專利名稱：浸入式流體分析設(shè)備的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及氣體或液體的分析，尤其涉及一種浸入式流體分析設(shè)備。
背景技術(shù)：
隨著社會發(fā)展及生活水平的提高，人們對自身的生存環(huán)境越來越重視，對空氣、飲用、食品等的質(zhì)量的關(guān)注也逐步提高。光譜分析技術(shù)作為一種高精度、快速、低功耗的分析技術(shù)，如吸收光譜分析技術(shù)，可廣泛應(yīng)用在煙氣連續(xù)分析、水質(zhì)連續(xù)分析中。在煙氣分析中，通常采用取樣法和在位法。其中，取樣法的分析過程為:通過抽氣泵取樣煙道內(nèi)的待測煙氣，之后再送入加熱的氣體室內(nèi)，光源發(fā)出的光穿過煙道內(nèi)的待測煙氣，由于吸收而被衰減的光進(jìn)入光譜儀內(nèi)，后經(jīng)電子模塊的分析后獲知煙氣中各成分的含量。上述加熱氣體室、光譜儀及復(fù)雜的流路系統(tǒng)、控制系統(tǒng)都安裝在大體積的機(jī)柜內(nèi)。具體做法請參見專利文獻(xiàn) US5621213、DE3714346A1、JP2003-14627A、CN206100518957、CN2008101215043等。在位法的分析過程為:煙道外的光源穿過煙道內(nèi)的煙氣，由于吸收而被衰減的光進(jìn)入煙道外的光譜儀內(nèi)，后經(jīng)電子模塊的分析后獲知煙氣中各成分的含量。上述光譜儀及復(fù)雜控制系統(tǒng)都安裝在大體積的機(jī)柜內(nèi)，機(jī)柜體積通常超過lm3，重量超過 100kg。具體做法請參見 CN008137250、《DOAS for flue gas monitoring-1II In-situmonitoring of sulfur dioxide, nitrogen monoxide and ammonia)) JohanMellqvistJ.Quant.Spectrosc.Radiat.Transfer Vol.56, N0.2, pp.225-240.1996。在水質(zhì)分析中，通常采用取樣法，分析過程為:通過泵取樣待測水樣，之后再送入測量池內(nèi)，光源發(fā)出的光穿過測量池內(nèi)的待測水樣，由于吸收而被衰減的光進(jìn)入光譜儀內(nèi)，后經(jīng)電子模塊的分析后獲知待測水樣的參數(shù)。上述光源、光譜儀及復(fù)雜的流路系統(tǒng)、控制系統(tǒng)都安裝在大體積的機(jī)柜內(nèi)，機(jī)柜體積通常超過0.5m3,重量超過120kg具體做法請參見中國專利文獻(xiàn) CN2008100622678、CN2008100622682。上述分析方式具有諸多不足，如:1、體積大，上述的光譜儀都是獨(dú)立的模塊，和控制系統(tǒng)、流路系統(tǒng)一起安裝在大的機(jī)柜內(nèi)；2、器件分散，生產(chǎn)、維護(hù)不方便。3、成本高，復(fù)雜的流路系統(tǒng)、獨(dú)立設(shè)計的光譜儀、大體積的機(jī)柜都提高了生產(chǎn)成本。

實(shí)用新型內(nèi)容本實(shí)用新型解決的技術(shù)問題是克服現(xiàn)有技術(shù)存在的上述缺陷，提供一種結(jié)構(gòu)緊湊、維護(hù)方便、成本低、功能全面、能便攜的浸入式流體分析設(shè)備。本實(shí)用新型的目的是通過以下技術(shù)方案實(shí)現(xiàn)的:浸入式流體分析設(shè)備，所述分析設(shè)備包括:光源，所述光源用于發(fā)出測量光；[0013]測量池，所述測量池處于所述光源和光學(xué)模塊之間，用于在浸入時容納待測流體；光電檢測部件，所述光電檢測部件用于將穿過所述測量池的測量光信號轉(zhuǎn)換為電信號，并傳送到所述電子模塊；電子模塊，所述電子模塊用于根據(jù)光譜分析技術(shù)處理接收到的所述電信號，從而獲知所述待測流體的參數(shù)；第一腔體，所述第一腔體內(nèi)部中空，設(shè)置在所述測量池的一側(cè)，并與所述測量池保持S封；光源模塊，所述光源模塊設(shè)置在所述第一腔體內(nèi)，信號輸出端與所述光源連接；第一堵頭，所述第一堵頭設(shè)置在所述第一腔體的遠(yuǎn)離所述測量池的一端，用于固定所述光源模塊。