用于確定坐標測量裝置中轉(zhuǎn)臺軸線的方法
【專利摘要】用于重復(fù)地確定轉(zhuǎn)臺軸線(D)在坐標測量裝置的裝置坐標系統(tǒng)中的位態(tài)的方法，包括：a)在多個轉(zhuǎn)臺位置中通過KMG的測量系統(tǒng)來探觸處于轉(zhuǎn)臺(3)上的檢驗體(9)并且由探觸點確定所述轉(zhuǎn)臺軸線(D)在所述裝置坐標系統(tǒng)(XKMG,YKMG,ZKMG,Z′KMG)中的X坐標和Y坐標，其中，所述方法還包括：b)通過KMG的所述測量系統(tǒng)來探觸第一探觸體(20)，該第一探觸體安裝在所述轉(zhuǎn)臺(3)的旁邊并且該第一探觸體具有相對于所述轉(zhuǎn)臺軸線(D)的X坐標位置固定地定位的第一探觸體參考點(R1)，并且，確定所述第一探觸體參考點(R1)的X坐標；c)通過KMG的測量系統(tǒng)來探觸第二探觸體(21)，該第二探觸體安裝在所述轉(zhuǎn)臺(3)的旁邊并且該第二探觸體具有相對于所述轉(zhuǎn)臺軸線(D)的Y坐標位置固定地定位的第二探觸體參考點(R2)，并且，確定所述第二探觸體參考點(R2)的Y坐標；d)在一個或多個之后的時間點上重復(fù)步驟b)和c)并且在一個所述之后的時間點或在多個所述隨后的時間點上由所述第一探觸體參考點(R1)的所述X坐標和所述第二探觸體參考點(R2)的所述Y坐標來確定所述轉(zhuǎn)臺軸線的X坐標和Y坐標；以及一種坐標測量裝置，通過該坐標測量裝置可執(zhí)行所述方法。
【專利說明】用于確定坐標測量裝置中轉(zhuǎn)臺軸線的方法
[0001]本發(fā)明涉及一種用于確定坐標測量裝置中轉(zhuǎn)臺軸線的位態(tài)的新式方法。
[0002]坐標測量裝置(KMG)的參考點是裝置坐標系統(tǒng)的原點?！把b置坐標系統(tǒng)”可理解為KMG的預(yù)先給定的坐標系統(tǒng)，該坐標系統(tǒng)平行于KMG的移動軸線(Verfahrachsen)。所有的測量和導(dǎo)出的計算涉及所述參考點。參考點通過所謂的參考點行駛(Referenzpunktfahrt)求取。參考點行駛是用于所有測量的、自動的測量例行程序和前提。參考點行駛至少在KMG投入運行之后實施。在之后的時間點必須重復(fù)對參考點的測量，因為參考點由于溫度影響和其他影響而漂移。
[0003]假如在KMG中使用轉(zhuǎn)臺，那么必須在每次參考點行駛之后重新確定轉(zhuǎn)臺的旋轉(zhuǎn)軸線(也稱為轉(zhuǎn)臺軸線或RT軸線，RT=轉(zhuǎn)臺)在裝置坐標系統(tǒng)中的位態(tài)。轉(zhuǎn)臺軸線限定轉(zhuǎn)臺相對于參考點(裝置零點)的準確位置以及相對于KMG軸線的傾斜，即在裝置坐標系統(tǒng)中的位態(tài)。所有測量元件、檢驗特征和坐標系統(tǒng)在轉(zhuǎn)臺旋轉(zhuǎn)時繞RT軸線在計算上旋轉(zhuǎn)。RT軸線的校量中的誤差則直接影響測量精度。
[0004]由于變化的環(huán)境溫度，也需要有規(guī)律地重新確定RT軸線的位態(tài)。一般地，也應(yīng)該在每次探測器校量(Tastereinmessung)時重新校量轉(zhuǎn)臺軸線。在溫度波動劇烈的情況下，經(jīng)常有意義的是，在每次工件測量之前重新校量轉(zhuǎn)臺軸線。
[0005]例如在文獻W002090879A2中已知并且以不同的變型描述了用于確定轉(zhuǎn)臺軸線在KMG裝置坐標系統(tǒng)中的位態(tài)的方法。該文獻涉及通過探觸一個測試對象來確定坐標測量裝置的特性的方法，其中，該坐標測量裝置除了基座、探頭和傳感器系統(tǒng)之外也包括相對于基座能夠繞旋轉(zhuǎn)軸線旋轉(zhuǎn)的、用于固定待探觸的工件的工件固定裝置。測試對象包括至少兩個測試體,并且每個測試體具有這樣的表面,使得通過以探頭來探觸該表面能夠確定測試體的相對于測試體表面固定布置的至少一個參考點在基座坐標系統(tǒng)中的坐標。所述至少兩個測試體能夠如此固定安裝在工件固定裝置上，使得它們在旋轉(zhuǎn)軸線的方向上相互具有間距。在該方法中，測試對象安裝在工件固定裝置上并且在多個旋轉(zhuǎn)位置上分別確定測試體的參考點。由確定的參考點確定基座坐標系統(tǒng)中的、裝置坐標系統(tǒng)中的旋轉(zhuǎn)軸線。
[0006]在用于確定RT軸線的位態(tài)的傳統(tǒng)方法中，如在W002090879A2中所述，在轉(zhuǎn)臺上固定并且探觸體件例如球或檢驗柱體，最好是在多個轉(zhuǎn)臺位置上。由此計算RT軸線。但是，該方法通常僅當沒有工件處于轉(zhuǎn)臺上時是可用的。即，缺點在于，必須從轉(zhuǎn)臺除去還沒有完成測量的工件，以重新確定RT軸線的位態(tài)。
[0007]也有用于直接在工件上校量RT軸線的方法。然而，該方法要求在工件上足夠平滑的面并且對于每個工件需要重新編程。
[0008]已知所謂的RT偏移量修正(RT-Offset-Korrektur)作為另外的解決方案，例如由Carl Zeiss公司的Umess-UX軟件已知。在此,使校量球以盡可能處于接近RT軸線但處于轉(zhuǎn)臺盤旁邊的方式固定在KMG的裝置基座上。隨后，在裝置坐標系統(tǒng)中確定RT軸線的坐標和校量球的坐標或者說校量球的中心點的坐標，并且使這些坐標相互參照，由此獲得RT軸線和校量球的中心點之間的間距。在參考點行駛之后，通過校準的探針重新確定校量球的位置并且由校量球和RT軸線之間的、之前所求取的間距重新求取RT軸線的位態(tài)。該方法雖然快速，但是非常不準確，因為校量球和RT軸線之間的間距在溫度變化時改變并且沒有被修正。
