一種隔膜均勻性檢測方法及其檢測裝置制造方法
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種該隔膜均勻性檢測方法及檢測裝置，該檢測方法，在隔膜兩側(cè)各放置一偏光片；在其中一偏光片外側(cè)放置光源，光源發(fā)光經(jīng)該偏光片射入，照射隔膜后，再由另一偏光片射出；根據(jù)另一偏光片射出的光線色彩分布判定隔膜的均勻性；該隔膜均勻性檢測裝置，包括設(shè)在所述隔膜兩側(cè)的偏光片，在設(shè)于所述隔膜一側(cè)的偏光片外側(cè)設(shè)有光源；本發(fā)明通過薄膜均勻性檢測結(jié)果，判斷薄膜內(nèi)部均勻性，以進一步調(diào)整工藝，進而提高薄膜成品率。
【專利說明】一種隔膜均勻性檢測方法及其檢測裝置
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及隔膜檢測領(lǐng)域，具體涉及一種隔膜均勻性檢測方法及其檢測裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]干式隔離膜制作過程主要為薄膜押出、熱處理以及延伸造孔，進行延伸造孔前的薄膜稱為前軀膜。前軀膜可以是押出膜、貼合膜、復(fù)合膜以及熱處理膜，前軀膜的膜均勻性對于之后延伸造孔后的均勻性有著非常直接的關(guān)系。此均勻性對隔膜厚度、內(nèi)應(yīng)力及微結(jié)構(gòu)等綜合特性均有影響，所以當(dāng)最前面制作過程能做到最佳控制時，后段制作過程的均勻性會相對的提升。
[0003]目前隔膜均勻性的檢測方式中都是以隔膜厚度作為主要的檢測對象，而測量厚度最常見的檢測方式有紅外線、X射線及β射線，但是以上這些測試方式都只能了解厚度的均勻性，并無法反應(yīng)出在加工過程造成材料的內(nèi)應(yīng)力與結(jié)構(gòu)的均勻性與分布；隔膜的延伸造孔與前軀膜的內(nèi)應(yīng)力和微結(jié)構(gòu)有強烈的關(guān)連性，這種測試方法無法保證隔膜成品率。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0004]本發(fā)明的目的在于克服現(xiàn)有技術(shù)的不足，提供一種能夠檢測隔膜內(nèi)部結(jié)構(gòu)均勻性，提高隔膜產(chǎn)品成品率的隔膜均勻性檢測方法及其檢測裝置。
[0005]為了實現(xiàn)上述目的，本發(fā)明采用的技術(shù)方案為:
[0006]該隔膜均勻性檢測方法，在隔膜兩側(cè)各放置一偏光片；在其中一偏光片外側(cè)放置光源，光源發(fā)光經(jīng)該偏光片射入，照射隔膜后，再由另一偏光片射出；根據(jù)另一偏光片射出的光線色彩分布判定隔膜的均勻性。
[0007]所述偏光片射出的光線通過CXD圖像傳感器傳送給和CXD圖像傳感器連接的處理器，通過處理器分析判斷隔膜的均勻性。
[0008]所述偏光片光軸方向和所述隔膜表面夾角為45° ±10°。
[0009]所述光源發(fā)出的可見光波長為400?700nm。
[0010]所述隔膜為押出膜、貼合膜、復(fù)合膜或熱處理膜。
[0011]該隔膜均勻性檢測裝置，包括設(shè)在所述隔膜兩側(cè)的偏光片，在設(shè)于所述隔膜一側(cè)的偏光片外側(cè)設(shè)有光源。
[0012]在設(shè)于所述隔膜另一側(cè)的偏光片外側(cè)設(shè)有連接有處理器的CXD圖像傳感器。
[0013]所述偏光片光軸方向和所述隔膜表面夾角為45° ±10°。
[0014]本發(fā)明的優(yōu)點在于:該隔膜均勻性檢測方法，在隔膜兩側(cè)設(shè)置偏光片，利用偏光片與測量物之間的光學(xué)特性使薄膜呈現(xiàn)不同的色彩變化，根據(jù)色彩變化判斷薄膜整體的厚度、應(yīng)力分布和材料結(jié)構(gòu)的均勻性。根據(jù)薄膜均勻性檢測結(jié)果，利用人工或自動方式回饋調(diào)整薄膜制作過程與設(shè)備參數(shù)，以得到高均勻性的薄膜，使薄膜成品率得到提升與改善。該隔膜均勻性檢測裝置，用于薄膜均勻性檢測，能夠通過薄膜均勻性檢測結(jié)果，判斷薄膜內(nèi)部均勻性，以進一步調(diào)整工藝，來提高薄膜成品率?！緦＠綀D】

【附圖說明】
[0015]下面對本發(fā)明說明書各幅附圖表達的內(nèi)容及圖中的標(biāo)記作簡要說明:
[0016]圖1為本發(fā)明隔膜均勻性檢測裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0017]圖2為圖1隔膜均勻性檢測裝置的偏光片和隔膜之間的重疊結(jié)構(gòu)示意圖。
[0018]上述圖中的標(biāo)記均為:
[0019]1、隔膜,2、上偏光片,3、下偏光片,4、光源，5、(XD圖像傳感器。
【具體實施方式】
[0020]下面對照附圖，通過對最優(yōu)實施例的描述，對本發(fā)明的【具體實施方式】作進一步詳細的說明。
[0021]如圖1和圖2所示，該隔膜均勻性檢測裝置，包括設(shè)在隔膜I兩側(cè)的偏光片，偏光片分為上偏光片2和下偏光片3,在設(shè)于隔膜I 一側(cè)的偏光片(即下偏光片3)外側(cè)設(shè)有光源4。
[0022]在設(shè)于隔膜I另一側(cè)的偏光片(即上偏光片2)外側(cè)設(shè)有連接有處理器的CXD圖像傳感器5。處理器讀取CCD圖像傳感器5采集的色彩信息后，與內(nèi)部預(yù)先存儲的設(shè)定值進行分析比較判斷，以確定隔膜均勻性程度。
[0023]偏光片光軸方向和隔膜I表面(薄膜I加工方向)夾角為45° ±10°。
[0024]該隔膜均勻性檢測方法，利用隔膜均勻性檢測裝置來實現(xiàn)，在隔膜I兩側(cè)各放置一偏光片；偏光片分為上偏光片2和下偏光片3,在下偏光片3外側(cè)放置光源4,光源4發(fā)光經(jīng)該下偏光片3射入，照射隔膜I后，再由上偏光片2射出；根據(jù)上偏光片2射出的光線色彩分布判定隔膜的均勻性。
[0025]通過光線色彩分布判定隔膜I的均勻性，可通過人眼判斷，亦可經(jīng)過圖像處理裝置判斷。優(yōu)選偏光片射出的光線通過CCD圖像傳感器傳送給和CCD圖像傳感器連接的處理器，通過處理器分析判斷隔膜的均勻性。
[0026]優(yōu)選偏光片光軸方向和隔膜表面夾角為45° ±10°。
[0027]光源4可為任何發(fā)光方式的光源發(fā)生器發(fā)出，光源4發(fā)出的可見光波長為400?700nmo
[0028]隔膜I為前軀膜，隔膜I可為押出膜、貼合膜、復(fù)合膜或熱處理膜。
[0029]該隔膜均勻性檢測方法，利用偏光片重疊于隔膜I兩側(cè)上，偏光片的吸收軸與被檢測物表面(即薄膜加工方向)進行特定角度排列后，經(jīng)由外部光源的穿射，如果測量物本身不均勻的話會呈現(xiàn)出不同的色彩分布，反之，當(dāng)測量物越均勻的話色彩越呈現(xiàn)一致性的表現(xiàn)。根據(jù)色彩分布判斷隔膜內(nèi)部均勻性。
[0030]本發(fā)明利用利用偏光片與測量物之間的光學(xué)特性使薄膜呈現(xiàn)不同的色彩變化，可判斷薄膜整體的均勻性(包含:厚度、應(yīng)力分布、材料結(jié)構(gòu))。本發(fā)明能判斷前軀膜的均勻性，此結(jié)果可以利用人工或自動(在線)的方式回饋調(diào)整制作工藝過程與設(shè)備參數(shù)得到高均勻性的薄膜，進而使成品率得到了提升與改善。
[0031]顯然本發(fā)明具體實現(xiàn)并不受上述方式的限制，只要采用了本發(fā)明的方法構(gòu)思和技術(shù)方案進行的各種非實質(zhì)性的改進，均在本發(fā)明的保護范圍之內(nèi)。
【權(quán)利要求】
1.一種隔膜均勻性檢測方法,其特征在于:在隔膜兩側(cè)各放置一偏光片；在其中一偏光片外側(cè)放置光源，光源發(fā)光經(jīng)該偏光片射入，照射隔膜后，再由另一偏光片射出；根據(jù)另一偏光片射出的光線色彩分布判定隔膜的均勻性。
2.如權(quán)利要求1所述的隔膜均勻性檢測方法，其特征在于:所述偏光片射出的光線通過CXD圖像傳感器傳送給和CXD圖像傳感器連接的處理器，通過處理器分析判斷隔膜的均勻性。
3.如權(quán)利要求2所述的隔膜均勻性檢測方法，其特征在于:所述偏光片光軸方向和所述隔膜表面夾角為45° ±10°。
4.如權(quán)利要求1或2或3或4所述的隔膜均勻性檢測方法，其特征在于:所述光源發(fā)出的可見光波長為400?700nm。
5.如權(quán)利要求4所述的隔膜均勻性檢測方法，其特征在于:所述隔膜為押出膜、貼合膜、復(fù)合膜或熱處理膜。
6.一種隔膜均勻性檢測裝置，其特征在于:包括設(shè)在所述隔膜兩側(cè)的偏光片，在設(shè)于所述隔膜一側(cè)的偏光片外側(cè)設(shè)有光源。
7.如權(quán)利要求6所述的隔膜均勻性檢測裝置，其特征在于:在設(shè)于所述隔膜另一側(cè)的偏光片外側(cè)設(shè)有連接有處理器的CXD圖像傳感器。
8.如權(quán)利要求7所述的隔膜均勻性檢測裝置，其特征在于:所述偏光片光軸方向和所述隔膜表面夾角為45° ±10°。
【文檔編號】G01N21/25GK103487381SQ201310422914
【公開日】2014年1月1日 申請日期:2013年9月16日 優(yōu)先權(quán)日:2013年9月16日
【發(fā)明者】陳信維 申請人:達尼特材料科技（蕪湖）有限公司