根據(jù)上述的流體分析設(shè)備，可選地，所述分析設(shè)備進(jìn)一步包括:第二腔體，所述第二腔體的內(nèi)部中空，設(shè)置在所述測量池的一側(cè)，并與所述測量池保持S封；會聚部件，所述會聚部件設(shè)置在所述第二腔體的內(nèi)部，用于將所述光源發(fā)出的且穿過所述測量池的測量光會聚在狹縫處；狹縫，所述狹縫設(shè)置在所述第二腔體的內(nèi)部，且處于所述會聚部件的一側(cè)；分光部件，所述分光部件通過安裝部件設(shè)置在所述第二腔體內(nèi)；光電檢測部件，所述光電檢測部件設(shè)置在所述第二腔體內(nèi)，用于將穿過所述狹縫且經(jīng)所述分光部件分光后的測量光信號轉(zhuǎn)換為電信號，并傳送到所述電子模塊；端蓋，所述端蓋安裝在所述第二腔體的遠(yuǎn)離所述測量池的一端，并與第二腔體保持密封。根據(jù)上述的流體分析設(shè)備，可選地，所述分析設(shè)備進(jìn)一步包括:調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)，所述調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)設(shè)置在所述第二腔體內(nèi)，用于調(diào)節(jié)所述會聚部件及狹縫，或所述分光部件，或光電檢測部件的位置。根據(jù)上述的流體分析設(shè)備，優(yōu)選地，所述電子模塊設(shè)置在所述第二腔體的內(nèi)部。根據(jù)上述的流體分析設(shè)備，優(yōu)選地，所述會聚部件和狹縫固定在一起。根據(jù)上述的流體分析設(shè)備，可選地，所述分析設(shè)備進(jìn)一步包括:第三腔體，所述第三腔體內(nèi)部中空，設(shè)置在所述光源的一側(cè)，并與所述第一腔體保持S封；電路保護(hù)模塊，所述電路保護(hù)模塊設(shè)置在所述第三腔體內(nèi)，用于保護(hù)所述光源模塊；第二堵頭，所述第二堵頭用于通過線纜，設(shè)置在所述第三腔體的遠(yuǎn)離所述測量池的一端，并與所述第三腔體保持密封。根據(jù)上述的流體分析設(shè)備，可選地，所述第二堵頭或第三腔體上設(shè)有檢漏孔。根據(jù)上述的流體分析設(shè)備，優(yōu)選地，所述測量池呈“凹”狀。根據(jù)上述的流體分析設(shè)備，可選地，所述流體是氣體或液體。與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實(shí)用新型具有以下有益效果:1、體積小，入射狹縫、分光部件及光電檢測部件都集成在較小的第二腔體內(nèi)，無需設(shè)置復(fù)雜的流路系統(tǒng)、機(jī)柜，極大地降低了分析設(shè)備的體積，僅為3.14X10-3cm3左右，重量也僅為2kg左右，真正實(shí)現(xiàn)了便攜性；2、器件緊湊，光源、入射狹縫、分光部件及光電檢測部件的安裝方式極為緊湊、科學(xué)，生產(chǎn)、維護(hù)很方便；3、成本低，無需設(shè)計復(fù)雜的流路系統(tǒng)、獨(dú)立的光譜儀、大體積的機(jī)柜，大大降低了生產(chǎn)成本，為該分析設(shè)備的推廣應(yīng)用奠定了基礎(chǔ)；4、功能全面，為電路系統(tǒng)(如光源模塊)設(shè)計了專門的保護(hù)模塊，有效地防止了電路由于意外(如雷擊)而損壞。還設(shè)置了固定電源模塊的堵頭，防止了電源模塊松動而碰撞損壞或意外停機(jī)。

參照附圖，本實(shí)用新型的公開內(nèi)容將變得更易理解。本領(lǐng)域技術(shù)人員容易理解的是:這些附圖僅僅用于舉例說明本實(shí)用新型的技術(shù)方案，而并非意在對本實(shí)用新型的保護(hù)范圍構(gòu)成限制。圖中:圖1是本實(shí)用新型實(shí)施例1的流體分析設(shè)備的基本結(jié)構(gòu)圖；圖2為本實(shí)用新型實(shí)施例1的優(yōu)選的測量池的基本結(jié)構(gòu)圖；圖3為本實(shí)用新型實(shí)施例1的光學(xué)模塊的基本結(jié)構(gòu)圖；圖4為本實(shí)用新型實(shí)施例1的優(yōu)選的第一、第三腔體的基本結(jié)構(gòu)圖。
具體實(shí)施方式