[0009]本發(fā)明的任務(wù)在于，找到針對一個或多個上述問題的解決方案。尤其是應(yīng)當提出用于確定轉(zhuǎn)臺軸線的位態(tài)的、簡化但是足夠準確的方法。
[0010]根據(jù)本發(fā)明的一般構(gòu)思提出一種方法，該方法適用于通過簡單的方式和方法重復(fù)確定轉(zhuǎn)臺軸線在坐標測量裝置的裝置坐標系統(tǒng)中的位態(tài)。使用具有兩個安裝在其上的探觸體的KMG，所述探觸體分別具有能夠通過探觸來確定的參考點，所謂的“探觸體參考點”。借助于探觸體參考點，可以通過對探觸體的探觸來求取轉(zhuǎn)臺軸線的位態(tài)。探觸體參考點例如處于轉(zhuǎn)臺軸線的X坐標上，或者處于X坐標附近。第二探觸體參考點例如處于轉(zhuǎn)臺軸線的Y坐標上，或者處于Y坐標附近。通過該方法可能的是，確定并且優(yōu)選修正轉(zhuǎn)臺軸線的位置的時間漂移，如果期望的話。以下還提出該方法的優(yōu)點。
[0011]尤其提出一種根據(jù)權(quán)利要求1方法。有利的構(gòu)型在從屬權(quán)利要求中給出。
[0012]尤其是提出一種方法，該方法適用于重復(fù)確定轉(zhuǎn)臺軸線在坐標測量裝置的裝置坐標系統(tǒng)中的位態(tài)，該方法包括:
[0013]a)在多個轉(zhuǎn)臺位置中通過KMG的測量系統(tǒng)來探觸處于轉(zhuǎn)臺上的檢驗體并且由探觸點確定所述轉(zhuǎn)臺軸線在所述裝置坐標系統(tǒng)中的X坐標和Y坐標，
[0014]其中，所述方法還包括:
[0015]b)通過KMG的所述測量系統(tǒng)來探觸第一探觸體，該第一探觸體安裝在所述轉(zhuǎn)臺的旁邊并且該第一探觸體具有相對于所述轉(zhuǎn)臺軸線的X坐標位置固定地定位的第一探觸體參考點，并且，確定所述第一探觸體參考點的X坐標；
[0016]c)通過KMG的測量系統(tǒng)來探觸第二探觸體，該第二探觸體安裝在所述轉(zhuǎn)臺的旁邊并且該第二探觸體具有相對于所述轉(zhuǎn)臺軸線的Y坐標位置固定地定位的第二探觸體參考點，并且，確定所述第二探觸體參考點的Y坐標；
[0017]d)在一個或多個之后的時間點上重復(fù)步驟b)和c)并且在一個所述之后的時間點或在多個所述隨后的時間點上由所述第一探觸體參考點的所述X坐標和所述第二探觸體參考點的所述Y坐標來確定、尤其是來計算所述轉(zhuǎn)臺軸線的X坐標和Y坐標。
[0018]如果坐標測量裝置還未設(shè)有兩個探觸體，該方法還可以包括:
[0019]■在轉(zhuǎn)臺旁邊安裝第一探觸體，其中，第一探觸體具有第一探觸體參考點，并且其中，第一探觸體參考點相對于轉(zhuǎn)臺軸線的X坐標位置固定地定位；
[0020]■在轉(zhuǎn)臺旁邊安裝第二探觸體，其中，第二探觸體具有第二探觸體參考點，并且其中，第二探觸體參考點相對于轉(zhuǎn)臺軸線的Y坐標位置固定地定位。
[0021]KMG的測量系統(tǒng)是觸覺測量系統(tǒng)，因為以該測量系統(tǒng)探觸。觸覺測量系統(tǒng)是已知的。KMG的測量系統(tǒng)尤其具有探測器，如由觸覺KMG普遍已知的那樣。探測器可以具有探觸元件，例如探觸球，或者以其他方式成形的探觸元件。特別地以探測器、更具體地以探測器的探觸元件進行探觸,如由觸覺的KMG普遍已知的那樣。
[0022]在該方法中，可以以任意順序執(zhí)行所列舉的步驟a)至C)。例如，步驟b)和c)可以在步驟a)之前進行。優(yōu)選地，以短的相互的時間間隔實施步驟a)至C)，以避免干擾測量結(jié)果的影響，例如溫度效應(yīng)。
[0023]通過按照本發(fā)明的方法，提供了一種用于確定轉(zhuǎn)臺軸線的空間位態(tài)的準確和快速的方法，該方法普遍可用于所有具有轉(zhuǎn)臺的KMG。轉(zhuǎn)臺軸線的校量可以進行一次，例如借助自身處于轉(zhuǎn)臺上的檢驗體，如上在步驟a)中所說明的那樣。轉(zhuǎn)臺軸線的位態(tài)的之后的確定通過簡化的方式借助探觸體進行，所述探觸體固定在KMG上在轉(zhuǎn)臺旁邊，例如固定在KMG的工件接收部上或測量臺上。探觸體可以與轉(zhuǎn)臺相距這樣遠地定位，使得如果在轉(zhuǎn)臺上夾緊工件也能夠在之后確定轉(zhuǎn)臺軸線的位態(tài)。由此極大地簡化了轉(zhuǎn)臺軸線的位態(tài)的確定。為此，工件不必從轉(zhuǎn)臺取出，并且不再需要在取下和重新放置工件到轉(zhuǎn)臺上之后重新確定工件坐標系統(tǒng)的位態(tài)。
[0024]通過按照本發(fā)明的方法，可以提供用于轉(zhuǎn)臺軸線的位態(tài)確定或者說校量的標準流程，其中，分別僅必須在KMG的坐標系統(tǒng)中確定一個探觸體的一個位置。使用者不必須進行另外的輸入。因為兩個探觸體分別至少在一個坐標上(X或Y)是相對于轉(zhuǎn)臺軸線位置固定地布置的，在漂移修正中不產(chǎn)生不精確性。漂移修正是非常準確的，因為不存在未修正的間距，如在RT偏移修正中那樣。
[0025]此外，兩個探觸體的探觸顯著比用于轉(zhuǎn)臺軸線的至今已知的校量方法快。
[0026]在按照本發(fā)明的方法中,排除了基于CAA(計算機輔助精度改進，Computer AidedAccuracy)剩余誤差的不精確性，因為這些剩余誤差在第一次求取探觸體參考點的位置時和在之后對這些位置進行重新確定時是相同的。
