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斷層掃描量測(cè)系統(tǒng)的校正方法及校正設(shè)備的制作方法

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斷層掃描量測(cè)系統(tǒng)的校正方法及校正設(shè)備的制作方法
【專(zhuān)利摘要】一種斷層掃描量測(cè)系統(tǒng)的校正方法,包括以下步驟:第一步:提供一量測(cè)系統(tǒng),所述量測(cè)系統(tǒng)為CT或AXI量測(cè)系統(tǒng);第二步:提供一金屬的圓臺(tái),所述圓臺(tái)的上端面直徑d、下端面直徑D及圓臺(tái)的高度H為已知;第三步:利用CT或AXI量測(cè)系統(tǒng)通過(guò)斷層掃描測(cè)出所述圓臺(tái)其它部位截圓的直徑d’;第四步:根據(jù)圓臺(tái)的直徑與高度呈線性的比例關(guān)系,所述量測(cè)系統(tǒng)設(shè)定有∮d’=(∮D+∮d)×h/H的計(jì)算程序,通過(guò)所述程序計(jì)算出截圓直徑為d’處所對(duì)應(yīng)的高度h;第五步:進(jìn)一步掃描出多處截圓直徑,并計(jì)算出該等截圓處對(duì)應(yīng)的圓臺(tái)的高度,確認(rèn)所述斷層掃描量測(cè)系統(tǒng)的線性值。藉此,使得斷層掃描量測(cè)系統(tǒng)的量取精度更精準(zhǔn)。
【專(zhuān)利說(shuō)明】斷層掃描量測(cè)系統(tǒng)的校正方法及校正設(shè)備
[0001]【【技術(shù)領(lǐng)域】】
本發(fā)明涉及一種斷層掃描量測(cè)系統(tǒng)的校正方法,尤其涉及一種利用一治具之?dāng)鄬訏呙柘到y(tǒng)的校正方法及設(shè)備。
[0002]【【背景技術(shù)】】
目前針對(duì)斷層掃描量測(cè)系統(tǒng),如CT (X光計(jì)算機(jī)斷層掃描)或AXI (X光自動(dòng)檢測(cè)系統(tǒng))業(yè)界沒(méi)有很好的校正所述設(shè)備的方法,如此會(huì)導(dǎo)致需要量測(cè)的物品存在大誤差。
[0003]因此,確有必要提出一種能精準(zhǔn)校正斷層掃描量測(cè)系統(tǒng)的方法以克服上述困難。
[0004]【
【發(fā)明內(nèi)容】

本發(fā)明的目的在于提供一種利用金屬的圓臺(tái)之直徑與高度呈線性比例的關(guān)系來(lái)校正斷層掃描量測(cè)系統(tǒng)的方法。
[0005]為解決上述技術(shù)問(wèn)題,本發(fā)明的目的是通過(guò)以下技術(shù)方案實(shí)現(xiàn)的:一種斷層掃描量測(cè)系統(tǒng)的校正方法,包括以下步驟:第一步:提供一量測(cè)系統(tǒng),所述量測(cè)系統(tǒng)為CT或AXI量測(cè)系統(tǒng);第二步:提供一金屬的圓臺(tái),所述圓臺(tái)的上端面直徑d、下端面直徑D及圓臺(tái)的高度H為已知;第三步:利用CT或AXI量測(cè)系統(tǒng)通過(guò)斷層掃描測(cè)出所述圓臺(tái)其它部位截圓的直徑d’ ;第四步:根據(jù)圓臺(tái)的直徑與高度呈線性的比例關(guān)系,所述量測(cè)系統(tǒng)設(shè)定有# d’ =(∮D+ ∮ d) Xh/H的計(jì)算程序,通過(guò)所述程序計(jì)算出截圓直徑為d’處所對(duì)應(yīng)的高度h ;第五步:進(jìn)一步掃描出多處截圓直徑,并計(jì)算出該等截圓處對(duì)應(yīng)的圓臺(tái)的高度,確認(rèn)所述斷層掃描量測(cè)系統(tǒng)的線性值。
[0006]為解決上述技術(shù)問(wèn)題,本發(fā)明的目的是通過(guò)以下技術(shù)方案實(shí)現(xiàn)的:一種校正設(shè)備,所述校正設(shè)備包括:斷層掃描量測(cè)系統(tǒng)及金屬的圓臺(tái),所述圓臺(tái)的上端面直徑為d、下端面直徑為D、高度為H,所述圓臺(tái)用于校正斷層掃描量測(cè)系統(tǒng),斷層掃描量測(cè)系統(tǒng)掃描圓臺(tái)上端面與下端面之間的截圓直徑d’,利用圓臺(tái)的直徑與高度呈線性的比例關(guān)系,所述斷層掃描量測(cè)系統(tǒng)通過(guò)設(shè)置∮ d’ = (∮ D+ ∮d) Xh/H的線性計(jì)算程序確認(rèn)該斷層掃描量測(cè)系統(tǒng)的線性值。
