(jì)的橫截面視圖且示出了用于線圈的替代的保護(hù),以及圖3是穿過具有以實(shí)施例的第二形式的梯度計(jì)的容器的橫截面視圖。在附圖中,對(duì)相同的特征提供有相同的附圖標(biāo)記。
具體實(shí)施例方式圖I示出了穿過包含待測(cè)量的液體介質(zhì)2的容器8的橫截面視圖。通常為空氣的介質(zhì)14位于容器8的外部。梯度計(jì)在總體上具有附圖標(biāo)記13。容器8由容器壁I形成,容器壁I通常由例如鋁的金屬或例如鋼的金屬合金組成。實(shí)施例的其它形式由非金屬材料構(gòu)成,例如,由諸如聚醚醚酮(PEEK)或聚苯砜(PPSU)的耐受性合成材料構(gòu)成。梯度計(jì)13布置在容器壁I中的容器開口 9中。例如,梯度計(jì)13通過螺紋、粘合劑或互鎖而與容器8連接。在梯度計(jì)13經(jīng)由具有凸緣布置的管狀噴嘴而與容器8連接的情形下的實(shí)施例的形式也是可實(shí)施的。梯度計(jì)13也可為例如可撤回組件的組件的一部分。梯度計(jì)13布置在容器壁I的不導(dǎo)電區(qū)域3中。不導(dǎo)電區(qū)域3例如可以為過程連接或凸緣的一部分并且可以由PEEK制造。不導(dǎo)電區(qū)域3還可以為密封環(huán)并且可以由FKM或EPDM制造。梯度計(jì)13包括保持裝置4,保持裝置4由不導(dǎo)電材料制成,例如由諸如PEEK或PPSU的合成材料制成。具有例如由鐵素體制成的金屬材料的實(shí)施例形式也是可實(shí)施的。保持裝置4特別可以是由具有大于I的相對(duì)磁導(dǎo)率的材料制造。保持裝置4通常具有圓柱形狀;但是,其他實(shí)施例是可能的。通常,保持裝置4沿其整個(gè)長(zhǎng)度是直徑相同的。保持裝置4還可以實(shí)現(xiàn)為暗銷、插塞、螺栓、心軸、網(wǎng)等。三個(gè)線圈纏繞在保持裝置4上。在該情形下,第二和第三線圈6、7關(guān)于第一線圈5鏡像對(duì)稱地布置,即該梯度計(jì)為所謂的二階梯度計(jì)。線圈由例如線、漆包線或絞線或編織線的電流導(dǎo)體組成。通常,使用漆包銅線。線圈5、6、7具有至少一個(gè)繞組或匝。關(guān)于繞組或匝的數(shù)量、繞組間隔和繞組層的數(shù)量,第二和第三線圈6、7通常具有相同的特性。而且,第二和第三線圈6、7在相反方向上纏繞并彼此串聯(lián)地互連,其中并聯(lián)地連接也是可能的,或者甚至沒有連接。線圈5、6、7不接觸介質(zhì)。因此,可以例如將線圈5、6、7嵌入保持裝置4中或者通過保護(hù)層16而針對(duì)介質(zhì)2被保護(hù)。保護(hù)層可為耐受性漆、樹脂等。圖2示出了替代的實(shí)施例形式,在該情形下,用于線圈5、6、7的保護(hù)由保護(hù)系統(tǒng)17組成??梢詫⒈Wo(hù)系統(tǒng)17實(shí)現(xiàn)為例如一端打開的保護(hù)柱或管。在該情形下,保護(hù)系統(tǒng)17的材料必須耐受介質(zhì)2并且例如為PEEK或PPSU。理想地,該材料為不導(dǎo)電的。第一線圈5被布置以使得其中心地定位在容器壁I。通常,保持裝置4垂直于容器壁I安裝;但是,其他安裝角度也是可設(shè)想的。由于第二和第三線圈6、7關(guān)于第一線圈5的鏡像對(duì)稱,第二和第三線圈6、7定位成在容器8的(第二線圈6)內(nèi)部或(第三線圈7)外 部與第一線圈5相等地間隔開。線圈5、6、7與上級(jí)單元10連接。上級(jí)單元10產(chǎn)生、控制和/或調(diào)節(jié)電流,特別是交流電流,其通常被發(fā)送通過第一線圈5。這樣,在第一線圈5中出現(xiàn)磁場(chǎng)。在該情形下,上級(jí)單元10例如為用于產(chǎn)生并測(cè)量電流的電路,并且也包括連接的微控制器。上級(jí)單元的諸如例如微控制器、電流發(fā)生器和電流計(jì)的各個(gè)部件可以僅由一個(gè)部件組成。電磁波經(jīng)由保持裝置4以及也經(jīng)由容器8的內(nèi)部和外部的介質(zhì)2、14兩者耦合。根據(jù)法拉第感應(yīng)定律,然后在第二和第三線圈6、7中感應(yīng)電壓,且電流在線圈中流動(dòng)。由于容器8的內(nèi)部和外部的介質(zhì)2、14的不同的電特性,與對(duì)于第三線圈7的情形相比,在第二線圈6中感應(yīng)不同的電壓、相應(yīng)地不同的電流。