[0027]在按照本發(fā)明的方法中，可以通過簡單的方式確保不變的條件，因為在轉(zhuǎn)臺上和在KMG上不必須進行改變，以便在一個或多個之后的時間點確定轉(zhuǎn)臺軸線的X和Y坐標。這樣，例如不需要的是，為了重新校量轉(zhuǎn)臺軸線而將工件從轉(zhuǎn)臺取下，如上所解釋的那樣。由此，可以排除在(例如由于溫度變化)重新校量轉(zhuǎn)臺軸線時在取下和重新定位工件時的不準確性。由此，該方法使得能夠通過簡單的方式在正在進行測量運行時確定轉(zhuǎn)臺軸線。
[0028]最后，該方法也能夠通過簡單的方式和方法在存在的坐標測量裝置及其控制軟件中加裝備。
[0029]術(shù)語“相對于轉(zhuǎn)臺軸線的X坐標位置固定地定位”和“相對于轉(zhuǎn)臺軸線的Y坐標位置固定地定位”表示，相應(yīng)的參考點至少在所提出的坐標(X或Y)上是位置固定的。在分別未提到的另一坐標上，參考點可以是可變的，如在本發(fā)明的特別實施方式中所提出的那樣。術(shù)語“位置固定”則也可以僅涉及一個坐標，X或Y。但是，術(shù)語“位置固定”也可以涉及多個坐標，如X和Y，這在特別的情況下提出。對于“相對于轉(zhuǎn)臺軸線的X坐標位置固定定位”的另一表達方式是，第一探觸體參考點或者說其位置相對于轉(zhuǎn)臺軸線的X坐標是不可變的。這表示，轉(zhuǎn)臺軸線和第一探觸體參考點之間的間距在X方向上是不變的，尤其在時間上是不可變的。對于“相對于轉(zhuǎn)臺軸線的Y坐標位置固定定位”的另一表達方式是，第二探觸體參考點或者說其位置相對于轉(zhuǎn)臺軸線的Y坐標是不可變的。這表示，轉(zhuǎn)臺軸線和第二探觸體參考點之間的間距在Y方向上是不變的，尤其在時間上是不可變的。
[0030]以下更詳細地描述各個方法步驟，參考具有步驟a)至d)的實施方式，如上所說明。
[0031]方法的步驟a)，在多個轉(zhuǎn)臺位置上探觸處于轉(zhuǎn)臺上的檢驗體，可以以已知的方式和方法進行。用于確定轉(zhuǎn)臺軸線在KMG的裝置坐標系統(tǒng)中的位態(tài)的方法是已知的并且在文獻TO02090879A2中以不同的變型描述，該方法可以使用在按照本發(fā)明的方法的步驟a)中。例子(沒有限制地)是所謂的I球方法、2球方法、檢驗柱體方法和自定心方法。這些方法特別適用于不同的使用情況并且具有確定的特點。根據(jù)附圖的更詳細的描述在例子部分中提出。
[0032]I球方法:
[0033]在該方法中不需要附加的標準。測量可以通過參考探測器實施。參考探測器是這樣的探測器，其形狀是準確已知的，并且在該探測器中優(yōu)選地也準確已知另外的特性，例如軸頸的彎曲剛度。特別地，參考探測器的探觸元件的形狀是準確已知的，例如探觸球的準確形狀，其可以不同于理想的球形。所有測量在KMG的相同的Z高度上實施。KMG的直角度剩余誤差可以在其他Z高度上測量時導(dǎo)致測量誤差。根據(jù)轉(zhuǎn)臺在測量體積中的位置，可能不覆蓋整個旋轉(zhuǎn)區(qū)域。在不太高的精度要求的情況下，I球方法是優(yōu)選的。該方法優(yōu)選用于具有大的直徑的、平的工件(例如盤形齒輪)。如果工件大致處于和之前在軸線確定時的球相同的測量高度上，則實現(xiàn)最高的精度。
[0034]2球方法:
[0035]RT軸線在工件的整個高度上被校量。這樣，KMG的直角度剩余誤差被補償并且不那么強烈地影響測量不可靠性。測量可以以參考探測器實施?；蛘呤褂锰貏e的裝置，在該特別的裝置上固定兩個球，或者在每個流程中手動地確定基座系統(tǒng)。根據(jù)轉(zhuǎn)臺在測量空間中的位置，可能不覆蓋整個旋轉(zhuǎn)區(qū)域。優(yōu)選在高的工件的情況下使用2球方法。
[0036]檢驗柱體方法:
[0037]RT軸線在柱體的整個高度上被校量。這樣，KMG的直角度剩余誤差被補償并且不那么強烈地影響測量不可靠性。測量時間短并且裝置簡單:可以隨時可重現(xiàn)地在轉(zhuǎn)臺上固定柱體。檢驗柱體方法也可以使用在高的工件中。尤其可以使用檢驗柱體方法用于測量具有小的形狀偏差的軸:代替使用檢驗柱體，則在每個測量流程之前直接在工件上確定轉(zhuǎn)臺軸線。
[0038]自定心方法:
[0039]在此，涉及非?？焖俚姆椒āy量可以通過參考探測器實施。所有測量在KMG的相同Z高度上實施。當在其他Z高度上測量時，KMG的直角度剩余誤差可能導(dǎo)致較大測量誤差。根據(jù)轉(zhuǎn)臺在測量空間中的位置，可以不總是覆蓋整個旋轉(zhuǎn)區(qū)域。在自定心方法中，可以將用于校量轉(zhuǎn)臺軸線的元件直接固定在工件板上。因此，可能的是，在沒有大的時間耗費情況下，在每次工件測量之前重新校量轉(zhuǎn)臺軸線。
[0040]在方法的步驟a)中使用的檢驗體尤其可以是球，例如在上述I球方法或2球方法中使用的那樣，或者是柱體，例如在上述檢驗柱體方法中使用的那樣，或者是能夠通過探測器自定心地被探觸的元件，例如錐體、錐形的凹部、孔或球三通體(Kugeltripel)，而不限于此。
[0041]在按照本發(fā)明的方法中，確定轉(zhuǎn)臺軸線的至少一個X坐標和Y坐標。轉(zhuǎn)臺軸線可以與裝置坐標系統(tǒng)的Z軸線平行。在該情況下，轉(zhuǎn)臺軸線的X坐標和Y坐標在其整個長度上是不可變的。但是，轉(zhuǎn)臺軸線可以替代地相對于Z軸線傾斜。在該情況下，轉(zhuǎn)臺軸線的X坐標和Y坐標不是不變的。