圖1-4和以下說明描述了本實(shí)用新型的可選實(shí)施方式以教導(dǎo)本領(lǐng)域技術(shù)人員如何實(shí)施和再現(xiàn)本實(shí)用新型。為了教導(dǎo)本實(shí)用新型技術(shù)方案，已簡化或省略了一些常規(guī)方面。本領(lǐng)域技術(shù)人員應(yīng)該理解源自這些實(shí)施方式的變型或替換將在本實(shí)用新型的范圍內(nèi)。本領(lǐng)域技術(shù)人員應(yīng)該理解下述特征能夠以各種方式組合以形成本實(shí)用新型的多個變型。由此，本實(shí)用新型并不局限于下述可選實(shí)施方式，而僅由權(quán)利要求和它們的等同物限定。實(shí)施例1:圖1示意性地給出了本實(shí)用新型實(shí)施例的浸入式流體分析設(shè)備的基本結(jié)構(gòu)圖，如圖1所示，所述浸入式流體分析設(shè)備包括光源1，所述光源I發(fā)出的光具有對應(yīng)于待測流體的吸收光譜譜線的測量光；如氙燈、氘燈等寬譜光源。測量池2，所述測量池處于所述光源和光學(xué)模塊之間，用于在浸入時容納所述待測流體；圖2示意性地給出了本實(shí)用新型實(shí)施例的優(yōu)選的測量池的基本結(jié)構(gòu)圖，如圖2所示，所述測量池2呈“凹”狀，具有光學(xué)窗口 21、22，光學(xué)窗口 21、22之間為自由空間，待測流體進(jìn)入該自由空間內(nèi)，光源I發(fā)出的光穿過光學(xué)窗口 21、22之間的距離為測量光程。光學(xué)模塊，圖3示意性地給出了本實(shí)用新型實(shí)施例的光學(xué)模塊的基本結(jié)構(gòu)圖，如圖3所示，所述光學(xué)模塊3包括:第二腔體31，所述第二腔體31的內(nèi)部中空，設(shè)置在所述測量池2的一側(cè)，并與所述測量池2保持密封；所述第二腔體31可采用不銹鋼或塑料，對待測氣體或液體有耐腐蝕性。[0055]會聚部件32，所述會聚部件32設(shè)置在所述第二腔體31的內(nèi)部，用于將所述光源I發(fā)出的且穿過所述測量池2的測量光會聚在狹縫33處；所述會聚部件可采用透鏡。狹縫33，所述狹縫33設(shè)置在所述第二腔體31的內(nèi)部，且處于所述會聚部件32的一側(cè)；優(yōu)選地，所述會聚部件和狹縫固定在一起。分光部件34，所述分光部件34通過安裝部件37設(shè)置在所述第二腔體內(nèi)；所述分光部件可采用光柵、棱鏡等器件。光電檢測部件35，所述光電檢測部件35設(shè)置在所述第二腔體31內(nèi)，用于將穿過所述狹縫33且經(jīng)所述分光部件34分光后的測量光信號轉(zhuǎn)換為電信號，并傳送到所述電子模塊36 ;所述光電檢測部件采用光電傳感器，如CCD、CMOS等。端蓋39，所述端蓋39通過螺紋、螺栓等方式安裝在所述第二腔體31的一側(cè)，并與第二腔體31保持密封；電子模塊36，所述電子模塊36用于根據(jù)光譜分析技術(shù)處理接收到的所述電信號，從而獲知所述待測流體的參數(shù)，如氣體濃度，液體的濁度等參數(shù)。優(yōu)選地，所述電子模塊設(shè)置在所述第二腔體內(nèi)；所述分析設(shè)備進(jìn)一步包括:第一腔體，圖4示意性地給出了本實(shí)用新型實(shí)施例的第一腔體的基本結(jié)構(gòu)圖，如圖4所示，所述第一腔體41內(nèi)部中空，設(shè)置在所述測量池2的一側(cè)，并與所述測量池2保持密封；光源模塊42,所述光源模塊42設(shè)置在所述第一腔體41內(nèi)，信號輸出端與所述光源I連接；第一堵頭43，所述第一堵頭43通過螺紋等方式安裝在所述第一腔體41的遠(yuǎn)離所述測量池2的一端，用于固定所述光源模塊42，與所述光源模塊42連接的線纜穿過該第一堵頭43。為了更好地調(diào)節(jié)分析設(shè)備的測量精度及測量范圍，可選地，所述分析設(shè)備進(jìn)一步包括:第一調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)，所述第一調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)設(shè)置在所述第二腔體內(nèi)，用于調(diào)節(jié)所述會聚部件和狹縫的位置。第二調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)，所述第二調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)設(shè)置在所述安裝部件上，用于調(diào)節(jié)所述分光部件的位置。