一種可進行自清潔的電子分析天平的制作方法
【專利摘要】本實用新型涉及一種可進行自清潔的電子分析天平，包括測量基座與設(shè)置在測量基座上的測量室，所述電子分析天平包含有設(shè)立在測量基座上的清潔室；所述清潔室有超聲波清潔裝置與干燥裝置組成；所述超聲波清潔裝置由超聲波發(fā)生器、超聲波換能器與清潔劑噴射裝置組成；所述測量室內(nèi)設(shè)有干燥裝置，所述干燥裝置包含有電加熱管；所述電加熱管由清潔室延伸至測量室內(nèi)；采用上述技術(shù)方案的電子分析天平，確保其測量平臺與待測物體表面沒有污垢，從而得到更為精確的測量結(jié)果；同時采用電熱管對測量室內(nèi)加熱，可以快速蒸發(fā)測量平臺與待測物體上的殘留清潔劑，減少測量誤差，并能保持測量室內(nèi)干燥，避免空氣潮濕而影響測量數(shù)據(jù)。
【專利說明】—種可進行自清潔的電子分析天平
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001 ] 本實用新型涉及一種天平，尤其是一種可進行自清潔的電子分析天平。
【背景技術(shù)】
[0002]電子分析天平作為精密測量工具已在工業(yè)、醫(yī)療、化工等領(lǐng)域得到廣泛的運用。由于電子分析天平的待測對象對測量精度具有極高要求，測量過程中的絲毫誤差均有可能影響測量結(jié)果。電子分析天平在長期使用中其表面必然會留下或多或少的灰塵與污垢，同時待測物體在生產(chǎn)、運輸過程中也難以表面的潔凈；上述污垢均有可能影響待測天平的測量結(jié)果，而簡單的擦洗通常難以除盡污垢。
實用新型內(nèi)容
[0003]本發(fā)明要解決的技術(shù)問題是提供一種電子分析天平，其可以有效清潔天平表面與待測物體的表層污垢，從而提高測量精度。
[0004]為解決上述技術(shù)問題，本實用新型提供了一種可進行自清潔的電子分析天平，包括測量基座與設(shè)置在測量基座上的測量室，所述測量基座包含控制面板、顯示屏，以及設(shè)立在測量基座上表面的測量平臺；所述測量室包括玻璃面板與前開門；所述電子分析天平包含有設(shè)立在測量基座上的清潔室；所述清潔室有超聲波清潔裝置與干燥裝置組成；所述超聲波清潔裝置由超聲波發(fā)生器、超聲波換能器與清潔劑噴射裝置組成；所述測量室內(nèi)設(shè)有干燥裝置，所述干燥裝置包含有電加熱管；所述電加熱管由清潔室延伸至測量室內(nèi)。
[0005]作為本實用新型的一種改進，所述超聲波發(fā)生器內(nèi)部設(shè)有放大電路；所述放大電路采用開關(guān)電源形式放大電路。采用開關(guān)電源形式放大電路可以有效提高其放大電路工作效率，從而使得超聲波發(fā)生器輸出功率有所提高。
[0006]作為本實用新型的一種改進，所述超聲波發(fā)生器內(nèi)部設(shè)有電源裝置；所述電源裝置采用它激式電源。采用它激式電源可匹配各類型的輸入電壓。
[0007]作為本實用新型的一種改進，所述清潔劑噴射裝置包含有兩個相互水平的清潔劑出口，所述兩個清潔劑出口處于同一垂線上。采用兩個清潔劑出口，可以同時清潔測量平臺與待測物體，確保其表面無污垢。
[0008]作為本實用新型的另一種改進，所述電加熱管延伸至測量室部分為多根首尾相連的U型管，有效的增加了其散熱面積，加速了測量室內(nèi)的干燥速度。
[0009]作為本實用新型的另一種改進，所述測量基座上設(shè)有引流槽，其可以確保清潔劑不會停留在測量平臺上。
[0010]使用時，清潔劑噴射噴射裝置將清潔劑噴射在測量平臺與待測物體表面，待其覆蓋均勻后，采用超聲波對其進行清潔。清潔完成后的清潔液連通污垢隨引流槽流出，同時電熱管通過升溫使得物體表面殘留清潔劑快速蒸發(fā)。
[0011]采用上述技術(shù)方案的電子分析天平，其可以在測量開始之前對測量平臺與待測物體進行超聲波清洗，確保其表面沒有污垢，從而得到更為精確的測量結(jié)果；同時采用電熱管對測量室內(nèi)加熱，可以快速蒸發(fā)測量平臺與待測物體上的殘留清潔劑，減少測量誤差，并能保持測量室內(nèi)干燥，避免空氣潮濕而影響測量數(shù)據(jù)。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0012]圖1為本實用新型的主視圖；
[0013]附圖標記說明:
[0014]I 一測量基座、2—測量室、3—測量平臺、4 一清潔室、5—超聲波發(fā)生器、6—超聲波換能器、7—清潔劑噴射裝置、8—電熱管、9一引流槽。
【具體實施方式】
