專利名稱：目標(biāo)雷達(dá)散射截面測量與定標(biāo)處理的方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及雷達(dá)信號(hào)處理技術(shù)，尤其涉及一種目標(biāo)雷達(dá)散射截面(Radar CrossSection，簡稱RCS)測量與定標(biāo)處理的方法。
背景技術(shù)：
RCS測量技術(shù)是研究目標(biāo)雷達(dá)散射特性的重要手段之一。RCS可根據(jù)定標(biāo)體的精確RCS值、不同距離條件下的定標(biāo)常數(shù)和雷達(dá) 目標(biāo)與定標(biāo)體的回波信號(hào)來確定。目前，在測量雷達(dá)目標(biāo)與定標(biāo)體的回波信號(hào)時(shí)，通常需要采用金屬支架支撐雷達(dá)目標(biāo)與定標(biāo)體?，F(xiàn)有技術(shù)中，RCS測量的步驟為安放測定標(biāo)體支架，測量此時(shí)的測試場背景回
波Be(f);安裝定標(biāo)體，測量定標(biāo)體回波Se(f);安放目標(biāo)支架，測量此時(shí)的測試場背景回波
Bt (f);安裝目標(biāo)，測量目標(biāo)回波^⑴;并根據(jù)公式(8)計(jì)算目標(biāo)RCSoT(f)
權(quán)利要求
1.一種目標(biāo)雷達(dá)散射截面測量與定標(biāo)處理的方法，其特征在于，包括在時(shí)亥Ij，測量獲取安裝定標(biāo)體支架后的測試場背景回波STC(f，ti)，Sbc (f, t1)=Hc(f, ti) · Bc(^t1)；在t2時(shí)刻，測量獲取安裝定標(biāo)體后的定標(biāo)體回波Sjf，t2)；在t3時(shí)亥lj，測量獲取安裝目標(biāo)支架后的測試場背景回波Sbt (f，t3)，Sbt (f, t3) =Ht (f, t3) · Bt (f, t3)；在t4時(shí)刻，測量獲取安裝目標(biāo)后的目標(biāo)回波St (f，t4)；采用公式(I)進(jìn)行RCS定標(biāo)處理
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述采用公式(I)進(jìn)行RCS定標(biāo)誤差分析，具體為采用公式(2)、(3)、(4)進(jìn)行RCS定標(biāo)處理
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法，其特征在于，所述Ht(f，t)采用公式(5)確定
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的方法，其特征在于，所述采用公式(2)、(3)、(4)進(jìn)行RCS定標(biāo)不確定度分析，進(jìn)而找到減小不確定度的有效方法。具體為采用公式(7)進(jìn)行RCS定標(biāo)處理
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的方法，其特征在于，若目標(biāo)和定標(biāo)體在同一支架上，則所述H0(f)=l ；若目標(biāo)和定標(biāo)體不在同一支架上，則仏(/) - A；-exp[-/^A/i]；C所述K。為定標(biāo)常數(shù)。
全文摘要
本發(fā)明提供一種目標(biāo)雷達(dá)散射截面測量與定標(biāo)處理的方法，包括在t1時(shí)刻，測量獲取安裝定標(biāo)體支架后的測試場背景回波SBC(f,t1)，SBC(f,t)=HC(f,t1).BC(f,t1)；在t2時(shí)刻，測量獲取安裝定標(biāo)體后的定標(biāo)體回波SC(f,t2)；在t2時(shí)刻，測量獲取安裝定標(biāo)體后的定標(biāo)體回波SC(f,t2)；在t3時(shí)刻，測量獲取安裝目標(biāo)支架后的測試場背景回波SBT(f,t3)，SBT(f,t3)=HT(f,t3).BT(f,t3)；在t4時(shí)刻，測量獲取安裝目標(biāo)后的目標(biāo)回波ST(f,t4)；采用公式(1)進(jìn)行定標(biāo)處理。本發(fā)明可以解決外場測試中諸多時(shí)變因素導(dǎo)致的測量定標(biāo)誤差大的問題。
文檔編號(hào)G01S7/41GK102998665SQ201210484279
公開日2013年3月27日 申請(qǐng)日期2012年11月23日 優(yōu)先權(quán)日2012年11月23日
發(fā)明者許小劍 申請(qǐng)人:北京航空航天大學(xué)