第三調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)，所述第三調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)設(shè)置在所述第二腔體內(nèi)，用于調(diào)節(jié)所述光電檢測部件的位置。上述調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)的具體機(jī)構(gòu)是本領(lǐng)域的現(xiàn)有技術(shù)，在此不再贅述。為了更好地保護(hù)所述電源模塊免受意外(如雷擊或外界強(qiáng)信號干擾)損壞，可選地，所述分析設(shè)備進(jìn)一步包括:第三腔體，圖4示意性地給出了本實(shí)用新型實(shí)施例的第三腔體的基本結(jié)構(gòu)圖，如圖4所示，所述第三腔體51內(nèi)部中空，設(shè)置在所述光源I的一側(cè)，并與所述第一腔體41保持S封；電路保護(hù)模塊52，所述電路保護(hù)模塊52設(shè)置在所述第三腔體51內(nèi)，用于保護(hù)所述光源模塊42 ;電路保護(hù)模塊52主要用于防止所述光源模塊42由于外界雷擊、強(qiáng)信號干擾而損壞，具體的電路保護(hù)模塊是現(xiàn)有技術(shù)，在此不再贅述。第二堵頭53，所述第二堵頭53用于通過線纜，通過螺紋等方式設(shè)置在所述第三腔體51的一側(cè)，并與所述第三腔體51保持密封。為了使整個分析設(shè)備與外界待測氣體或液體保持隔離，腔體之間應(yīng)密封，還需對整個分析設(shè)備做檢漏實(shí)驗(yàn)，可選地，所述第二堵頭或第三腔體上設(shè)有檢漏孔。實(shí)施例2:根據(jù)實(shí)施例1所述的流體分析設(shè)備及其調(diào)試方法在煙氣連續(xù)監(jiān)測中的應(yīng)用例，在該應(yīng)用例中，光源采用氙燈，發(fā)出的光中具有對應(yīng)于一氧化氮、二氧化硫的吸收光譜譜線的測量光，采用透鏡組作為會聚部件，利用光柵作為分光部件，探測器采用CMOS。測量池呈“凹”狀，中間凹陷部位的兩側(cè)設(shè)置玻璃窗片，隔離待測煙氣與腔體內(nèi)部件，窗片之間為測量光程。所述光源和會聚透鏡處于所述窗片的兩側(cè)，使得光源發(fā)出的光穿過窗片、待測煙氣后被所述會聚透鏡會聚在狹縫處。為了能進(jìn)一步調(diào)節(jié)分析設(shè)備的測量精度、范圍，透鏡組和狹縫通過第一調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)設(shè)置在第二腔體內(nèi)，使得所述透鏡組和狹縫能前后移動，以調(diào)節(jié)光譜分辨率；所述光柵通過第二調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)設(shè)置在安裝部件上，使得能三維調(diào)節(jié)所述光柵，以提高光譜檢測范圍；所述探測器通過第三調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)設(shè)置在第二腔體內(nèi)，以提高接收光強(qiáng)。如，所述安裝部件通過螺栓安裝在第二腔體的內(nèi)部，所述安裝部件和第二腔體之間設(shè)置彈性材料(如橡膠圈)，通過調(diào)節(jié)所述螺栓以調(diào)整光柵的位置，從而實(shí)現(xiàn)第三調(diào)節(jié)結(jié)構(gòu)的功能。所述調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)還可采用常規(guī)的一維、二維、三維光學(xué)調(diào)節(jié)架。上述腔體、端蓋及堵頭都采用不銹鋼材料，提高了耐腐蝕、耐高溫、耐沖刷能力，且