[0042]那么，按照本發(fā)明的方法可以在裝置坐標系統(tǒng)的確定的Z高度上實施。換言之，對轉(zhuǎn)臺軸線的X和Y坐標的確定和對探觸體的X和Y坐標的確定可以在Z值不變的情況下、在與X-Y平面平行的測量平面中實施。選擇的Z值或者說與X-Y平面平行的測量平面的間距優(yōu)選與探觸體的形狀和安裝高度相協(xié)調(diào)。如果例如選擇環(huán)形的探觸體，則選擇延伸經(jīng)過環(huán)的單一平面作為測量平面，其方式是，該環(huán)在內(nèi)側(cè)或外側(cè)上被探觸。也可能的是，選擇這樣的探觸體，該探觸體可以在不同的Z高度上被探觸，并且可以在不同的Z高度上確定其X和/或Y坐標(或者體件的參考點的坐標)。為此的一個例子是空心柱體,其在Z方向上具有比環(huán)大的延伸尺寸。在該變型中可能的是，在該方法的步驟a)中在不同的Z高度上測量轉(zhuǎn)臺軸線的X和Y坐標，例如以2球方法在工件的整個Z高度上測量，并且在分別相同的Z高度上確定探觸體的參考點的X和/或Y坐標。
[0043]第一探觸體和第二探觸體定位在轉(zhuǎn)臺旁邊。也就是說，探觸體不隨著轉(zhuǎn)臺一起旋轉(zhuǎn)。探觸體相對于轉(zhuǎn)臺軸線的至少X或Y坐標固定。
[0044]第一探觸體參考點至少就其X坐標而言相對于轉(zhuǎn)臺軸線的Z坐標是相對不可變的?；蛘咿D(zhuǎn)臺軸線和第一探觸體參考點的X坐標是相同的，或者它們具有不可變的間距(偏移量)ΛΧ。在裝置坐標系統(tǒng)的Y方向上，第一探觸體可以是可移動的，或者它也在Y方向上被固定。可以設(shè)置第一探觸體在Y方向上的移動進而第一探觸體參考點的移動，因為這樣能夠使第一探觸體的定位匹配于工件的大小及其空間要求。優(yōu)選地，通過相應(yīng)地安裝第一探觸體，第一探觸體參考點也就其Y坐標而言相對于轉(zhuǎn)臺軸線的Y坐標是相對不可變的。
[0045]第二探觸體參考點至少就其Y坐標而言相對于轉(zhuǎn)臺軸線的Y坐標是相對不可變的?；蛘咿D(zhuǎn)臺軸線和第二探觸體參考點的Y坐標是相同的或者它們具有不可變的間距(偏移量)ΛΥ。在裝置坐標系統(tǒng)的X方向上，第二探觸體可以是可移動的，或者它在X方向上也被固定。可以設(shè)置第二探觸體在X方向上的移動進而第二探觸體參考點的移動，因為這樣可以使第二探觸體的定位匹配于工件的大小及其空間要求。優(yōu)選地，通過相應(yīng)地安裝第二探觸體，第二探觸體參考點也就其X坐標而言相對于轉(zhuǎn)臺軸線的X坐標是相對不可變的。
[0046]如上所解釋的那樣，在該方法中不一定需要的是，第一探觸體的參考點的X坐標與轉(zhuǎn)臺軸線在裝置坐標系統(tǒng)中的X坐標是相同的。同樣不需要的是，第二探觸體的參考點的Y坐標與轉(zhuǎn)臺軸線的在步驟a)中已求取的Y坐標是相同的。然而，力爭達到的是，使X坐標之間的差ΛΧ和Y坐標之間的差Λ Y盡可能小，由此將由于ΛΧ或Λ Y的變化引起的誤差保持得盡可能小。ΛΧ和ΛΥ中的變化例如可以通過熱膨脹產(chǎn)生。ΛΧ和ΛΥ的優(yōu)選值是O至3毫米，優(yōu)選O至2毫米，并且最好優(yōu)選O至I毫米。
[0047]優(yōu)選可以直接或間接地在裝置基座上進行探觸體的固定。術(shù)語裝置基座、測量臺和基座板涉及相同的對象，只要是在本說明書中使用的話?；謇缈梢圆⑶覜]有限制地由石材制成。固定的方式是不受限的，其例如可以是形鎖合、力鎖合或材料鎖合的。例如可以使用膠合劑或鏈接元件、例如卡鎖連接或插接連接作為固定器件。如果探觸體在X方向或Y方向上可移動地布置在KMG上，則可以在沿X或Y方向定向的軌道上進行所述固定，探觸體能夠在所述軌道中移動。優(yōu)選地，則設(shè)置這樣的裝置，由此能夠?qū)⑻接|體鎖定在該軌道中，以避免不期望的移動。
[0048]探觸體的間接固定例如由此進行，S卩，承載件固定在裝置基座上并且每個探觸體固定在承載件上。
[0049]承載件可以盡可能靠近轉(zhuǎn)臺地固定在裝置基座上，從而承載件優(yōu)選在X方向和Y方向上是位置固定的。固定的方式是不受限的，其例如可以是形鎖合、力鎖合或材料鎖合的。例如可以使用膠合劑或連接元件、例如螺栓、卡鎖連接或插接連接作為固定器件?？梢允褂靡呀?jīng)設(shè)置在裝置基座上的螺紋開口用于通過一個或多個螺栓的固定。
[0050]探觸體在承載件上固定的方式是不受限的。該固定例如可以是形鎖合、力鎖合或材料鎖合的，其中，可以使用上面列舉的固定器件。
[0051]承載件可以具有任意的、與KMG的實際情況相匹配的形狀。例如，沒有限制地為承載板。承載件例如承載板可以具有引導(dǎo)裝置，尤其是線性引導(dǎo)裝置，該線性引導(dǎo)裝置在固定承載件時優(yōu)選平行或基本上平行于裝置坐標系統(tǒng)的X或Y軸取向。在安裝探觸體時，可以將探觸體引入到引導(dǎo)裝置中并且移動到期望的X或Y位置上。在期望的位置上可以固定探觸體，從而探觸體在裝置基座和承載件上沿X和Y方向是位置固定的。
[0052]尤其，通過本發(fā)明提出一種方法，其中:
[0053]■將所述第一探觸體參考點的X坐標和所述轉(zhuǎn)臺軸線的在步驟a)中求取的X坐標之間的差Λ X存儲在所述KMG中；
[0054]■將所述第二探觸體參考點的Y坐標和所述轉(zhuǎn)臺軸線的在步驟a)中求取的Y坐標之間的差Λ Y存儲在KMG中并且
[0055]■在轉(zhuǎn)臺軸線的重復(fù)位態(tài)確定中考慮ΛΧ和ΛΥ用于確定尤其計算所述轉(zhuǎn)臺軸線的X坐標和Y坐標。
