具有多個線圈的磁流量計的制作方法
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種用于測量過程流體的流量的磁流量計，所述磁流量計包括布置成接收過程流體流的流管。第一線圈、第二線圈和第三線圈鄰近流管布置。第一電極和第二電極被布置成感測過程流體的與施加的磁場和過程流體的流量有關(guān)的電勢。感測的電勢用于計算通過流管的過程流體的流量。
【專利說明】具有多個線圈的磁流量計
[0001]同時待決的申請的交叉引用
[0002]在一個特定結(jié)構(gòu)中，采用四個線圈，例如如Steven B.Rogers和Joseph A.Smith同日提出申請且與本申請共同受讓的同時待決的申請第—號中所示，該申請的名稱為“INTEGRALLY MOLDED WAFER MAGMETER”。
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0003]本發(fā)明涉及用于感測和測量工業(yè)過程設(shè)備中的過程流體的流量的類型的流量計。更具體地，本發(fā)明涉及計進行的流量的測量。
【背景技術(shù)】
[0004]磁流量計通常用于測量通過電絕緣流管的導電過程流體的流量。根據(jù)法拉第電磁感應定律，當導電過程流體沿垂直方向移動通過磁場時，在流體中感生與過程流體的速度成比例的電壓?？梢酝ㄟ^由彎曲成多個緊密分隔開的環(huán)的導線制成的線圈產(chǎn)生磁場。一對電極接著用于測量由過程流體的運動感生的電壓。
[0005]可以通過移動電荷產(chǎn)生磁場。通常采用電流和磁性材料的磁作用的數(shù)學描述來說明磁場。任何給定點處的磁場都由具有方向和大小(強度)的矢量來表示。矢量的方向由電流流動通過線圈的方向來決定。磁場的強度和密度取決于電流的量以及線圈的面積和形狀。具體地，磁場的總強度隨著導線長度而增加。例如，當傳送電流的導線形成為環(huán)時，磁場聚集在環(huán)內(nèi)。當導線彎曲成多個環(huán)以形成線圈時，磁場變得更加集中。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0006]一種用于測量過程流體的流量的磁流量計包括布置成接收過程流體流的流管。首先，第二和第三線圈鄰近流管布置并被構(gòu)造成在過程流體中感生磁場。第一和第二電極被布置成感測過程流體的與施加的磁場和過程流體的流量相關(guān)的電勢。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0007]圖1是顯示包括磁流量計的過程控制系統(tǒng)的視圖；
[0008]圖2是圖1的磁流量計的部分立體剖視圖；
[0009]圖3是包括第一線圈、第二線圈、第三線圈和第四線圈的流量計的簡化橫截面圖；
[0010]圖4是顯示用于測量通過流管的導電過程流體的流量的流量計的一個實施例的方框圖；
[0011]圖5A-H是顯示流量計的線圈的通電的視圖；以及
[0012]圖6是顯示流量計的線圈驅(qū)動電路的方框圖。
【具體實施方式】
[0013]本發(fā)明涉及一種測量通過流管的過程流體的流量的磁流量計。在一個實施例中，本發(fā)明的磁流量計由于磁場的增加的密集度或密度而提供提高的精度和增加的靈敏度。在另一個實施例中，本發(fā)明提供增加的信-噪比，進而提高流量計的精度。在又一個實施例中，流量計提供流管的期望區(qū)域中的增加的場密度。這會造成增加的流量計的靈敏度。在另外的實施例中，本發(fā)明包括具有多于三個的線圈和/或多于兩個的電極的磁流量計。在又一個實施例中，本發(fā)明可用于檢測、測量和補償過程流體流的速度分布的不對稱性。
[0014]本發(fā)明的磁流量計包括布置成容納過程流體流的流管。另外，流量計包括鄰近流管布置的多個線圈。在一個優(yōu)選實施例中使用四個線圈?？刂破鞅粯?gòu)造成使用多個線圈將磁場施加到過程流體。第一和第二電極被布置成感測與所施加的磁場和過程流體的流量有關(guān)的過程流體的電勢。傳感器被構(gòu)造成從第一電極和第二電極接收電壓?？刂破鞅粯?gòu)造成根據(jù)第一電極與第二電極之間感測的電壓來計算過程流體的流量。