第一、第二和第三腔體都采用圓筒。在所述分析設(shè)備的出廠調(diào)試中，光學(xué)模塊的調(diào)試方式為:通過調(diào)節(jié)所述狹縫的位置去調(diào)節(jié)光譜分辨率，通過調(diào)節(jié)所述分光部件的位置去調(diào)節(jié)光譜范圍、通過調(diào)節(jié)所述光電檢測部件的位置去調(diào)節(jié)光強(qiáng)，當(dāng)調(diào)試結(jié)果滿足要求后，固定好狹縫、光柵、CMOS的位置并密封。在檢測時，將整個分析設(shè)備浸沒在煙氣中，煙氣充滿測量池，電子模塊輸出煙氣中一氧化氮、二氧化硫的濃度值。實(shí)施例3:根據(jù)實(shí)施例1所述的流體分析設(shè)備及其調(diào)試方法在水質(zhì)分析中的應(yīng)用例，在該應(yīng)用例中，光源采用氙燈，采用透鏡組作為會聚部件，利用光柵作為分光部件，探測器采用CCD。測量池呈“凹”狀，中間凹陷部位的兩側(cè)設(shè)置玻璃窗片，隔離待測煙氣與腔體內(nèi)部件，窗片之間為測量光程。所述光源和會聚透鏡處于所述窗片的兩側(cè)，使得光源發(fā)出的光穿過窗片、待測水樣后被所述會聚透鏡會聚在狹縫處。為了能進(jìn)一步調(diào)節(jié)分析設(shè)備的測量精度、范圍，透鏡組和狹縫通過第一調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)設(shè)置在第二腔體內(nèi)，使得所述透鏡組和狹縫能前后移動，以調(diào)節(jié)光譜分辨率；所述光柵通過第二調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)設(shè)置在安裝部件上，使得能三維調(diào)節(jié)所述光柵，以提高光譜檢測范圍；所述探測器通過第三調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)設(shè)置在第二腔體內(nèi)，以提高接收光強(qiáng)。如，所述安裝部件通過螺栓安裝在第二腔體的內(nèi)部，所述安裝部件和第二腔體之間設(shè)置彈性材料(如橡膠圈)，通過調(diào)節(jié)所述螺栓以調(diào)整光柵的位置，從而實(shí)現(xiàn)第三調(diào)節(jié)結(jié)構(gòu)的功能。所述調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)還可采用常規(guī)的一維、二維、三維光學(xué)調(diào)節(jié)架。上述腔體、端蓋及堵頭都采用不銹鋼材料，提高了耐腐蝕、耐高溫、耐沖刷能力，且
第一、第二和第三腔體都采用圓筒。在所述分析設(shè)備的出廠調(diào)試中，光學(xué)模塊的調(diào)試方式為:通過調(diào)節(jié)所述狹縫的位置去調(diào)節(jié)光譜分辨率，通過調(diào)節(jié)所述分光部件的位置去調(diào)節(jié)光譜范圍、通過調(diào)節(jié)所述光電檢測部件的位置去調(diào)節(jié)光強(qiáng)，當(dāng)調(diào)試結(jié)果滿足要求后，固定好狹縫、光柵、CMOS的位置并密封。在檢測時，將整個分析設(shè)備浸沒在水樣中，水樣充滿測量池，電子模塊輸出水樣的
參數(shù)值。根據(jù)本實(shí)用新型實(shí)施例3達(dá)到的益處在于:入射狹縫、分光部件及光電檢測部件都集成在較小的第二腔體內(nèi)，結(jié)構(gòu)緊湊，同時無需設(shè)置復(fù)雜的流路系統(tǒng)、機(jī)柜，體積小，長度僅為40cm,直徑僅為5cm,重量僅為2kg,輕便易攜帶,可作為便攜式分析設(shè)備,還具有電路保護(hù)功能。上述是實(shí)施例僅是示例性地給出了各部件的具體選用，如分光部件采用光柵，光源采用氙燈，當(dāng)然，上述各部件還可以是其它選用，如分光部件棱鏡等器件，光源采用氘燈等寬譜光源。這對于本領(lǐng)域的技術(shù)人員來說，是能夠預(yù)料到的，是能夠?qū)崿F(xiàn)本實(shí)用新型的目的的。
權(quán)利要求1.一種浸入式流體分析設(shè)備，所述分析設(shè)備包括: 光源，所述光源用于發(fā)出測量光； 測量池，所述測量池處于所述光源和光學(xué)模塊之間，用于在浸入時容納待測流體；光電檢測部件，所述光電檢測部件用于將穿過所述測量池的測量光信號轉(zhuǎn)換為電信號，并傳送到電子模塊； 電子模塊，所述電子模塊用于根據(jù)光譜分析技術(shù)處理接收到的所述電信號，從而獲知所述待測流體的參數(shù)； 第一腔體，所述第一腔體內(nèi)部中空，設(shè)置在所述測量池的一側(cè)，并與所述測量池保持密封； 光源模塊，所述光源模塊設(shè)置在所述第一腔體內(nèi)，信號輸出端與所述光源連接； 第一堵頭，所述第一堵頭設(shè)置在所述第一腔體的遠(yuǎn)離所述測量池的一端，用于固定所述光源模塊。