[0007]與現(xiàn)有技術(shù)相比,本發(fā)明具有以下有益效果:利用金屬的圓臺(tái)的直徑和高度呈線性的比例關(guān)系,通過(guò)對(duì)所述圓臺(tái)多組截圓直徑的掃描并計(jì)算每組截圓對(duì)應(yīng)的高度,計(jì)算出所述斷層掃描量測(cè)系統(tǒng)的線性值,通過(guò)確定系統(tǒng)的線性值,使得斷層掃描量測(cè)系統(tǒng)的量取精度更精準(zhǔn)。
[0008]【【專(zhuān)利附圖】

【附圖說(shuō)明】】
圖1為本發(fā)明圓臺(tái)的正視圖。
[0009]圖2為本發(fā)明圓臺(tái)的俯視圖。
[0010]【【具體實(shí)施方式】】
本發(fā)明斷層掃描量測(cè)系統(tǒng)的校正方法所需設(shè)備包括,一斷層掃描量測(cè)系統(tǒng)(未圖示),所述斷層掃描量測(cè)系統(tǒng)為CT或者AXI量測(cè)系統(tǒng);一校正治具,參閱圖1,所述校正治具為一金屬的圓臺(tái)(100),所述圓臺(tái)(100)在豎直方向的截面形狀為等腰梯形。
[0011 ] 參閱圖1并結(jié)合圖2所示,所述斷層掃描量測(cè)系統(tǒng)的校正方法包括以下步驟:第一步,提供一量測(cè)系統(tǒng)(CT或AXI量測(cè)系統(tǒng));第二步,提供一金屬的圓臺(tái)(100),所述圓臺(tái)具有上端面及下端面,其中上端面直徑d、下端面直徑D及圓臺(tái)的總的高度H為已知;第三步,利用CT或AXI量測(cè)系統(tǒng)通過(guò)斷層掃描測(cè)出所述圓臺(tái)其它部位的直徑,即圓臺(tái)(100)上端面與下端面之間的截圓直徑,如圖1標(biāo)示出來(lái)的截圓直徑d’;根據(jù)圓臺(tái)(100)的直徑與高度呈線性的比例關(guān)系的特性,針對(duì)所述量測(cè)系統(tǒng)設(shè)定出# d’ = (# D+ # d) Xh/H的計(jì)算程序,通過(guò)所述程序計(jì)算出上述截圓直徑為d’處所對(duì)應(yīng)的高度h ;第五步,進(jìn)一步掃描出多處截圓直徑,并計(jì)算出該等截圓處對(duì)應(yīng)的高度,確認(rèn)所述斷層掃描量測(cè)系統(tǒng)的線性值。所述斷層掃描量測(cè)系統(tǒng)還設(shè)定有一線性值計(jì)算程序,量測(cè)系統(tǒng)通過(guò)把各處截圓的直徑及計(jì)算得出的該處截圓對(duì)應(yīng)的高度值返饋給線性值計(jì)算程序,從而計(jì)算出線性值,藉此,達(dá)到校正斷層掃描量測(cè)系統(tǒng)的目的。
[0012]為了使得所述斷層掃描量測(cè)系統(tǒng)能夠精確掃描,首先需要對(duì)所述金屬的圓臺(tái)(100)進(jìn)行對(duì)焦以確定該圓臺(tái)的實(shí)際尺寸與系統(tǒng)呈像的大小一致,為了精確的調(diào)節(jié)好焦距,所述圓臺(tái)(100)的中心處設(shè)置有貫穿上端面及下端面的貫穿孔,所述貫穿孔的直徑為dl,本創(chuàng)作中,所述貫穿孔的直徑dl設(shè)置之間,由于設(shè)置了貫穿孔,圓臺(tái)(100)在呈像時(shí),所述貫穿孔處與其它部位所呈像存在明顯的色差,如此,通過(guò)貫穿孔的尺寸,可以迅速的校準(zhǔn)圓臺(tái)的尺寸,為后續(xù)的斷層掃描的精確奠定基礎(chǔ)。
[0013]本發(fā)明的校正治具金屬的圓臺(tái)(100)設(shè)置為不銹鋼材質(zhì),因?yàn)椴讳P鋼在斷層掃描的時(shí)候可以保證清晰地呈像。本創(chuàng)作主要特征在于設(shè)置一金屬的圓臺(tái),斷層掃描系統(tǒng)利用所述圓臺(tái)的線性比例關(guān)系,斷層掃描系統(tǒng)設(shè)置相應(yīng)的程序,通過(guò)掃描圓臺(tái)計(jì)算系統(tǒng)的線性值,操作步驟可以適當(dāng)調(diào)整,同時(shí),治具可以設(shè)置為其它具有線性關(guān)系的幾何形狀,然而熟悉本領(lǐng)域的技術(shù)人員仍可能基于本發(fā)明的教示及揭示進(jìn)行種種不背離本發(fā)明精神的替換和修飾。因此,本發(fā)明的保護(hù)范圍應(yīng)不僅限于實(shí)施方式所揭示的內(nèi)容,而包括各種不背離本發(fā)明的替換和修飾,均為本專(zhuān)利申請(qǐng)權(quán)利要求所涵蓋。