[0015]在圖1中，以附圖標記100顯示用于磁流量計102的典型環(huán)境。更具體地，圖1顯示連接到過程管道104的磁流量計102，所述過程管道還連接到控制閥112。在磁流量計中，受監(jiān)控的過程變量涉及通過流管108的過程流體的速度。磁流量計102可以被構(gòu)造成通過通信總線106將長距離傳輸?shù)妮敵鎏峁┑娇刂破骰蛑甘酒?。在典型的過程設(shè)備中，通信總線106可以為至例如系統(tǒng)控制器/監(jiān)控器110的控制器或其它裝置的4-20mA的過程控制電流回路、場總線連接、脈沖輸出/頻率輸出、HART?協(xié)議通信、諸如基于IEC62591標準的無線HART?通信協(xié)議的無線通信連接、以太網(wǎng)或光纖連接、或者其它通信信道。系統(tǒng)控制器110可以被編程作為過程監(jiān)測器以向操作員顯示流動信息，或者編程作為過程控制器以在通信總線106上使用控制閥112控制過程。
[0016]在圖2中顯示磁流量計102的立體剖視圖。流量計102包括連接到流管108的電子殼體120。要注意的是在圖2中，流量計102被顯示為“法蘭”流量計，而在圖1中，流量計102被顯示為“晶片(wafer) ”型流量計。如這些圖中所示，法蘭流量計包括其本身的用于連接到過程管道的法蘭。本發(fā)明可應用于任一種類型的結(jié)構(gòu)。根據(jù)一個實施例，流管108可以由低導磁率材料222A、222B、222C、222D形成且具有電絕緣襯管202、流管殼體302以及鄰近流管108布置的第一、第二、第三和第四電磁線圈。在一個示例中，使用模制流管，例如同時
待決的申請第_號中所示，該申請的名稱為"INTEGRALLY MOLDED WAFER MAGMETER"，
該申請由Steven B.Rogers和Joseph A.Smith與本申請在同一日申請且與本申請共同受讓。要注意的是在圖2中僅顯示線圈222A和222B。線圈222A-D用于在流動通過流管108的過程流體中產(chǎn)生磁場。流管108中的第一和第二電極224A、224B提供電動勢(EMF)傳感器，所述電動勢傳感器感測由于流動速度和施加的磁場210而在流體中產(chǎn)生的EMF (電壓)。(在圖2中僅可看見電極224B)。過程流體流動通過流管108中的磁場，并且該流動在流體中感生EMF。絕緣襯管202防止EMF從流體泄漏到金屬流管。電極224A、224B感測感生的電壓或EMF?？刂破?圖2中未示出)被構(gòu)造成根據(jù)法拉第定律基于在第一電極224A與第二電極224B之間感測的電壓計算過程流體的流量，其中該法拉第定律規(guī)定EMF或電壓與流管108中的流體200的流量和施加的磁場成比例。
[0017]圖3是流量計102的簡化橫截面圖并顯示流管殼體302中承載的流管108。在一個實施例中，第一線圈222A、第二線圈222B、第三線圈222C和第四線圈222D鄰近流管108定位并且繞著該流管的圓周均勻地分隔開。非導電流管襯管202內(nèi)襯于流管108中并運送過程流體200。流管108可以包括例如不銹鋼。鐵磁屏蔽件204優(yōu)選地布置用于繞著流管108的外周長傳導磁場。這有助于減少主要在流管外的磁返回路徑的磁阻。如圖3所示，第一線圈222A和第二線圈222D位于相對于電極224A、224B形成的水平電極軸線226的“上方”。類似地，線圈224B、224C位于軸線226的“下方”。通過將線圈222A-D放置在電極224A、224B的上方和下方，磁場可以聚集在電極附近，并且線圈導線的總數(shù)(重量)可以被減少而不會降低裝置的靈敏度。另外，當磁場聚集在電極附近時，生成的電壓信號由于通過相鄰金屬管的電短路很少會被減少。進而，該結(jié)構(gòu)允許使用具有較短長度的流管而不會降低流量計的靈敏度。磁場的密度的增加導致增加的信-噪比，從而提供更精確的流量測量值。
[0018]在圖3中，任選的第三電極224C和第四電極224D分別被顯示和形成垂直電極軸線227。在增加任選電極的情況下，任何一對電極224A、224B、224C、224D之間的電壓差可以被觀察到，并且用于增加流量測量值的精度并檢測流量分布的變化。如圖3中的示例性實施例所示，第一線圈222A布置在O度與90度之間，其中O度垂直于垂直電極軸線227，而90度與電極軸線227重合。第二線圈222B布置在90度與180度之間，第三線圈222C布置在180度與270度之間，第四線圈222D布置在270度與360度之間。