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的流體分析設(shè)備，其特征在于:所述分析設(shè)備進(jìn)一步包括: 第二腔體，所述第二腔體的內(nèi)部中空，設(shè)置在所述測量池的一側(cè)，并與所述測量池保持密封； 會聚部件，所述會聚部件設(shè)置在所述第二腔體的內(nèi)部，用于將所述光源發(fā)出的且穿過所述測量池的測量光會聚在狹縫處； 狹縫，所述狹縫設(shè)置在所述第二腔體的內(nèi)部，且處于所述會聚部件的一側(cè)； 分光部件，所述分光部件通過安裝部件設(shè)置在所述第二腔體內(nèi)； 光電檢測部件，所述光電檢測部件設(shè)置在所述第二腔體內(nèi)，用于將穿過所述狹縫且經(jīng)所述分光部件分光后的測量光信號轉(zhuǎn)換為電信號，并傳送到所述電子模塊； 端蓋，所述端蓋安裝在所述第二腔體的遠(yuǎn)離所述測量池的一端，并與第二腔體保持密封。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的流體分析設(shè)備，其特征在于:所述分析設(shè)備進(jìn)一步包括: 調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)，所述調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)設(shè)置在所述第二腔體內(nèi)，用于調(diào)節(jié)所述會聚部件及狹縫，或分光部件，或光電檢測部件的位置。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的流體分析設(shè)備，其特征在于:所述電子模塊設(shè)置在所述第二腔體的內(nèi)部。
5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的流體分析設(shè)備，其特征在于:所述會聚部件和狹縫固定在一起。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的流體分析設(shè)備，其特征在于:所述分析設(shè)備進(jìn)一步包括: 第三腔體，所述第三腔體內(nèi)部中空，設(shè)置在所述光源的一側(cè)，并與所述第一腔體保持密封； 電路保護(hù)模塊，所述電路保護(hù)模塊設(shè)置在所述第三腔體內(nèi)，用于保護(hù)所述光源模塊；第二堵頭，所述第二堵頭用于通過線纜，設(shè)置在所述第三腔體的遠(yuǎn)離所述測量池的一端，并與所述第三腔體保持密封。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的流體分析設(shè)備，其特征在于:所述第二堵頭或第三腔體上設(shè)有檢漏孔。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的流體分析設(shè)備， 其特征在于:所述測量池呈“凹”狀。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的流體分析設(shè)備， 其特征在于:所述流體是氣體或液體。
專利摘要本實(shí)用新型公開了一種浸入式流體分析設(shè)備，包括光源，用于發(fā)出測量光；測量池，處于所述光源和光學(xué)模塊之間，用于在浸入時容納所述待測流體；光電檢測部件，用于將穿過所述測量池的測量光信號轉(zhuǎn)換為電信號，并傳送到所述電子模塊；電子模塊，用于根據(jù)光譜分析技術(shù)處理接收到的所述電信號，從而獲知所述待測流體的參數(shù)；第一腔體，內(nèi)部中空，設(shè)置在所述測量池的一側(cè)，并與所述測量池保持密封；光源模塊，設(shè)置在所述第一腔體內(nèi)，信號輸出端與所述光源連接；第一堵頭，設(shè)置在所述第一腔體的遠(yuǎn)離所述測量池的一端，用于固定所述光源模塊。本實(shí)用新型具有結(jié)構(gòu)緊湊、維護(hù)方便、成本低、功能全面等優(yōu)點(diǎn)。
文檔編號G01N21/25GK203011821SQ20122061812
公開日2013年6月19日 申請日期2012年11月21日 優(yōu)先權(quán)日2012年11月21日
發(fā)明者于志偉 申請人:于志偉