技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明以提供一種除膜方法為技術(shù)問題，該除膜方法是對由像PCD(聚晶金剛石)那樣的無機物包覆的刀具、機械零件等進行除膜以能夠進行再利用的方法，進行離子照射時在被除膜基材(包覆件)不易產(chǎn)生死角，在溫度方面在基材(金屬制構(gòu)件)不易產(chǎn)生脆性相，并且，能夠經(jīng)濟且快速地進行除膜。該除膜方法是向在金屬制構(gòu)件的表面附著由無機物構(gòu)成的覆膜而成的包覆件(1)照射離子流(7)、從所述金屬制構(gòu)件剝離所述覆膜的除膜方法，其特征在于，將包覆件(1)設(shè)置在兩個以上的離子流(7)重疊的離子流集中部(7A)，不向包覆件(1)施加正負偏壓地向包覆件(1)照射離子流(7)，利用這樣的除膜方法能夠解決所述技術(shù)問題。

技術(shù)研發(fā)人員：植村賢介;阿列克謝·G·列姆涅夫
受保護的技術(shù)使用者：新明和工業(yè)株式會社
文檔號碼：201680002430
技術(shù)研發(fā)日：2016.03.29
技術(shù)公布日：2017.05.31