[0019]在圖4中，方框圖顯示用于測量通過流管108的導電過程流體200的流量的磁流量計102—個實施例。線圈222A-D被構(gòu)造成響應于由線圈驅(qū)動器230施加的驅(qū)動電流將磁場施加到流體流。線圈222A-D可以由正弦交流電流(AC)或脈沖直流電流(DC(方形波))提供電力。電極224A、224B電連接到過程流體200并將EMF信號輸出234提供至放大器232。信號234涉及由于施加的磁場在流體流中產(chǎn)生的EMF以及流體速度。模數(shù)轉(zhuǎn)換器242將數(shù)字化表示的EMF提供到微處理器系統(tǒng)248。信號處理器250應用于微處理器系統(tǒng)248中，所述微處理器系統(tǒng)連接到EMF輸出234以提供關(guān)于流體速度的輸出252。存儲器278可以用于儲存程序指令 或其它信息。雖然顯示數(shù)字電路，但是也可以使用模擬電路實施本發(fā)明。
[0020]微處理器系統(tǒng)248根據(jù)EMF輸出234與流動速度之間的關(guān)系計算通過流管108的流體200的速度，如法拉第定律中所述，法拉第定律指出:
[0021]V = E/ (kBD)方程 I
[0022]其中E是感測電壓，V是流體的速度，D是流管108的直徑，B是流體中的磁場的強度，k是比例常數(shù)。微處理器系統(tǒng)248根據(jù)已知的技術(shù)使用感測電壓計算過程流體的流量。連接到微處理器系統(tǒng)248的數(shù)模轉(zhuǎn)換器258產(chǎn)生用于連接到通信總線106的模擬量變送器輸出260。數(shù)字通信電路262產(chǎn)生數(shù)字量變送器輸出264。
[0023]圖5A-E是顯示響應于各個線圈的通電生成的磁場圖案的流管108的橫截面圖。流量計102可以被構(gòu)造成單獨、同時或以不同的連續(xù)順序給單個線圈、兩個線圈或多于兩個的線圈通電。在一個實施例中，所述連續(xù)順序包括單獨地給每一個線圈通電。例如，線圈222A、222B、222C、222D中的至少一個可以在線圈中的其它線圈之前被通電。在另一個實施例中，連續(xù)順序包括成對地給線圈通電。在圖5所示的實施例中，這包括成對地給線圈222A、222B、222C、222D通電。具有至少六種成對地給線圈通電的可能的排列。在一個實施例中，成對的線圈包括相對的線圈。在另一個示例性實施例中，被通電的多對線圈包括相鄰的線圈。另外，通過改變流動通過線圈的電流的方向可以使磁場的南-北極顛倒。
[0024]如圖5A-H中所示，磁場根據(jù)被通電的線圈而不同。當多對線圈被通電時，流管108內(nèi)的不同區(qū)(或區(qū)域)產(chǎn)生不同的磁場。通過每一個磁場的流體流產(chǎn)生電壓信號，所述電壓信號與橫跨流管的在形成磁場的軸向位置處的橫截面的平均速度分布相關(guān)。另外，多于兩個的電極的使用允許采集額外的信息。更具體地，產(chǎn)生的電壓在垂直于所述流體流且垂直于磁場方向的方向上最大。因此，可以根據(jù)施加的磁場的方向通過選擇適當?shù)碾姌O對來檢測較大的電壓響應信號。通過分析響應于不同的施加磁場產(chǎn)生的電壓信號，可以獲得關(guān)于流動速度分布以及該分布在流管的橫截面上如何變化的信息。更具體地，觀察到的對稱的類型是指“軸對稱”，所述軸對稱是指通過沿著管軸線延伸的任何平面的對稱。為了獲得精確的測量值，大多數(shù)流量計需要過程流體表現(xiàn)出軸對稱的速度分布。軸對稱的速度分布是關(guān)于流管的中心線自由旋轉(zhuǎn)且對稱的分布。在管道中的干擾(例如彎頭或閥)引起流動速度在管道的一側(cè)增加而在另一側(cè)降低的任何時候，該速度分布都會變得不對稱。這會導致在流量測量值中引入誤差。所述誤差根據(jù)流動擾動的嚴重性可以很顯著。這將在流量計中導致提供較不準確的流量測量值。
