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抗污染的粉塵檢測機構(gòu)的制作方法

文檔序號:6185116閱讀:262來源:國知局
抗污染的粉塵檢測機構(gòu)的制作方法
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種抗污染的粉塵檢測機構(gòu),所述暗室(1)的左壁上裝設有第一激光發(fā)射器(3),該第一激光發(fā)射器(3)的發(fā)射口指向?qū)ι淇祝?a),所述暗室(1)的右壁外側(cè)裝設有中空的防塵殼(4),且該防塵殼(4)兩端開口,所述防塵殼(4)的內(nèi)腔(4a)的大端與暗室(1)內(nèi)部相通,該防塵殼(4)的內(nèi)腔(4a)的小端外側(cè)連接有光電傳感器(5),所述光電傳感器(5)的中心線、第一激光發(fā)射器(3)的中心線和兩個對射孔(2a)的中心線均位于同一直線上。本發(fā)明采用了防氣流斜坡來阻攔粉塵對光電傳感器的污染,同時使用了第二激光發(fā)射器來檢測低濃度粉塵濃度,還具有改造成本低、抗污染能力強和檢測精度較高等特點。
【專利說明】抗污染的粉塵檢測機構(gòu)
【技術領域】
[0001]本發(fā)明涉及一種用于檢測空氣中粉塵濃度的粉塵檢測機構(gòu)。
【背景技術】
[0002]粉塵是指懸浮在空氣中的固體微粒。在大氣中粉塵的存在是保持地球溫度的主要原因之一,大氣中過多或過少的粉塵將對環(huán)境產(chǎn)生災難性的影響。但在生活和工作中,生產(chǎn)性粉塵是人類健康的天敵,是誘發(fā)多種疾病的主要原因。檢測空氣中粉塵濃度有很多方法,目前利用光學檢測原理研制的粉塵濃度傳感器,為了防止環(huán)境光的干擾大多采用了屏蔽原理的結(jié)構(gòu),在一個屏蔽光線的暗室內(nèi)通入穿含塵氣流,在暗室內(nèi)裝設有激光發(fā)射器和光傳感器,使激光發(fā)射器和光傳感器之間的光線能夠從穿含塵氣流中穿過,來檢測含塵氣流管中含塵氣流的粉塵濃度,而含塵氣流噴射出來時都帶有一定沖擊力,在傳感器長時間工作情況下,含塵氣流容易污染暗室中的光電傳感器,從而影響測量精度,因此需要一種全新的能夠防止含塵氣流污染光電傳感器的檢測機構(gòu)。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]本發(fā)明所要解決的技術問題在于提供一種防止光電傳感器被污染的檢測機構(gòu)。
[0004]本發(fā)明的技術方案如下:一種抗污染的粉塵檢測機構(gòu),包括暗室(I ),所述暗室(I)為不透光的箱體結(jié)構(gòu),暗室(I)內(nèi)上下貫穿有含塵氣流管(2 ),該含塵氣流管(2 )上下兩端均伸出暗室(I)外,所述含塵氣流管(2 )管壁上水平對穿開設有兩個對射孔(2a),兩個該對射孔(2a)均位于暗室(I)內(nèi),且分別朝向暗室(I)的左右兩壁,所述暗室(I)的左壁上裝設有第一激光發(fā)射器(3),該第一激光發(fā)射器(3)的發(fā)射口指向?qū)ι淇?2a),所述暗室(I)的右壁外側(cè)裝設有中空的防塵殼(4),該防塵殼(4)的內(nèi)腔(4a)為圓臺形或棱臺形,且該防塵殼(4)兩端開口,所述防塵殼(4)的內(nèi)腔(4a)的大端與暗室(I)內(nèi)部相通,該防塵殼(4)的內(nèi)腔(4a)的小端外側(cè)連接有光電傳感器(5),所述光電傳感器(5)的中心線、第一激光發(fā)射器(3)的中心線和兩個對射孔(2a)的中心線均位于同一直線上。
[0005]使用上述結(jié)構(gòu)的暗室,含塵氣流在含塵氣流管中流動,由于含塵氣流管位于機構(gòu)中的部分對穿開設有兩個對射孔,暗室左壁的激光發(fā)射器發(fā)射出光線,從對射孔中穿過,被暗室右壁的光電傳感器所接收,即可檢測到含塵氣流管中的粉塵濃度。當粉塵從含塵氣流管壁上的對射孔中噴出進入到暗室后,由于氣流的沖擊力會向外擴散,由于光電傳感器安裝在棱臺或圓臺的小端外側(cè),當粉塵從棱臺或圓臺的大端越來越接近光電傳感器時,由于棱臺或圓臺傾斜面的阻攔,粉塵的沖擊力會越來越小直至粉塵停止運動,從而減少粉塵對光電傳感器的污染。
[0006]在所述含塵氣流管(2 )還水平對穿開設有兩個散射孔(2b ),兩個該散射孔(2b )的中心線和兩個對射孔(2a)的中心線均位于同一水平面上,且兩個該散射孔(2b)分別朝向暗室(I)的前后兩壁,所述暗室(I)的前壁上裝設有第二激光發(fā)射器(6),該第二激光發(fā)射器(6)的發(fā)射口指向散射孔(2b),且該第二激光發(fā)射器(6)的中心線和兩個散射孔(2b)的中心線均位于同一直線上,所述暗室(I)的后壁內(nèi)側(cè)為激光陷阱面。當粉塵濃度較低時,采用對射原理檢測含塵氣流管內(nèi)的粉塵濃度的精度達不到檢測要求,就需要采用散射原理來對含塵氣流管內(nèi)的粉塵濃度進行檢測,關閉第一激光發(fā)射器,設置在光電傳感器所在側(cè)壁旁邊側(cè)面上的第二激光發(fā)射器發(fā)射出來的激光從散射孔進入含塵氣流管后,由于其激光發(fā)生散射,就可以從對射孔散射進入到光電傳感器內(nèi),被光電傳感器所捕捉,從而檢測得到粉塵濃度,而從第二激光發(fā)射器發(fā)出的光線從散射孔進入到激光陷阱面后,被激光陷阱面所捕捉,防止因為反射造成檢測精度降低。