【權(quán)利要求】
1.一種斷層掃描量測(cè)系統(tǒng)的校正方法,包括以下步驟: (1)提供一量測(cè)系統(tǒng),所述量測(cè)系統(tǒng)為CT或AXI量測(cè)系統(tǒng); (2)提供一金屬的圓臺(tái),所述圓臺(tái)的上端面直徑d、下端面直徑D及圓臺(tái)的高度H為已知; (3)利用CT或AXI量測(cè)系統(tǒng)通過(guò)斷層掃描測(cè)出所述圓臺(tái)其它部位截圓的直徑d’; (4)根據(jù)圓臺(tái)的直徑與高度呈線性的比例關(guān)系,所述量測(cè)系統(tǒng)設(shè)定有fd’ =(# D+ ^ d) Xh/H的計(jì)算程序,通過(guò)所述程序計(jì)算出截圓直徑為d’處所對(duì)應(yīng)的高度h ; (5)進(jìn)一步掃描出多處截圓直徑,并計(jì)算出該等截圓處對(duì)應(yīng)的圓臺(tái)的高度,確認(rèn)所述斷層掃描量測(cè)系統(tǒng)的線性值。
2.如權(quán)利要求1所述之?dāng)鄬訏呙枇繙y(cè)系統(tǒng)的校正方法,其特征在于:所述圓臺(tái)的中心設(shè)置有貫穿上端面及下端面的用于調(diào)節(jié)焦距的貫穿孔。
3.如權(quán)利要求2所述之?dāng)鄬訏呙枇繙y(cè)系統(tǒng)的校正方法,其特征在于:所述貫穿孔的直徑設(shè)置為之間。
4.如權(quán)利要求1所述之?dāng)鄬訏呙枇繙y(cè)系統(tǒng)的校正方法,其特征在于:所述所述金屬的圓臺(tái)為不銹鋼材質(zhì)。
5.如權(quán)利要求1所述之?dāng)鄬訏呙枇繙y(cè)系統(tǒng)的校正方法,其特征在于:所述斷層掃描系統(tǒng)還設(shè)有一套線性值的計(jì)算程序,通過(guò)把各處截圓的直徑及計(jì)算得出的該處截圓對(duì)應(yīng)的高度值返饋給線性值計(jì)算程序,從而計(jì)算出線性值。
6.如權(quán)利要求1所述 之?dāng)鄬訏呙枇繙y(cè)系統(tǒng)的校正方法,其特征在于:所述圓臺(tái)在豎直方向的截面形狀為等腰梯形。
7.一種校正設(shè)備,所述校正設(shè)備包括:斷層掃描量測(cè)系統(tǒng)及金屬的圓臺(tái),所述圓臺(tái)的上端面直徑為d、下端面直徑為D、高度為H,其特征在于:所述圓臺(tái)用于校正斷層掃描量測(cè)系統(tǒng),斷層掃描量測(cè)系統(tǒng)掃描圓臺(tái)上端面與下端面之間的截圓直徑d’,利用圓臺(tái)的直徑與高度呈線性的比例關(guān)系,所述斷層掃描量測(cè)系統(tǒng)通過(guò)設(shè)置# d’= (# D+ ^ d)Xh/H的線性計(jì)算程序確認(rèn)該斷層掃描量測(cè)系統(tǒng)的線性值。
8.如權(quán)利要求7所述之校正設(shè)備,其特征在于:所述圓臺(tái)的中心設(shè)置有貫穿上端面及下端面的用于調(diào)節(jié)焦距的貫穿孔。
9.如權(quán)利要求7所述之校正設(shè)備,其特征在于:所述斷層掃描系統(tǒng)設(shè)有一套線性值的計(jì)算程序,通過(guò)把各處截圓的直徑及計(jì)算得出的該處截圓對(duì)應(yīng)的高度值返饋給線性值計(jì)算程序,從而計(jì)算出線性值。
10.如權(quán)利要求7所述之校正設(shè)備,其特征在于:所述圓臺(tái)在豎直方向的截面形狀為等腰梯形。
【文檔編號(hào)】G01B11/08GK103868452SQ201210538226
【公開(kāi)日】2014年6月18日 申請(qǐng)日期:2012年12月13日 優(yōu)先權(quán)日:2012年12月13日
【發(fā)明者】林世長(zhǎng), 劉旭智, 王裕民 申請(qǐng)人:富士康(昆山)電腦接插件有限公司, 鴻海精密工業(yè)股份有限公司
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