[0025]圖5A是流管108的橫截面圖并顯示線圈222A-D。另外，在5A所示的結(jié)構(gòu)中顯示四個電極224A-D。在圖5A中，線圈222A和222D被以下述方式通電:所述線圈的北極指向流管108，而所述線圈的南極背離流管108。線圈222B和222C被以相反的方式通電，其中北極向外而南極向內(nèi)。這表示在圖5A所附的表格中。術(shù)語“IN”表示指向內(nèi)的磁北極，而“OUT”表示北極指向流管108外。另外，術(shù)語“OFF”表示線圈沒有被通電。根據(jù)該通電，將產(chǎn)生如圖5A中所示的磁通線所標示磁場。(要注意的是未顯示管外部的磁通線)。這將使得在電極224A與224B之間產(chǎn)生最強的電壓信號。
[0026]在圖5B的結(jié)構(gòu)中，在線圈222D與222B之間產(chǎn)生單一磁場。在該結(jié)構(gòu)中，在電極224C與224D之間或電極224A與224B之間將觀察到最大電壓。要注意的是在這種結(jié)構(gòu)中，這兩個測量電壓之間的差值可以用于提供關(guān)于所述流體流的信息或用于診斷的信息。圖5C顯示其中線圈222A和222C被通電的相似結(jié)構(gòu)。
[0027]在圖和圖5E中，一對線圈被通電，具體地，圖中的線圈222D和222C以及圖5E中的線圈222A和222B被通電。在該通電方案中，在電極224A與224B之間觀察到最大電壓。兩個電壓測量值之間的差值可以再次用于提供關(guān)于流量分布的診斷信息或額外信
肩、O
[0028]圖5F和圖5G顯示其中相鄰對的線圈被通電且其磁場在相同的方向上的結(jié)構(gòu)。另外兩個線圈未通電。在該結(jié)構(gòu)中，在線圈222A與222B之間觀察到最大電壓。圖5H顯示單個線圈被通電時磁場中的結(jié)果。
[0029]通過根據(jù)不同磁場的施加來監(jiān)測產(chǎn)生的電壓，可以獲得關(guān)于流管的操作、流動分布的信息、關(guān)于過程流體本身的信息以及診斷信息。例如，根據(jù)施加的磁場，在一些情況下，兩個電極對之間觀察到的電壓應該相等。作為具體的示例，當流動不對稱時，如圖5E中所示電極224A與224B被通電一樣，電極224A與224B之間測量的電壓在如圖中所示線圈被通電時應該近似相等。然而，如果電壓在線圈如圖5E中所示被通電時明顯更高，則可以假定流動沒有軸對稱并且流體的平均速度在流管的右側(cè)比流管的左側(cè)高。在這種情況下，流量計可以被構(gòu)造成警告使用者準確度會降低或校正誤差。在一些結(jié)構(gòu)中，在計算電壓時使用多于兩個的電極。另外，各種電壓和電壓差可以被儲存并用于顯示趨勢(trend)。
[0030]在一個實施例中，本發(fā)明聚集從不同磁場產(chǎn)生的信號并使用該信號產(chǎn)生表不流量分布的數(shù)據(jù)。這可以被視為速度分布的“圖像”。通過建立詳細的速度分布，本發(fā)明的多個方面可以識別分布中存在的軸對稱的變化。速度分布的非對稱可以接著例如受到補償。這使得流量計產(chǎn)生更精確的流量測量值。在一個實施例中，產(chǎn)生多個不同磁場，速度分布的生成“圖像”更進一步地提供關(guān)于速度分布的細節(jié)。通過改變被通電的線圈和/或通電線圈的極性，可以改變施加的磁場的分布。這可以用于將磁場聚集到流管內(nèi)的特定區(qū)域(“區(qū)”或“多個區(qū)域”)。另外，可以監(jiān)測各個電極224A、224B、224C、224D之間的電壓差。這具有增加選定區(qū)域或“區(qū)”中的裝置的靈敏度的效果，其中磁場聚集在所述選定區(qū)域中和/或在該選定區(qū)域中可觀察到生成的電壓。
[0031]圖6顯示電子殼體120中的驅(qū)動電路230的一個實施例。線圈驅(qū)動電路230包括由控制器248控制并連接多個線圈222A、222B、222C、222D的多個開關(guān)298A、298B、298C、298D?？刂破?48控制多個開關(guān)298A、298B、298C、298D以選擇性地將電流源296連接到多個線圈222A、222B、222C、222D。要注意的是如果流動通過線圈的電流的方向改變，則線圈的極性將顛倒。在一個結(jié)構(gòu)中，驅(qū)動電路230包括另外的開關(guān)(或者其它電路)，所述另外的開關(guān)可以用于獨立地切換通過多個線圈222A、222B、222C、222D的電流的方向。
