應(yīng)用于激光成像系統(tǒng)中不同厚度基板的標(biāo)定方法及裝置制造方法
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種應(yīng)用于激光成像系統(tǒng)中不同厚度基板的標(biāo)定裝置，所述標(biāo)定裝置包括：工作平臺、龍門、標(biāo)定尺、斜墊塊、圖像采集設(shè)備CCD，單軸位移平臺，所述吸盤放置于所述工作平臺上，所述標(biāo)定尺放置于所述斜墊塊上且設(shè)置有等間距的固定圖形，所述斜墊塊放置于所述吸盤一側(cè)，所述工作平臺上設(shè)有龍門，所述CCD通過所述單軸位移平臺與所述龍門上滑動連接。相應(yīng)地，本發(fā)明提供了一種應(yīng)用于激光成像系統(tǒng)中不同厚度基板的標(biāo)定方法，本發(fā)明結(jié)構(gòu)簡單，測量誤差較小，實用性較強，通過簡單的結(jié)構(gòu)能夠?qū)崿F(xiàn)標(biāo)定CCD的測量變化，通過測量結(jié)果計算出CCD在圖像采集過程中發(fā)生的偏移誤差，對CCD的位移平臺進行補償。
【專利說明】應(yīng)用于激光成像系統(tǒng)中不同厚度基板的標(biāo)定方法及裝置
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明屬于印刷線路板設(shè)備【技術(shù)領(lǐng)域】，尤其是涉及一種應(yīng)用于激光成像系統(tǒng)中不同厚度基板的標(biāo)定方法及裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]激光成像系統(tǒng)是在有襯底的表面上直接顯示設(shè)計的圖像，用紫外光、遠紫外光、準(zhǔn)直光等經(jīng)空間光調(diào)制器SLM和投影物鏡將光投向襯底的表面，觸發(fā)襯底的表面感光材料的光觸反應(yīng)，曝光結(jié)束的襯底經(jīng)顯影劑等處理，顯示出設(shè)計的圖像，成像精度高，最小線寬達10 μ m0
[0003]在實際使用中，放置于吸盤上的基板厚度在0_5mm之間，但相機焦深僅1mm，面對不同厚度的基板，精確測量時，需上下移動相機，使得圖形標(biāo)記處于焦深范圍內(nèi)。在通過電機上下移動過程中，由于不存在絕對垂直的電機對圖形標(biāo)記，會產(chǎn)生10微米左右的誤差，但激光成像系統(tǒng)中能忍受的最大誤差在3微米以內(nèi)，如此大的誤差會導(dǎo)致相機無法標(biāo)定。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0004]本發(fā)明的目的是提供一種標(biāo)定位移平臺線性度的方法及系統(tǒng)，以解決現(xiàn)有技術(shù)中存在的上述缺陷。
[0005]為實現(xiàn)本發(fā)明的目的，本發(fā)明提供了一種應(yīng)用于激光成像系統(tǒng)中不同厚度基板的標(biāo)定裝置，所述標(biāo)定裝置包括:工作平臺、龍門、標(biāo)定尺、斜墊塊、圖像采集設(shè)備(XD，單軸位移平臺，所述吸盤放置于所述工作平臺上，所述標(biāo)定尺放置于所述斜墊塊上且設(shè)置有等間距的固定圖形，所述斜墊塊放置于所述吸盤一側(cè)，所述工作平臺上設(shè)有龍門，所述CCD通過所述單軸位移平臺與所述龍門上滑動連接。
[0006]優(yōu)選地，所述斜墊塊較高一端高度為5mm,較低一端為0mm。
[0007]相應(yīng)地，本發(fā)明提供了一種應(yīng)用于激光成像系統(tǒng)中不同厚度基板的標(biāo)定方法，所述標(biāo)定方法包括如下步驟:
[0008]第I步，CXD獲取標(biāo)定尺上第一固定圖形進行定位，獲取所述第一固定圖形的坐標(biāo)(xl>yl)；