[0056]值ΛΧ和Λ Y也稱為X偏移量或Y偏移量。在特別情況下，ΛΧ和/或ΛΥ可以是零，從而不存在偏移量。因為第一探觸體就其第一參考點的X坐標而言相對于轉(zhuǎn)臺軸線的X坐標是位置固定的，所以ΛΧ是不變的并且可以在之后的時間點被考慮用于確定轉(zhuǎn)臺軸線的X坐標。相應(yīng)的情況適用于ΛΥ和第二探觸體參考點。值ΛΧ和ΛΥ可以輸入到測量運算器中并且由專門匹配的測量軟件處理。
[0057]第一和第二探觸體的類型不是特別受限的，只要能夠在探觸體上或在探觸體中限定在時間上并且相對于體件不可變的參考點，該參考點可以可重現(xiàn)地通過KMG的測量系統(tǒng)感測。尤其并且對此沒有限制地，探觸體選自:環(huán)、盤、柱體、空心柱體、球、塊規(guī)(Endmass)、內(nèi)錐以及用于自定心探觸的球三通體，或者其組合。環(huán)的例子是環(huán)規(guī)(Lehrring)，該環(huán)規(guī)具有非常小的圓度偏差，但是可以具有任意的直徑。在環(huán)、盤、柱體、空心柱體或球的情況下，可以在多個點上通過KMG的測量系統(tǒng)被探觸并且由此確定環(huán)、盤、柱體或球的中心點。尤其，在通過掃描探觸時，獲得參考點例如環(huán)中心點或球中心點的坐標的非常好的可重現(xiàn)性。在旋轉(zhuǎn)對稱的探觸體的情況下優(yōu)選的是，實施圓形掃描，優(yōu)選在不變的Z高度上實施。按照本發(fā)明，掃描意味著以具有運行的(動態(tài)的)測量值接收(Messwertuebernahme)的方式連續(xù)不斷地探觸輪廓，由此產(chǎn)生密集的點序列。通過掃描多個點，基于探觸可重現(xiàn)性使得不準確性最小化或被排除。
[0058]在使用探觸體的塊規(guī)時，一次探觸足以確定對應(yīng)的參考點。優(yōu)點是節(jié)省測量時間。
[0059]在按照本發(fā)明的方法的實施方式中，在步驟a)、b)和c)中通過參考探測器進行探觸。參考探測器是形狀準確已知的探測器，并且其中優(yōu)選地也準確已知另外的特性，例如軸頸的彎曲剛度。特別地，參考探測器的探觸元件的形狀是準確已知的，例如探觸球的準確形狀，該探觸球形狀可以不用于理想的球形。由此，可以最小化或排除由于不準確的探測器數(shù)據(jù)引起的不準確性。在步驟d)中也可以使用參考探測器，這是優(yōu)選的。在步驟d)中可以替代地使用測量探測器，該測量探測器也在正在進行的測量運行中使用并且其形狀通常不如參考探測器的情況下那么準確。當不需要最高精度但是對此需要較短測量時間時并且當由此可以節(jié)省探測器更換時，測量探測器的使用是有意義的。
[0060]在另一方面中，本發(fā)明涉及一種坐標測量裝置，其具有組件，該組件包括:
[0061]■轉(zhuǎn)臺；
[0062]■安裝在所述轉(zhuǎn)臺旁邊的、具有第一探觸體參考點的第一探觸體，該第一探觸體相對于轉(zhuǎn)臺軸線的X坐標位置固定地定位；
[0063]■安裝在所述轉(zhuǎn)臺旁邊的、具有第二探觸體參考點的第二探觸體，該第二探觸體相對于轉(zhuǎn)臺軸線的Y坐標位置固定地定位。
[0064]坐標測量裝置可以以任意組合的方式具有已經(jīng)在之前在按照本發(fā)明的方法中所述的所有具體特征。尤其，該坐標測量裝置設(shè)置用于實施前述方法。
[0065]尤其，坐標測量裝置具有測量運算器和測量軟件，它們設(shè)置用于實施上述按照本發(fā)明的方法。尤其，測量運算器和測量軟件設(shè)置用于實施開始所述的方法。
[0066]尤其，坐標測量裝置具有設(shè)置用于實施按照本發(fā)明的方法的控制裝置。
[0067]用于所述方法的探觸體參考點坐標例如可以被存儲或是存儲在控制裝置或測量運算器中，例如以文件的形式，從而控制裝置和/或測量運算器具有這些信息。
[0068]在特別的實施方式中也可能的是，將第一探觸體參考點的X坐標和轉(zhuǎn)臺軸線的之前求取的X坐標之間的差λ X、第二探觸體參考點的Y坐標和轉(zhuǎn)臺軸線的之前求取的Y坐標之間的差△ Y保存在控制裝置或測量運算器中，從而控制裝置和/或測量運算器具有這些信息?？刂蒲b置和/或測量運算器尤其可以考慮存儲的值ΛΧ和ΛΥ用于確定轉(zhuǎn)臺軸線的X坐標和Y坐標。
[0069]在另一實施方式中，控制裝置構(gòu)型用于如此控制坐標測量裝置的運行，使得坐標測量裝置探觸第一探觸體和第二探觸體并且優(yōu)選分析處理由此獲得的探觸信息，如探觸體參考點的坐標。
[0070]一般適用的是，代替將信息保存在KMG中，例如以相應(yīng)的數(shù)字數(shù)據(jù)格式保存在數(shù)據(jù)存儲器中，KMG的控制裝置對該數(shù)據(jù)存儲器進行存取，也是可能的是，保存在與KMG分離的存儲器中，其中，KMG則為了其運行優(yōu)選對該存儲器進行存取。
[0071]本發(fā)明也涉及將坐標測量裝置尤其是前述的坐標測量裝置用于實施前述方法。
[0072]在按照本發(fā)明的坐標測量裝置的一個特別的實施方式中，第一探觸體能夠以在Y方向上可變的方式定位和/或第二探觸體能夠以在X方向上可變的方式定位。該實施方式的優(yōu)點已經(jīng)在該方法中闡明。
[0073]此外，這樣的計算機程序?qū)儆诒景l(fā)明范圍，該計算機程序至少實施和/或控制上述方法的步驟b)、c)和d)，可選擇地還有a)。尤其，該計算機程序具有編程代碼器件，其可以存儲在計算機可讀的數(shù)據(jù)載體上。該計算機程序可以保存在KMG中或與KMG分離的存儲器中。例如，計算機程序可以保存在KMG的控制裝置對其進行存取的數(shù)據(jù)存儲器中，或者保存在是控制裝置的一部分的數(shù)據(jù)存儲器中，或者保存在是測量運算器的一部分的數(shù)據(jù)存儲器中。
