一種可進行水平校準的電子分析天平的制作方法
【專利摘要】本實用新型涉及一種可進行水平校準的電子分析天平,包括測量基座與設(shè)置在測量基座上的測量室,所述測量基座包含控制面板、顯示屏,以及設(shè)立在測量基座上表面的測量平臺;所述測量室包括玻璃面板與前開門;所述測量基座下方設(shè)有至少3根相互間均獨立的支架,所述支架均可進行伸縮;所述測量基座上安裝有水準器,所述水準器內(nèi)部裝填有酒精,水準器內(nèi)包含有一氣泡;所述水準器表面標有分標線;采用上述技術(shù)方案的電子分析天平,其可使得每次測量時的天平均處于水平狀態(tài),從而減少測量誤差,到達電子分析天平精確測量的目的。
【專利說明】一種可進行水平校準的電子分析天平
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實用新型涉及一種天平,尤其是一種可進行水平校準的電子分析天平。
【背景技術(shù)】
[0002]電子分析天平作為精密測量工具已在工業(yè)、醫(yī)療、化工等領(lǐng)域得到廣泛的運用。由于電子分析天平的待測對象對測量精度具有極高要求,測量過程中的絲毫誤差均有可能影響測量結(jié)果。電子分析天平在使用中,時常會由于環(huán)境原因或人為因素導(dǎo)致其難以保持水平狀態(tài),從而影響測量結(jié)果。
實用新型內(nèi)容
[0003]本發(fā)明要解決的技術(shù)問題是提供一種電子分析天平,其可顯示電子分析天平當前是否處于水平位置,并可對其進行調(diào)制。
[0004]為解決上述技術(shù)問題,本實用新型提供了一種可進行水平校準的電子分析天平,包括測量基座與設(shè)置在測量基座上的測量室,所述測量基座包含控制面板、顯示屏,以及設(shè)立在測量基座上表面的測量平臺;所述測量室包括玻璃面板與前開門;所述測量基座下方設(shè)有至少3根相互間均獨立的支架,所述支架均可進行伸縮;所述測量基座上安裝有水準器,所述水準器內(nèi)部裝填有酒精,水準器內(nèi)包含有一氣泡;所述水準器表面標有分標線。
[0005]作為本實用新型的一種改進,所述測量基座下方設(shè)有4根相互間均獨立的支架,其可以確保電子分析天平的穩(wěn)定性。
[0006]作為本實用新型的一種改進,所述支架分為上支架與下支架,所述上下支架之間通過螺紋連接,其可以方便的對支架的高度進行調(diào)整。
[0007]作為本實用新型的另一種改進,所述四根支架內(nèi)部均設(shè)有液壓減震裝置,其可以避免電子分析天平在使用中因觸屏等原因發(fā)生晃動,從而導(dǎo)致測量數(shù)據(jù)不精確的現(xiàn)象。
[0008]作為本實用新型的另一種改進,所述水準器采用管水準器,其精度高于同類別的水準器,可提高電子分析天平的水平位置精確度。
[0009]使用時,使用者可根據(jù)水準器判定電子分析天平是否處于水平狀態(tài),若其不水平,則可通過調(diào)整支架長度使電子分析天平處于水平狀態(tài)。
[0010]采用上述技術(shù)方案的電子分析天平,其可使得每次測量時的天平均處于水平狀態(tài),從而減少測量誤差,到達電子分析天平精確測量的目的。
【專利附圖】
【附圖說明】
[0011]圖1為本實用新型的主視圖;
[0012]圖2為本實用新型中支架內(nèi)部示意圖;
[0013]附圖標記說明:
[0014]I 一測量基座、2—測量室、3—測量平臺、4 一支架、5—液壓減震裝置、6—水準器。【具體實施方式】
[0015]下面結(jié)合附圖和【具體實施方式】,進一步闡明本實用新型,應(yīng)理解下述【具體實施方式】僅用于說明本實用新型而不用于限制本實用新型的范圍。
[0016]如圖1所示的一種可進行水平校準的電子分析天平,包括測量基座I與設(shè)置在測量基座上的測量室2,所述測量基座包含控制面板、顯示屏,以及設(shè)立在測量基座上表面的測量平臺3 ;所述測量室包括玻璃面板與前開門;所述測量基座下方設(shè)有至少3根相互間均獨立的支架4,所述支架4均可進行伸縮;所述測量基座I上安裝有水準器6,所述水準器6內(nèi)部裝填有酒精,水準器內(nèi)包含有一氣泡;所述水準器表面標有分標線。
[0017]作為本實用新型的一種改進,所述測量基座I下方設(shè)有4根相互間均獨立的支架4,其可以確保電子分析天平的穩(wěn)定性。
[0018]作為本實用新型的一種改進,所述支架4分為上支架與下支架,所述上下支架之間通過螺紋連接,其可以方便的對支架的高度進行調(diào)整。
[0019]作為本實用新型的另一種改進,所述四根支架4內(nèi)部均設(shè)有液壓減震裝置5,其可以避免電子分析天平在使用中因觸屏等原因發(fā)生晃動,從而導(dǎo)致測量數(shù)據(jù)不精確的現(xiàn)象。
[0020]作為本實用新型的另一種改進,所述水準器6采用管水準器,其精度高于同類別的水準器,可提高電子分析天平的水平位置精確度。
[0021]使用時,使用者可根據(jù)水準器判定電子分析天平是否處于水平狀態(tài),若其不水平,則可通過調(diào)整支架長度使電子分析天平處于水平狀態(tài)。
[0022]采用上述技術(shù)方案的電子分析天平,其可使得每次測量時的天平均處于水平狀態(tài),從而減少測量誤差,到達電子分析天平精確測量的目的。
[0023]本實用新型方案所公開的技術(shù)手段不僅限于上述實施方式所公開的技術(shù)手段,還包括由以上技術(shù)特征任意組合所組成的技術(shù)方案。
【權(quán)利要求】
1.一種可進行水平校準的電子分析天平,包括測量基座與設(shè)置在測量基座上的測量室,所述測量基座包含控制面板、顯示屏,以及設(shè)立在測量基座上表面的測量平臺;所述測量室包括玻璃面板與前開門;其特征在于,所述測量基座下方設(shè)有至少3根相互間均獨立的支架,所述支架均可進行伸縮;所述測量基座上安裝有水準器,所述水準器內(nèi)部裝填有酒精,水準器內(nèi)包含有一氣泡;所述水準器表面標有分標線。
2.按照權(quán)利要求1所述的可進行水平校準的電子分析天平,其特征在于,所述測量基座下方設(shè)有4根相互間均獨立的支架。
3.按照權(quán)利要求2所述的可進行水平校準的電子分析天平,其特征在于,所述支架分為上支架與下支架,所述上下支架之間通過螺紋連接。
4.按照權(quán)利要求3所述的可進行水平校準的電子分析天平,其特征在于,所述四根支架內(nèi)部均設(shè)有液壓減震裝置。
5.按照權(quán)利要求1所述的可進行水平校準的電子分析天平,其特征在于,所述水準器采用管水準器。
【文檔編號】G01G23/00GK203824637SQ201320611143
【公開日】2014年9月10日 申請日期:2013年9月30日 優(yōu)先權(quán)日:2013年9月30日
【發(fā)明者】劉達文, 李修強, 初亞飛, 胡佚, 羅永剛, 畢金, 毛宇, 李健, 凌云 申請人:南京白云化工環(huán)境監(jiān)測有限公司