[0009]第2步，基板厚度為H，垂直移動(XD距離H，移動吸盤使得所述基板與所述標(biāo)定尺都在所述CCD焦深內(nèi)；
[0010]第3步，C⑶獲取標(biāo)定尺上第二固定圖形進行定位，獲取所述第二固定圖形的坐標(biāo)(x2、y2)；
[0011]第4步，所述第一固定圖形與所述第二固定圖形之間的距離為L，標(biāo)定尺傾斜角為α，則計算CCD移動后的偏移為:Χ軸偏移:X1-X2-LC0S α，Y軸偏移:y2-yl_H。
[0012]優(yōu)選地，所述斜墊塊較高一端高度為5mm,較低一端為0mm。
[0013]本發(fā)明的有益效果為，本發(fā)明結(jié)構(gòu)簡單，測量誤差較小，實用性較強，通過簡單的結(jié)構(gòu)能夠?qū)崿F(xiàn)標(biāo)定CCD的測量變化，通過測量結(jié)果計算出CCD在圖像采集過程中發(fā)生的偏移誤差，對CCD的位移平臺進行補償，。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0014]圖1為本發(fā)明的裝置結(jié)構(gòu)示意圖；
[0015]圖2為本發(fā)明提供的標(biāo)定尺結(jié)構(gòu)示意圖；
[0016]圖3為本發(fā)明提供的CCD獲取標(biāo)定尺第一固定圖形示意圖；
[0017]圖4為本發(fā)明提供的CCD獲取標(biāo)定尺第二固定圖形示意圖；
[0018]圖5為本發(fā)明提供的方法流程圖；
[0019]圖中，1-吸盤，2-斜墊塊，3-龍門，4-標(biāo)定尺，5-圖像采集設(shè)備，6_單軸位移平臺，7-標(biāo)定尺上第一固定圖形，8-標(biāo)定尺上第二固定圖形。
【具體實施方式】
[0020]為了使本發(fā)明的目的、技術(shù)方案及有益效果更加清楚明白，以下結(jié)合實施例，對本發(fā)明進行進一步詳細說明。應(yīng)當(dāng)理解為此處所描述的具體實施例僅僅用以解釋本發(fā)明，并不用于限制本發(fā)明的保護范圍。
[0021]如圖1、圖2、圖3、圖4所示，本發(fā)明提供了一種應(yīng)用于激光成像系統(tǒng)中不同厚度基板的標(biāo)定裝置，所述標(biāo)定裝置包括:工作平臺、龍門、標(biāo)定尺、斜墊塊、圖像采集設(shè)備(XD，單軸位移平臺，所述吸盤放置于所述工作平臺上，所述標(biāo)定尺放置于所述斜墊塊上且設(shè)置有等間距的固定圖形，所述斜墊塊放置于所述吸盤一側(cè)，所述工作平臺上設(shè)有龍門，所述CCD通過所述單軸位移平臺與所述龍門上滑動連接。
[0022]優(yōu)選地，所述斜墊塊較高一端高度為5mm,較低一端為0mm。
[0023]在激光成像系統(tǒng)中，基板的厚度一般不超過5_，所以，本發(fā)明中利用一塊斜墊塊作為標(biāo)定用，斜墊塊的較高一端為5mm,較低一端為0_。通過在所述標(biāo)尺上任意兩點之間的取值，經(jīng)過計算后測量出，位移平臺的偏移，對位移平臺進行補償。
[0024]使用的時候，由圖像采集設(shè)備C⑶獲取標(biāo)定尺上一固定圖形位置進行定位，獲取坐標(biāo)pi (xl、yI )，根據(jù)基板厚度Hl，移動CXD距離Hl，移動吸盤，X軸移動Al，Y軸移動BI，保證基板與標(biāo)定尺都在CCD相機焦深內(nèi)，由CCD獲取標(biāo)定尺上一最清晰圖形位置，進行定位獲取坐標(biāo)p2(X2，Y2)。標(biāo)定尺上圖形間距相等，得到pi與ρ2間的距離為L，由于標(biāo)定尺傾斜角度α，吸盤理論移動距離為L*cos α。通過pi得到的坐標(biāo)，與ρ2得到的坐標(biāo)和(XDJl盤移動的距離，計算出CCD移動后的偏移誤差。
[0025]計算方式為:Χ軸的偏移X=Xl-X2_L*cos α
[0026]Y 軸的偏移 Υ=Υ2-Υ1_Η1