[0074]此外，一種數(shù)據(jù)載體屬于本發(fā)明范圍，數(shù)據(jù)結(jié)構(gòu)存儲在該數(shù)據(jù)載體上，該數(shù)據(jù)結(jié)構(gòu)在加載到計算機或計算機網(wǎng)絡(luò)的工作和/或主存儲器中之后至少實施上述方法的b)、c)和d)，可選擇地還有a)。
[0075]以下根據(jù)特別的實施例描述本發(fā)明。附圖示出:
[0076]圖1:示出轉(zhuǎn)臺軸線和工件在裝置坐標系統(tǒng)中的位置；
[0077]圖2:以I球方法校量轉(zhuǎn)臺軸線；
[0078]圖3:以檢驗柱體方法校量轉(zhuǎn)臺軸線；
[0079]圖4:兩個探觸元件相對于轉(zhuǎn)臺軸線的定位；和
[0080]圖5:按照本發(fā)明的方法的執(zhí)行成規(guī)。
[0081]圖1示出了裝置坐標系統(tǒng)GKS，其具有X、Y和Z軸和原點或者說裝置坐標系統(tǒng)的零點處的參考點R。裝置坐標系統(tǒng)GKS的軸線也稱為KMG軸線。在由硬巖石制成的測量臺I上安裝有轉(zhuǎn)臺2，該轉(zhuǎn)臺繞轉(zhuǎn)臺軸線D相對于板I是可旋轉(zhuǎn)的。轉(zhuǎn)臺軸線限定轉(zhuǎn)臺相對于裝置零點(參考點)R的準確位置以及相對于裝置坐標系統(tǒng)GKS的軸線的傾斜，即GKS中的位態(tài)。轉(zhuǎn)臺3承載具有所屬的工件坐標系統(tǒng)WKS的工件4，該工件坐標系統(tǒng)通過坐標軸V、V和Z'限定。在按照本發(fā)明的方法中被求取的探觸點涉及裝置坐標系統(tǒng)GKS，該裝置坐標系統(tǒng)GKS與KMG的移動軸線(Verfahrachsen)平行。
[0082]在轉(zhuǎn)臺旋轉(zhuǎn)時,所有測量元件、檢驗特征和坐標系統(tǒng)在計算上繞轉(zhuǎn)臺軸線D旋轉(zhuǎn)。轉(zhuǎn)臺軸線D的校量中的誤差直接影響測量精度。在以下圖2和3中提出用于校量轉(zhuǎn)臺軸線D的方法，所述方法可以示例性地使用在按照本發(fā)明的方法的步驟a)中。
[0083]在圖2中描述了用于校量轉(zhuǎn)臺軸線D的I球方法。裝置坐標系統(tǒng)GKS的軸線以Xkmg^Ykmg和Zkk表示。為了確定能夠相對于基座旋轉(zhuǎn)的工件固定裝置的旋轉(zhuǎn)軸線，也就是說在具有所謂的轉(zhuǎn)臺的坐標測量裝置中，VDI/VDE 2617標準第四頁在用于在基座坐標系統(tǒng)中校量旋轉(zhuǎn)軸線的所謂“3D-α測試”中規(guī)定了一種方法。在轉(zhuǎn)臺3上，球5在轉(zhuǎn)臺的旋轉(zhuǎn)軸線7之外緊密地固定裝配在轉(zhuǎn)臺表面的上方。通過坐標測量裝置的探頭探觸球的表面，以由此確定球的中心點9。在轉(zhuǎn)臺的相對于旋轉(zhuǎn)軸線的至少三個不同旋轉(zhuǎn)位置中重復(fù)確定球中心點。通過如此獲得的球中心點9、9'、9"、9"'來確定一個平面和一個圓中心點。經(jīng)過該圓中心點垂直于該平面的垂線即為轉(zhuǎn)臺在坐標測量裝置的坐標系統(tǒng)(Χκκ,Υ-,Ζ.)中的旋轉(zhuǎn)軸線。即使當坐標測量裝置的相對于Xkk和Ykmc方向定向的移位軸線(Verschiebeachse)V KMG沒有精確地與Xkk和Ykmg方向正交、存在所謂的直角偏差或直角誤差時，該方法也得出轉(zhuǎn)臺軸線的在坐標測量裝置的直角坐標系統(tǒng)中的正確定向，也就是說，所校量的轉(zhuǎn)臺軸線與轉(zhuǎn)臺的機械旋轉(zhuǎn)軸線一致。
[0084]然而，如果以下例如測量工件，所述工件沿Z方向由轉(zhuǎn)臺表面延伸離開，那么，基于方向Z' !?和Ykk及Xkk之間的直角偏差，隨著與由球中心點9、9'、9"、9"'所確定的平面的間距越來越大而產(chǎn)生測量誤差。在這樣的情況下，轉(zhuǎn)臺軸線以下面根據(jù)圖3闡明的方法確定:
[0085]在具有機械旋轉(zhuǎn)軸線7的轉(zhuǎn)臺3上固定安裝有柱體的檢驗體11，其中，該檢驗體的柱體軸線以12表示。在靠近轉(zhuǎn)臺表面的平面中探觸柱體的周邊13，并且在與轉(zhuǎn)臺表面遠離的平面中探觸柱體的另一周邊14。由兩個周邊或者說橫截面13，14求取柱體軸線。然而，因為坐標測量裝置的移動軸線V ■與相對于方向X.和Ykmg正交的方向Zkk偏差一角度dR，所計算的柱體軸線15不與其機械的柱體軸線12重合。現(xiàn)在，將轉(zhuǎn)臺旋轉(zhuǎn)180°，并且在新的旋轉(zhuǎn)位置中測量下橫截面13'和上橫截面14'。由此產(chǎn)生在該旋轉(zhuǎn)位置中所求取的柱體軸線15'。然后，計算轉(zhuǎn)臺軸線16，該轉(zhuǎn)臺軸線形成了用于在兩個旋轉(zhuǎn)位置上所求取的柱體軸線15和15 ^的對稱軸線。如此計算的轉(zhuǎn)臺軸線16也與轉(zhuǎn)臺的機械旋轉(zhuǎn)軸線7偏差一角度dR。然而，在如此求取的轉(zhuǎn)臺軸線的情況下，在探觸沿Z方向延伸的柱體工件時，基于直角偏差dR產(chǎn)生的測量誤差被抑制。該方法對柱體的檢驗體11的精度提出高要求。柱體軸線15的確定被這樣的精度所限制，橫截面13，14以所述精度被測出。在該方法中，該精度可以被X.和Ykk軸之間的直角偏差以及X.和Ykk方向上的長度測量偏差所限制。