通常,在第三線圈7、即容器8內(nèi)的線圈中感應(yīng)更多的電壓。在第二和第三線圈6、7中感應(yīng)的電壓進(jìn)一步在上級(jí)單元10中處理,可能彼此相減。通過響應(yīng)于第一線圈5的信號(hào)來評(píng)估第二和第三線圈6、7的電流或電壓信號(hào),隨后可以確認(rèn)介質(zhì)2的電導(dǎo)率。如果介質(zhì)2和位于容器8外部的介質(zhì)14擁有相同的電特性,在電壓相減的情形下,當(dāng)?shù)诙偷谌€圈6、7相反地纏繞并具有相同的特征,諸如相同的直徑、繞組數(shù)目、繞組間隔和繞組層的數(shù)目時(shí),得到OV值。第二和第三線圈6、7也可以彼此電互連。因而,串聯(lián)或并聯(lián)連接是可能的。第二和第三線圈6、7可由單件電流導(dǎo)體制成。線圈然后串聯(lián)連接,但是形成兩個(gè)物理分離的繞組段。第二和第三線圈6、7也相反地纏繞。這樣,因?yàn)楦袘?yīng)了不同符號(hào)的電壓,省略了可能的相減,且可以用小的電路復(fù)雜性來將電壓相加。圖3示出了梯度計(jì)13的另一實(shí)施例。如上面提到的,第一線圈5理想地確切地中心地定位在容器壁I中。在容器8內(nèi)部和外部的介質(zhì)2、14相同且第二和第三線圈6、7的特征相同的情形下,于是在第二和第三線圈6、7中感應(yīng)相同的電壓。然而,如果第一線圈5沒有確切地中心地定位在容器壁I中或者第二和第三線圈6、7定位在離第一線圈5不同的距離處,則產(chǎn)生不同的感應(yīng)電壓,且電壓差不等于0V。然而,因?yàn)檫@是成功地確定待測(cè)量的介質(zhì)的導(dǎo)電性的先決條件,所以必須進(jìn)行調(diào)節(jié)。
例如,這可以經(jīng)由上級(jí)單元10中相應(yīng)的補(bǔ)償來進(jìn)行。如圖3所示,梯度計(jì)13還可以設(shè)置有調(diào)節(jié)系統(tǒng)11。在該情形下,保持裝置4’例如實(shí)現(xiàn)為一端封閉的中空柱,且通??梢跃哂信c保持裝置4相同的性能。通過背離介質(zhì)2的開口 15,可以將芯部12引入保持裝置4’的內(nèi)部,其中保持裝置4’的主軸線A與芯部12的主軸線一致。芯部12可以由相對(duì)磁導(dǎo)率大于I的材料制成。示例包括鐵素體。第一和第二線圈5、6之間或者第一和第三線圈5、7之間的耦合因子根據(jù)芯部12進(jìn)入保持裝置4’內(nèi)的插入深度而改變。因此,可以調(diào)節(jié)梯度計(jì)13,使得盡管第一線圈5非理想地定位在容器壁I中,但是在容器8內(nèi)部和外部的介質(zhì)2、14相同的情形下在第二和第三線圈6、7中感應(yīng)的電壓至少就幅值而言是相等的,且得到OV的電壓差。在調(diào)節(jié)之后,梯度計(jì)可以在生產(chǎn)使用中用于確定介質(zhì)2的導(dǎo)電性。附圖標(biāo)記列表
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I 容器壁2 介質(zhì)3 I的不導(dǎo)電區(qū)域4 保持裝置4’ 改型的保持裝置5 第一線圈6 第二線圈7 第三線圈8 容器9 容器開口10 上級(jí)單元11 調(diào)節(jié)系統(tǒng)12 芯部13 梯度計(jì)14 8外部的介質(zhì)15 4’ 的開口16 保護(hù)層17 保護(hù)系統(tǒng)A 4、4’分別的主軸線
權(quán)利要求
1.一種用于確定容納在容器(8)中的介質(zhì)(2)的電導(dǎo)率的梯度計(jì)(13),包括 至少第一電線圈、第二電線圈和第三電線圈(5、6、7),其中所述第一線圈(5)被實(shí)現(xiàn)為發(fā)射線圈,其中所述第二和第三線圈(6、7)被實(shí)現(xiàn)為接收線圈, 保持裝置(4), 其中所述第一、第二和第三線圈(5、6、7)纏繞在所述保持裝置(4)上, 其中所述保持裝置(4)被布置為穿過容器壁(I)中的容器開口(9),使得所述第一線圈(5 )關(guān)于所述容器壁(I)中心地定位, 其中所述第二和第三線圈(6、7)被布置為關(guān)于所述第一線圈(5)鏡像對(duì)稱并且與所述第一線圈(5)感應(yīng)地耦合。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的梯度計(jì)(13),其中所述第二和第三線圈(6、7)以相反方向纏繞。