[0032]在一個實施例中，線圈222A、222B、222C、222D中的每一個可以卷繞到卷軸上并接著使用中心柱或類似部件固定到流管108。線圈可以永久地連接到流管108。在一個示例性實施例中，線圈222A、222B、222C、222D可以被加熱以活化粘結(jié)涂層。加熱線圈將依賴于卷軸的材料。一旦線圈222A、222B、222C、222D被卷繞到卷軸上，線圈222A、222B、222C、222D接著被對準并固定到流管108。任意適當?shù)木o固件可以用于將線圈222A、222B、222C、222D固定到流管108，例如螺柱和螺母。在另一個示例結(jié)構(gòu)中，線圈222A、222B、222C、222D和/或電極224A、224B以及任選的電極224C、224D被固定在由成型材料形成的流管中。
[0033]如上所述，任何數(shù)量的線圈可以根據(jù)需要同時或單獨地被通電。通過選擇被通電的線圈和/或產(chǎn)生的磁場的極性，不同的磁場圖案可以應用于過程流體。在另外一個示例結(jié)構(gòu)中，通過改變施加到一個或多個線圈的電流的量來調(diào)節(jié)施加的磁場的強度。除了改變施加的磁場之外，本發(fā)明還包括使用多于兩個的電極來感測生成的電壓。例如，返回參照圖3，如果使用四個電極且磁場被施加到過程流體，則可以感測電極224A與224C之間的生成的電壓以及電極224B與224D之間生成的電壓。這兩個感測電壓之間的差值可以表示過程流體的流量分布的變化。一旦檢測到過程流體的變化，微處理器248可以用于補償該變化。例如，存儲器278可以存儲為固定值或補償方程形式的補償信息。這種方程可以采用例如多項式方程的形式。例如，如果在沿平行于兩個電極之間的線的方向上施加磁場時電極對檢測到電壓，則根據(jù)流管的特征過程可以增加或減小計算的流量值?？梢栽诹髁坑嫷闹圃炱陂g進行流管的特征化且特征信息存儲在存儲器278中。
[0034]因此，通過本發(fā)明，通過選擇性地對適當磁線圈通電施加多個不同的磁場而可以收集關(guān)于過程流體的流動的信息。類似地，如果采用多于兩個的電極，則還可以觀察到流管上的不同位置之間的生成電壓的變化。該額外信息可以用于補償流量測量值并對流管、過程流體或其它部件進行診斷。額外信息還可以用于采集關(guān)于過程流體本身的信息。例如，通過觀察由于不同磁場的施加引起測量值的變化或通過感測不同電壓可以檢測過程流體中的具體濃度。該信息還可以用于識別流管和相關(guān)管道的堵塞、沉積或腐蝕。所述信息可以隨著時間進行監(jiān)測以觀察趨勢。[0035]雖然已經(jīng)關(guān)于優(yōu)選實施例說明了本發(fā)明，但是本領(lǐng)域的技術(shù)人員將會認識到在不背離本發(fā)明的精神和范圍的情況下進行形式和細節(jié)上的改變。雖然本發(fā)明的實施例已經(jīng)說明了包括四個線圈和兩個或四個電極，但是本發(fā)明可以使用的線圈和電極的數(shù)量不限于該結(jié)構(gòu)。隨著線圈的數(shù)量和/或電極的數(shù)量增加，可以更精確地測量速度分布的不對稱，并且可以獲得速度分布不對稱的圖像的更精細的分辨率。還可以根據(jù)過程流體進行診斷。這可以包括根據(jù)可能表現(xiàn)為速度分布的不對稱的增加的過程流體中的污泥進行診斷。類似地，流管的腐蝕或污垢可以表現(xiàn)為速度分布的變化。另外，線圈和電極的結(jié)構(gòu)增加流量計的效率并減少獲得測量值所需的電流量。
【權(quán)利要求】
1.一種用于測量過程流體的流量的磁流量計，包括: 流管，所述流管被布置成接收通過該流管的過程流體流； 第一線圈，所述第一線圈鄰近所述流管布置； 第二線圈，所述第二線圈鄰近所述流管布置； 第三線圈，所述第三線圈鄰近所述流管布置； 驅(qū)動電路，所述驅(qū)動電路被構(gòu)造成使用所述第一線圈、所述第二線圈和所述第三線圈將磁場施加到所述過程流體； 第一電極和第二電極，所述第一電極和所述第二電極被布置成感測所述過程流體的與施加的磁場和所述過程流體的流量有關(guān)的電勢；和 控制器，所述控制器被構(gòu)造成根據(jù)由所述第一電極和所述第二電極感測的電勢計算所述過程流體的流量。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的磁流量計，還包括: 鄰近所述流管布置的第四線圈。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的磁流量計，其中，所述驅(qū)動電路包括構(gòu)造成選擇性地將電流源連接到線圈的開關(guān)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的磁流量計，其中，所述第一線圈和所述第二線圈位于所述第一電極和所述第二電極的水平軸線的上方，所述第三線圈位于所述第一電極和所述第二電極的下方。