[0086]在W002090879A2中提出另一種用于確定旋轉(zhuǎn)軸線在裝置坐標系統(tǒng)中的位態(tài)的方法。使用測試對象，該測試對象包括至少兩個測試體，所述測試體具有這樣的表面，使得能夠通過以探頭探觸該表面來確定測試體的相對于于測試體表面固定布置的或者說可重現(xiàn)地布置的至少一個參考點在基座坐標系統(tǒng)(也就是裝置坐標系統(tǒng))中的坐標。可能的測試體是精確制成的球或長方體(Quader)。在球的情況下，W002090879A2的方法是2球方法，其在說明書的普遍部分中提到。也可能的是，采用一種自定心的探觸體，例如球三通體或錐體。例如，如果使用球作為測試體，那么可以通過探觸球表面明確地確定基座坐標系統(tǒng)中的球中心點。兩個測試體如此安裝在工件固定裝置上或轉(zhuǎn)臺上，使得所述測試體在旋轉(zhuǎn)軸線的方向上相互具有間距。該方法的更詳細的說明在W002090879A2中，第5頁直至并包括第10頁和在W002090879A2的權(quán)利要求書中提出。該方法在文獻W002090879A2的附圖4至10中和在從第12頁直至并包括第25頁中的對應(yīng)【專利附圖】

【附圖說明】中描述。為了闡明本發(fā)明，明確地參照文獻W002090879A2中所提到的公開內(nèi)容。
[0087]按照本發(fā)明的方法的另外的步驟根據(jù)圖4闡明。觀察者的目光沿Z方向落到裝置坐標系統(tǒng)的X/Y平面上，從而裝置坐標系統(tǒng)的Z軸與圖平面垂直。觀察者的目光例如落到KMG的測量臺上，在該測量臺上定位有轉(zhuǎn)臺3。在具有轉(zhuǎn)臺軸線D的轉(zhuǎn)臺3旁邊安裝第一探觸體20和第二探觸體21。在該特定情況下，探觸體20，21是環(huán)規(guī)。轉(zhuǎn)臺3的大小和環(huán)規(guī)20，21的大小沒有按照比例表示。在真實情況下，轉(zhuǎn)臺3相對于環(huán)規(guī)20，21會更大。轉(zhuǎn)臺3和探觸體20，21在描繪的裝置坐標系統(tǒng)中的位態(tài)也沒有按照比例。探觸體20，21例如可以固定在KMG的測量臺上。第一環(huán)規(guī)20具有環(huán)中心點Rl作為第一探觸體參考點。第二環(huán)規(guī)21具有環(huán)中心點R2作為第二探觸體參考點。在本例子中，KMG具有X = 850并且Y = 1000的測量區(qū)域。轉(zhuǎn)臺軸線D定位在坐標X = 300并且Y = -600處。環(huán)規(guī)20的參考點Rl定位在X = 300并且Y = -100處。也就是說，Rl的X坐標與D的X坐標相同。但是，這兩個X坐標也可以具有偏差(偏移量，Offset) Δ X。決定性的是，Rl的X坐標相對于D的X坐標是不可變的。Rl的處于Y = -100處的Y坐標可以是可變的，例如通過環(huán)規(guī)20的在軸Y.方向上的可移動性。環(huán)規(guī)21的參考點R2定位在坐標X = 800/Y = -600處，也就是說，R2與轉(zhuǎn)臺軸線D具有共同的Y坐標。所述Y坐標不必相同，但是它們相對于彼此是不可變的。R2的X坐標可以是可變的，例如通過環(huán)規(guī)21的在軸Xkk方向上的可移動性。環(huán)規(guī)20，21可以通過定位裝置、例如模板(Schablone)如此安裝在轉(zhuǎn)臺3旁邊，使得，根據(jù)定位裝置的精度而定，在環(huán)規(guī)20的情況下Rl的X坐標而在環(huán)規(guī)21的情況下R2的Y坐標大約或準確地與轉(zhuǎn)臺軸線D的相應(yīng)坐標一致。隨后，接著通過環(huán)規(guī)20，21在外側(cè)或在內(nèi)側(cè)上(根據(jù)環(huán)規(guī)的類型而定)通過KMG的測量系統(tǒng)、更準確地說通過探測器優(yōu)選以掃描模式(Scanning-Modus)被探觸來對Rl和R2的坐標準確地配定位置(Verortung)。通過KMG的測量系統(tǒng)，根據(jù)已知的方法、例如依據(jù)圖2或3所闡明的方法之一來確定一次轉(zhuǎn)臺軸線D在裝置坐標系統(tǒng)中的位態(tài)。據(jù)此，D、Rl和R2的相對位置已知。D、Rl和R2的坐標可以自動或手動地輸入到測量運算器或測量軟件中。為了之后確定轉(zhuǎn)臺軸線D在裝置坐標系統(tǒng)中的位態(tài)，僅必須探觸環(huán)規(guī)20和21并且重新確定Rl和R2的坐標。由此，可以在每個之后的時間點通過簡單的方式計算轉(zhuǎn)臺軸線D在裝置坐標系統(tǒng)中的位態(tài)。如上所述，觀察者的目光例如從上落到KMG的測量臺或基座上。X和Y軸僅僅示意地示出。Z軸沿視線方向延伸。
[0088]在圖4中未詳細示出已知的另外的結(jié)構(gòu)件。KMG例如可以是橋式結(jié)構(gòu)類型的KMG，如在US20110000277中在其中的圖1中示例性地示出并且在結(jié)構(gòu)上詳細描述。同樣未示出的是控制裝置和測量運算器，它們是KMG的部件并且通過已知的方式和方法集成到KMG中。
[0089]在圖5中示出了按照本發(fā)明方法的各個步驟形式的執(zhí)行示意圖。在步驟SI中，通過KMG的測量系統(tǒng)在多個轉(zhuǎn)臺位置中對處于轉(zhuǎn)臺3上的檢驗體9進行探觸并且由探觸點確定轉(zhuǎn)臺軸線D在裝置坐標系統(tǒng)(XKK，Ykmg, Zkmg, V KMG)中的X坐標和Y坐標。該步驟已經(jīng)依據(jù)圖2以I球方法為例闡明。該探觸例如可以以已知的探觸元件、例如探觸球?qū)崿F(xiàn)。