[0015]下面結(jié)合附圖和【具體實施方式】，進一步闡明本實用新型，應(yīng)理解下述【具體實施方式】僅用于說明本實用新型而不用于限制本實用新型的范圍。
[0016]如圖1所示的一種可進行自清潔的電子分析天平，包括測量基座I與設(shè)置在測量基座上的測量室2，所述測量基座I包含控制面板、顯示屏，以及設(shè)立在測量基座I上表面的測量平臺3 ;所述測量室包括玻璃面板與前開門；所述電子分析天平包含有設(shè)立在測量基座上的清潔室；所述清潔室4有超聲波清潔裝置與干燥裝置組成；所述超聲波清潔裝置由超聲波發(fā)生器5、超聲波換能器6與清潔劑噴射裝置7組成；所述測量室內(nèi)設(shè)有干燥裝置，所述干燥裝置包含有電加熱管9 ;所述電加熱管9由清潔室4延伸至測量室2內(nèi)。
[0017]作為本實用新型的一種改進，所述超聲波發(fā)生器5內(nèi)部設(shè)有放大電路；所述放大電路采用開關(guān)電源形式放大電路。采用開關(guān)電源形式放大電路可以有效提高其放大電路工作效率，從而使得超聲波發(fā)生器輸出功率有所提高。
[0018]作為本實用新型的一種改進，所述超聲波發(fā)生器5內(nèi)部設(shè)有電源裝置；所述電源裝置采用它激式電源。采用它激式電源可匹配各類型的輸入電壓。
[0019]作為本實用新型的一種改進，所述清潔劑噴射裝置7包含有兩個相互水平的清潔劑出口，所述兩個清潔劑出口處于同一垂線上。采用兩個清潔劑出口，可以同時清潔測量平臺與待測物體，確保其表面無污垢。
[0020]作為本實用新型的另一種改進，所述電加熱管8延伸至測量室部分為多根首尾相連的U型管，有效的增加了其散熱面積，加速了測量室內(nèi)的干燥速度。
[0021]作為本實用新型的另一種改進，所述測量基座上設(shè)有引流槽9，其可以確保清潔劑不會停留在測量平臺上。
[0022]使用時，清潔劑噴射噴射裝置將清潔劑噴射在測量平臺與待測物體表面，待其覆蓋均勻后，采用超聲波對其進行清潔。清潔完成后的清潔液連通污垢隨引流槽流出，同時電熱管通過升溫使得物體表面殘留清潔劑快速蒸發(fā)。
[0023]采用上述技術(shù)方案的電子分析天平，其可以在測量開始之前對測量平臺與待測物體進行超聲波清洗，確保其表面沒有污垢，從而得到更為精確的測量結(jié)果；同時采用電熱管對測量室內(nèi)加熱，可以快速蒸發(fā)測量平臺與待測物體上的殘留清潔劑，減少測量誤差，并能保持測量室內(nèi)干燥，避免空氣潮濕而影響測量數(shù)據(jù)。
[0024]本實用新型方案所公開的技術(shù)手段不僅限于上述實施方式所公開的技術(shù)手段，還包括由以上技術(shù)特征任意組合所組成的技術(shù)方案。
【權(quán)利要求】
1.一種可進行自清潔的電子分析天平，包括測量基座與設(shè)置在測量基座上的測量室，所述測量基座包含控制面板、顯示屏，以及設(shè)立在測量基座上表面的測量平臺；所述測量室包括玻璃面板與前開門；其特征在于，所述電子分析天平包含有設(shè)立在測量基座上的清潔室；所述清潔室有超聲波清潔裝置與干燥裝置組成；所述超聲波清潔裝置由超聲波發(fā)生器、超聲波換能器與清潔劑噴射裝置組成；所述測量室內(nèi)設(shè)有干燥裝置，所述干燥裝置包含有電加熱管；所述電加熱管由清潔室延伸至測量室內(nèi)。
2.按照權(quán)利要求1所述的可進行自清潔的電子分析天平，其特征在于，所述超聲波發(fā)生器內(nèi)部設(shè)有放大電路；所述放大電路采用開關(guān)電源形式放大電路。
3.按照權(quán)利要求1所述的可進行自清潔的電子分析天平，其特征在于，所述超聲波發(fā)生器內(nèi)部設(shè)有電源裝置；所述電源裝置采用它激式電源。
4.按照權(quán)利要求1所述的可進行自清潔的電子分析天平，其特征在于，所述清潔劑噴射裝置包含有兩個相互水平的清潔劑出口，所述兩個清潔劑出口處于同一垂線上。
5.按照權(quán)利要求1所述的可進行自清潔的電子分析天平，其特征在于，所述電加熱管延伸至測量室部分為多根首尾相連的U型管。
6.按照權(quán)利要求1所述的可進行自清潔的電子分析天平，其特征在于，所述測量基座上設(shè)有引流槽。
【文檔編號】G01G23/00GK203587210SQ201320610980
【公開日】2014年5月7日 申請日期:2013年9月30日 優(yōu)先權(quán)日:2013年9月30日
【發(fā)明者】劉達文, 李修強, 初亞飛, 胡佚, 羅永剛, 畢金, 毛宇, 李健, 凌云 申請人:南京白云化工環(huán)境監(jiān)測有限公司