3.根據(jù)權(quán)利要求I或2所述的梯度計(jì)(13),其中所述第二和第三線圈(6、7)彼此電互連。
4.根據(jù)權(quán)利要求1-3中的一項(xiàng)所述的梯度計(jì)(13),其中設(shè)置了保護(hù)層(16)或保護(hù)系統(tǒng)(17),所述保護(hù)層(16)或保護(hù)系統(tǒng)(17)被實(shí)現(xiàn)以使得針對(duì)所述介質(zhì)(2)保護(hù)所述第一、第二和第三線圈(5、6、7)。
5.根據(jù)權(quán)利要求1-4中的一項(xiàng)所述的梯度計(jì)(13),其中所述保持裝置(4)布置在所述容器壁(I)的不導(dǎo)電區(qū)域(3)中。
6.根據(jù)權(quán)利要求1-5中的一項(xiàng)所述的梯度計(jì)(13),其中所述保持裝置(4)布置為其主軸線(A)垂直于所述容器壁(I )。
7.根據(jù)權(quán)利要求1-6中的一項(xiàng)所述的梯度計(jì)(13),其中所述保持裝置(4)由具有大于I的相對(duì)磁導(dǎo)率的材料組成。
8.根據(jù)權(quán)利要求1-7中的一項(xiàng)所述的梯度計(jì)(13),其中設(shè)置有調(diào)節(jié)系統(tǒng)(11),所述調(diào)節(jié)系統(tǒng)(11)被實(shí)現(xiàn)成使得在所述容器內(nèi)部和外部的介質(zhì)(2、14)相同的情形下在所述第二和第三線圈(6、7)中感應(yīng)的電壓至少在幅值上相等。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的梯度計(jì)(13),其中,作為調(diào)節(jié)系統(tǒng)(11),在所述保持裝置(4)背離所述介質(zhì)(2)的端部上設(shè)置開口(15),其中所述開口被實(shí)現(xiàn)成使得在其中容納具有大于I的相對(duì)磁導(dǎo)率的芯部(12),并且 其中,所述芯部(12)進(jìn)入所述開口(15)內(nèi)的插入深度改變所述第一和第二線圈(5、6)和/或所述第一和第三線圈(5、7)之間的耦合因子。
10.根據(jù)權(quán)利要求8所述的梯度計(jì)(13),其中所述調(diào)節(jié)系統(tǒng)(11)以至少一個(gè)上級(jí)單元(10)的形式實(shí)現(xiàn)并且執(zhí)行在所述第二和第三線圈(6、7)中感應(yīng)的電壓的調(diào)節(jié)。
11.根據(jù)權(quán)利要求1-10中的一項(xiàng)所述的梯度計(jì)(13),其中設(shè)置有至少一個(gè)上級(jí)單元(10),所述上級(jí)單元(10)被實(shí)現(xiàn)以使得所述上級(jí)單元(10)通過所述第一線圈(5)產(chǎn)生開環(huán)控制和/或閉環(huán)控制電流——特別是交流電流,和/或 確認(rèn)和/或進(jìn)一步處理在所述第二和第三線圈(6、7)中感應(yīng)的電壓。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種用于確定容納在容器(8)中的介質(zhì)(2)的電導(dǎo)率的梯度計(jì)(13),包括至少第一電線圈、第二電線圈和第三電線圈(5、6、7),其中第一線圈(5)實(shí)現(xiàn)為發(fā)射線圈,其中第二和第三線圈(6、7)實(shí)現(xiàn)為接收線圈;保持裝置(4),其中第一、第二和第三線圈(5、6、7)纏繞在保持裝置(4)上,其中保持裝置(4)被布置成穿過容器壁(1)中的容器開口(9)以使得第一線圈(5)關(guān)于容器壁(1)中心地定位,其中第二和第三線圈(6、7)被布置成關(guān)于第一線圈(5)鏡像對(duì)稱并且與第一線圈(5)感應(yīng)地耦合。
文檔編號(hào)G01R27/22GK102890197SQ20121025263
公開日2013年1月23日 申請(qǐng)日期2012年7月20日 優(yōu)先權(quán)日2011年7月21日
發(fā)明者埃里克·賴默爾, 馬可·弗爾克 申請(qǐng)人:恩德萊斯和豪瑟爾測(cè)量及調(diào)節(jié)技術(shù)分析儀表兩合公司
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