[0090]在使用在圖4中已經(jīng)闡明的探觸體20和21的情況下進行另外的步驟S2和S3。在步驟S2中，通過KMG的測量系統(tǒng)對第一探觸體20進行探觸，該第一探觸體安裝在轉(zhuǎn)臺3旁邊并且該第二探觸體具有相對于轉(zhuǎn)臺軸線D的X坐標位置固定地定位的第一探觸體參考點Rl，并且對第一探觸體參考點Rl的X坐標進行確定。該探觸例如可以以已知的探觸元件進行。在步驟S2中，通過KMG的測量系統(tǒng)對第二探觸體21進行探觸，該第二探觸體安裝在轉(zhuǎn)臺3旁邊并且該第二探觸體具有相對于轉(zhuǎn)臺軸線D的Y坐標位置固定地定位的第二探觸體參考點R2，并且對第二探觸體參考點R2的Y坐標進行確定。S1、S2和S3的時間順序原理上是任意的，其中，步驟SI僅必須執(zhí)行一次。步驟S2和S3可以任意地在之后的時間點重復(fù)。
【權(quán)利要求】
1.用于確定轉(zhuǎn)臺軸線(D)在坐標測量裝置的裝置坐標系統(tǒng)中的位態(tài)的方法，包括: a)在多個轉(zhuǎn)臺位置中通過KMG的測量系統(tǒng)來探觸處于轉(zhuǎn)臺(3)上的檢驗體(9)并且由探觸點確定所述轉(zhuǎn)臺軸線(D)在所述裝置坐標系統(tǒng)(Χ-,Υ-,Ζ-,Ζ' KMG)中的X坐標和Y坐標， 其特征在于，所述方法還包括: b)通過KMG的所述測量系統(tǒng)來探觸第一探觸體(20)，該第一探觸體安裝在所述轉(zhuǎn)臺(3)的旁邊并且該第一探觸體具有相對于所述轉(zhuǎn)臺軸線(D)的X坐標位置固定地定位的第一探觸體參考點(R1)，并且，確定所述第一探觸體參考點(R1)的X坐標； c)通過KMG的測量系統(tǒng)來探觸第二探觸體(21)，該第二探觸體安裝在所述轉(zhuǎn)臺(3)的旁邊并且該第二探觸體具有相對于所述轉(zhuǎn)臺軸線(D)的Y坐標位置固定地定位的第二探觸體參考點(R2),并且,確定所述第二探觸體參考點(R2)的Y坐標； d)在一個或多個之后的時間點上重復(fù)步驟b)和c)并且在一個所述之后的時間點或在多個所述隨后的時間點上由所述第一探觸體參考點(R1)的所述X坐標和所述第二探觸體參考點(R2)的所述Y坐標來確定所述轉(zhuǎn)臺軸線的X坐標和Y坐標。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中，所述第一探觸體參考點(R1)定位在所述轉(zhuǎn)臺軸線(D)的X坐標上或者定位在所述轉(zhuǎn)臺軸線(D)的X坐標附近。
3.根據(jù)前述權(quán)利要求之一所述的方法，其中，所述第二探觸體參考點(R2)定位在所述轉(zhuǎn)臺軸線(D)的Y坐標上或者定位在所述轉(zhuǎn)臺軸線(D)的Y坐標附近。
4.根據(jù)前述權(quán)利要求之一所述的方法，其中， ?將所述第一探觸體參考點(R1)的X坐標和所述轉(zhuǎn)臺軸線(D)的在步驟a)中求取的X坐標之間的差Λ X存儲在所述KMG中； ?將所述第二探觸體參考點(R2)的Υ坐標和所述轉(zhuǎn)臺軸線(D)的在步驟a)中求取的Y坐標之間的差Λ Υ存儲在KMG中并且 ?在步驟d)中考慮ΛΧ和Λ Y用于確定所述轉(zhuǎn)臺軸線(D)的X坐標和Υ坐標。
5.根據(jù)前述權(quán)利要求之一所述的方法，其中，所述探觸體(20，21)選自:環(huán)、盤、柱體、空心柱體、球、塊規(guī)、內(nèi)錐、球三通體或者其組合。
6.根據(jù)前述權(quán)利要求之一所述的方法，其中，通過掃描進行對所述第一探觸體(20)和所述第二探觸體(21)的所述探觸。
7.根據(jù)前述權(quán)利要求之一所述的方法，其中，在步驟a)至c)中，優(yōu)選也在步驟d)中通過參考探測器來進行所述探觸。
8.坐標測量裝置，其具有組件，該組件包括: ?轉(zhuǎn)臺⑶； ?安裝在所述轉(zhuǎn)臺(3)旁邊的、具有第一探觸體參考點(R1)的第一探觸體(20)，該第一探觸體相對于轉(zhuǎn)臺軸線(D)的X坐標位置固定地定位； ?安裝在所述轉(zhuǎn)臺(3)旁邊的、具有第二探觸體參考點(R2)的第二探觸體(21)，該第二探觸體相對于轉(zhuǎn)臺軸線(D)的Y坐標位置固定地定位。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的坐標測量裝置，其中，所述第一探觸體參考點(R1)定位在所述轉(zhuǎn)臺軸線(D)的X坐標上或者定位在所述轉(zhuǎn)臺軸線(D)的X坐標附近。
10.根據(jù)權(quán)利要求8或9所述的方法，其中，所述第二探觸體參考點(R2)定位在所述轉(zhuǎn)臺軸線(D)的Y坐標上或者定位在所述轉(zhuǎn)臺軸線(D)的Υ坐標附近。
11.根據(jù)權(quán)利要求8所述的坐標測量裝置，其中，所述第一探觸體(20)在Υ方向上能夠可變地定位和/或所述第二探觸體(21)在X方向上能夠可變地定位。
12.根據(jù)權(quán)利要求8至11之一所述的坐標測量裝置，所述坐標測量裝置設(shè)置用于執(zhí)行根據(jù)權(quán)利要求1至7之一所述的方法。
【文檔編號】G01B21/04GK104272061SQ201380023343
【公開日】2015年1月7日 申請日期:2013年4月30日 優(yōu)先權(quán)日:2012年5月3日
【發(fā)明者】M·維默爾 申請人:卡爾蔡司工業(yè)測量技術(shù)有限公司