[0027]利用得到的偏移誤差，對安裝有CCD的位移平臺進行補償。
[0028]相應(yīng)地，如圖5所示，本發(fā)明提供了一種應(yīng)用于激光成像系統(tǒng)中不同厚度基板的標(biāo)定方法，所述標(biāo)定方法包括如下步驟:
[0029]步驟501，C⑶獲取標(biāo)定尺上第一固定圖形進行定位，獲取所述第一固定圖形的坐標(biāo)(xl、yl)；
[0030]步驟502，基板厚度為H，垂直移動CXD距離H，移動吸盤使得所述基板與所述標(biāo)定尺都在所述CCD焦深內(nèi)；[0031]步驟503，C⑶獲取標(biāo)定尺上第二固定圖形進行定位，獲取所述第二固定圖形的坐標(biāo)(x2、y2)；
[0032]步驟504，所述第一固定圖形與所述第二固定圖形之間的距離為L，標(biāo)定尺傾斜角為α，則計算CCD移動后的偏移為:Χ軸偏移:X1-X2-LC0S α，Y軸偏移:y2-yl_H。
[0033]優(yōu)選地，所述斜墊塊較高一端高度為5mm,較低一端為0mm。
[0034]本發(fā)明的有益效果為，本發(fā)明結(jié)構(gòu)簡單，測量誤差較小，實用性較強，通過簡單的結(jié)構(gòu)能夠?qū)崿F(xiàn)標(biāo)定CCD的測量變化，通過測量結(jié)果計算出CCD在圖像采集過程中發(fā)生的偏移誤差，對CCD的位移平臺進行補償。
[0035]以上所述僅是本發(fā)明的優(yōu)選實施方式，應(yīng)當(dāng)指出，對于本【技術(shù)領(lǐng)域】的普通技術(shù)人員來說，在不脫離本發(fā)明原理的前提下，還可以做出若干改進和潤飾，這些改進和潤飾也應(yīng)視為本發(fā)明的保護范圍。
【權(quán)利要求】
1.一種應(yīng)用于激光成像系統(tǒng)中不同厚度基板的標(biāo)定裝置，其特征在于，所述標(biāo)定裝置包括:工作平臺、龍門、標(biāo)定尺、斜墊塊、圖像采集設(shè)備(XD，單軸位移平臺，所述吸盤放置于所述工作平臺上，所述標(biāo)定尺放置于所述斜墊塊上且設(shè)置有等間距的固定圖形，所述斜墊塊放置于所述吸盤一側(cè)，所述工作平臺上設(shè)有龍門，所述CCD通過所述單軸位移平臺與所述龍門上滑動連接。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的應(yīng)用于激光成像系統(tǒng)中不同厚度基板的標(biāo)定裝置，其特征在于，所述斜墊塊較高一端高度為5mm,較低一端為Omm。
3.一種應(yīng)用于激光成像系統(tǒng)中不同厚度基板的標(biāo)定方法，其特征在于，所述標(biāo)定方法包括如下步驟: 第I步，CCD獲取標(biāo)定尺上第一固定圖形進行定位，獲取所述第一固定圖形的坐標(biāo)(xl、yi)； 第2步，基板厚度為H，垂直移動CCD距離H，移動吸盤使得所述基板與所述標(biāo)定尺都在所述CCD焦深內(nèi)； 第3步，CCD獲取標(biāo)定尺上第二固定圖形進行定位，獲取所述第二固定圖形的坐標(biāo)(x2、y2)； 第4步，所述第一固定圖形與所述第二固定圖形之間的距離為L，標(biāo)定尺傾斜角為α，則計算CCD移動后的偏移為:Χ軸偏移:X1-X2-LC0S α，Y軸偏移:y2-yl_H。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的應(yīng)用于激光成像系統(tǒng)中不同厚度基板的標(biāo)定方法，其特征在于，所述斜墊塊較高一端高度為5mm,較低一端為0mm。
【文檔編號】G01B11/03GK103615979SQ201310659550
【公開日】2014年3月5日 申請日期:2013年12月5日 優(yōu)先權(quán)日:2013年12月5日
【發(fā)明者】李顯杰, 趙飛 申請人:天津芯碩精密機械有限公司