5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的磁流量計，其中，所述第一線圈和所述第二線圈位于所述第一電極與所述第二電極之間的上方，所述第三線圈和所述第四線圈位于所述水平軸線的下方。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的磁流量計，還包括: 屏蔽件，所述屏蔽件被布置成繞著所述流管的外周邊傳導磁場。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的磁流量計，其中，所述控制器被構(gòu)造成識別所述過程流體的速度分布的不對稱。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的磁流量計，其中，所述控制器適于根據(jù)速度分布檢測流量測量值中的錯誤。
9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的磁流量計，其中，所述控制器適于校正所述流量測量值中檢測到的錯誤。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的磁流量計，其中，所述流量計被構(gòu)造成根據(jù)速度分布或所述過程流體進行診斷。
11.根據(jù)權(quán)利要求2所述的磁流量計，其中，所述線圈被成對地通電。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的磁流量計，其中，線圈對包括相對的線圈。
13.根據(jù)權(quán)利要求1所述的磁流量計，其中，所述第一線圈、所述第二線圈和所述第三線圈被同時通電。
14.根據(jù)權(quán)利要求1所述的磁流量計，其中，所述線圈被單獨地通電。
15.根據(jù)權(quán)利要求1所述的磁流量計，包括: 第三電極，所述第三電極被布置成感測所述過程流體的與施加的磁場和所述過程流體的流量有關(guān)的電勢。
16.一種測量過程流體的流量的方法，包括以下步驟: 布置流管以接收所述過程流體流； 鄰近所述流管布置第一線圈； 鄰近所述流管布置第二線圈； 鄰近所述流管布置第三線圈； 使用所述第一線圈、所述第二線圈和所述第三線圈將磁場施加到所述過程流體；布置第一電極和第二電極以感測所述過程流體的與施加的磁場和所述過程流體的流量有關(guān)的電勢；和 根據(jù)由所述第一電極和所述第二電極感測的電勢使用控制器計算所述過程流體的流量。
17.根據(jù)權(quán)利要求16所述的方法，包括以下步驟: 鄰近所述流管布置第四線圈。
18.根據(jù)權(quán)利要求17所述的方法，包括以下步驟: 使線圈被成對地通電。
19.根據(jù)權(quán)利要求18所述的方法，其中，所述使線圈被成對地通電的步驟包括: 對相對的線圈進行通電。
20.根據(jù)權(quán)利要求16所述的方法，其中，所述線圈被單獨地通電。
21.根據(jù)權(quán)利要求16所述的方法，還包括以下步驟: 識別所述過程流體的速度分布的不對稱。
22.根據(jù)權(quán)利要求16所述的方法，還包括以下步驟: 校正由于所述過程流體的速度分布的不對稱在流量測量值中產(chǎn)生的誤差。
23.根據(jù)權(quán)利要求16所述的方法，還包括以下步驟: 根據(jù)所述過程流體的速度分布的不對稱進行診斷。
24.根據(jù)權(quán)利要求16所述的方法，還包括以下步驟: 布置第三電極以感測所述過程流體的與施加的磁場和所述過程流體的流量有關(guān)的電勢。
【文檔編號】G01F1/56GK103674131SQ201210544475
【公開日】2014年3月26日 申請日期:2012年12月14日 優(yōu)先權(quán)日:2012年9月26日
【發(fā)明者】史蒂文·布魯斯·羅格斯 申請人:羅斯蒙德公司