[0007]有益效果:本發(fā)明采用了防氣流斜坡來阻攔粉塵對光電傳感器的污染,同時使用了第二激光發(fā)射器來檢測低濃度粉塵濃度,還具有改造成本低、抗污染能力強和檢測精度較聞等特點。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0008]圖1為本發(fā)明的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0009]圖2為圖1的俯視圖。
【具體實施方式】
[0010]下面結(jié)合附圖和實施例對本發(fā)明作進一步說明。
[0011]如圖1、圖2所示,本發(fā)明包括暗室1、含塵氣流管2、第一激光發(fā)射器3、防塵殼4、光電傳感器5、和第二激光發(fā)射器6等部件,所述暗室I為不透光的箱體結(jié)構(gòu),暗室I內(nèi)上下貫穿有含塵氣流管2,該含塵氣流管2上下兩端均伸出暗室I外,所述含塵氣流管2管壁上水平對穿開設有兩個對射孔2a,兩個該對射孔2a均位于暗室I內(nèi),且分別朝向暗室I的左右兩壁,所述暗室I的左壁上裝設有第一激光發(fā)射器3,該第一激光發(fā)射器3的發(fā)射口指向?qū)ι淇?a,所述暗室I的右壁外側(cè)裝設有中空的防塵殼4,該防塵殼4的內(nèi)腔4a為圓臺形或棱臺形,且該防塵殼4兩端開口,所述防塵殼4的內(nèi)腔4a的大端與暗室I內(nèi)部相通,該防塵殼4的內(nèi)腔4a的小端外側(cè)連接有光電傳感器5,所述光電傳感器5的中心線、第一激光發(fā)射器3的中心線和兩個對射孔2a的中心線均位于同一直線上。在所述含塵氣流管2還水平對穿開設有兩個散射孔2b,兩個該散射孔2b的中心線和兩個對射孔2a的中心線均位于同一水平面上,且兩個該散射孔2b分別朝向暗室I的前后兩壁,所述暗室I的前壁上裝設有第二激光發(fā)射器6,該第二激光發(fā)射器6的發(fā)射口指向散射孔2b,且該第二激光發(fā)射器6的中心線和兩個散射孔2b的中心線均位于同一直線上,所述暗室I的后壁內(nèi)側(cè)為激光陷阱面。
[0012]以上所述僅為本發(fā)明的較佳實施例而已,并不以本說明書為限制,凡在本發(fā)明的精神和原則之內(nèi)所作的任何修改、等同替換和改進如改變表架和基準柱的數(shù)量等,均應包含在本發(fā)明的保護范圍之內(nèi)。
【權(quán)利要求】
1.一種抗污染的粉塵檢測機構(gòu),其特征在于:包括暗室(1),所述暗室(I)為不透光的箱體結(jié)構(gòu),暗室(I)內(nèi)上下貫穿有含塵氣流管(2),該含塵氣流管(2)上下兩端均伸出暗室(1)外,所述含塵氣流管(2)管壁上水平對穿開設有兩個對射孔(2a),兩個該對射孔(2a)均位于暗室(I)內(nèi),且分別朝向暗室(I)的左右兩壁,所述暗室(I)的左壁上裝設有第一激光發(fā)射器(3),該第一激光發(fā)射器(3)的發(fā)射口指向?qū)ι淇?2a),所述暗室(I)的右壁外側(cè)裝設有中空的防塵殼(4),該防塵殼(4)的內(nèi)腔(4a)為圓臺形或棱臺形,且該防塵殼(4)兩端開口,所述防塵殼(4)的內(nèi)腔(4a)的大端與暗室(I)內(nèi)部相通,該防塵殼(4)的內(nèi)腔(4a)的小端外側(cè)連接有光電傳感器(5),所述光電傳感器(5)的中心線、第一激光發(fā)射器(3)的中心線和兩個對射孔(2a)的中心線均位于同一直線上。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的抗污染的粉塵檢測機構(gòu),其特征在于:在所述含塵氣流管(2)還水平對穿開設有兩個散射孔(2b),兩個該散射孔(2b)的中心線和兩個對射孔(2a)的中心線均位于同一水平面上,且兩個該散射孔(2b)分別朝向暗室(I)的前后兩壁,所述暗室(I)的前壁上裝設有第二激光發(fā)射器(6 ),該第二激光發(fā)射器(6 )的發(fā)射口指向散射孔(2b),且該第二激光發(fā)射器(6)的中心線和兩個散射孔(2b)的中心線均位于同一直線上,所述暗室(I)的后壁內(nèi) 側(cè)為激光陷阱面。
【文檔編號】G01N15/06GK103604731SQ201310608183
【公開日】2014年2月26日 申請日期:2013年11月25日 優(yōu)先權(quán)日:2013年11月25日
【發(fā)明者】黃衛(wèi), 吳付祥, 施元春, 王杰, 戴小平, 李德文, 周浬皋, 趙政, 劉國慶, 張強 申請人:中煤科工集團重慶研究院有限公司
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