一種透光結(jié)構(gòu)的應(yīng)力檢測裝置和檢測方法
【專利摘要】本發(fā)明實施例公開了一種透光結(jié)構(gòu)的應(yīng)力檢測裝置和檢測方法，涉及顯示【技術(shù)領(lǐng)域】，能夠?qū)ν腹饨Y(jié)構(gòu)的應(yīng)力分布狀態(tài)進行檢測。該透光結(jié)構(gòu)的應(yīng)力檢測裝置包括：光源、第一偏振片和光強分布狀態(tài)檢測單元和應(yīng)力分布狀態(tài)分析單元；其中，所述光源出射均勻的偏振光，檢測過程中，所述第一偏振片和所述光源分別位于所述透光結(jié)構(gòu)的兩側(cè)，所述光強分布狀態(tài)檢測單元用于獲取射出所述第一偏振片的偏振光的光強分布狀態(tài)；所述應(yīng)力分布狀態(tài)分析單元用于根據(jù)所述光強分布狀態(tài)獲得所述透光結(jié)構(gòu)的應(yīng)力分布狀態(tài)。
【專利說明】一種透光結(jié)構(gòu)的應(yīng)力檢測裝置和檢測方法

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本發(fā)明涉及顯示【技術(shù)領(lǐng)域】，尤其涉及一種透光材料的應(yīng)力檢測裝置和檢測方法。

【背景技術(shù)】
[0002] 液晶顯示器是一種平面超薄的顯示裝置，其包括許多透光結(jié)構(gòu)，例如導(dǎo)光板、玻璃 基板等結(jié)構(gòu)。上述透光結(jié)構(gòu)內(nèi)部存在應(yīng)力，這些應(yīng)力會導(dǎo)致液晶顯示器出現(xiàn)各種顯示不良， 嚴重的情況下還會導(dǎo)致液晶顯示器的彎曲或者破裂。
[0003] 通常這些應(yīng)力是在透光結(jié)構(gòu)的制作過程中產(chǎn)生的。示例性地，導(dǎo)光板的制作過程 如下：將導(dǎo)光板的原材料加熱至熔融狀態(tài)注射入導(dǎo)光板模具中，冷卻塑化后即得到具有特 定形狀的導(dǎo)光板。在導(dǎo)光板的制作過程中，由于處于熔融狀態(tài)的導(dǎo)光板的原材料具有流動 性，因此原材料在冷卻塑化的過程中不可避免地在導(dǎo)光板內(nèi)部存在應(yīng)力。
[0004] 發(fā)明人發(fā)現(xiàn)，現(xiàn)有技術(shù)中無法對透光結(jié)構(gòu)的應(yīng)力分布狀態(tài)進行檢測，進而無法有 效提升透光結(jié)構(gòu)的質(zhì)量以及顯示裝置的顯示效果。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0005] 本發(fā)明所要解決的技術(shù)問題在于提供一種透光結(jié)構(gòu)的應(yīng)力檢測裝置和檢測方法， 能夠?qū)ν腹饨Y(jié)構(gòu)的應(yīng)力分布狀態(tài)進行檢測。
[0006] 為解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明實施例提供了一種透光結(jié)構(gòu)的應(yīng)力檢測裝置，采用 如下技術(shù)方案：
[0007] -種透光結(jié)構(gòu)的應(yīng)力檢測裝置包括：光源、第一偏振片和光強分布狀態(tài)檢測單元 和應(yīng)力分布狀態(tài)分析單兀；
[0008] 其中，所述光源出射均勻的偏振光，檢測過程中，所述第一偏振片和所述光源分別 位于所述透光結(jié)構(gòu)的兩側(cè)，所述光強分布狀態(tài)檢測單元用于獲取射出所述第一偏振片的偏 振光的光強分布狀態(tài)；所述應(yīng)力分布狀態(tài)分析單元用于根據(jù)所述光強分布狀態(tài)獲得所述透 光結(jié)構(gòu)的應(yīng)力分布狀態(tài)。
[0009] 所述應(yīng)力分布狀態(tài)還用于分析所述透光結(jié)構(gòu)具有所述應(yīng)力分布狀態(tài)的原因。
[0010] 所述的透光結(jié)構(gòu)的應(yīng)力檢測裝置還包括工藝參數(shù)實時調(diào)整單元，所述工藝參數(shù)實 時調(diào)整單元用于根據(jù)所述應(yīng)力分布狀態(tài)分析單元分析出的所述透光結(jié)構(gòu)具有所述應(yīng)力分 布狀態(tài)的原因?qū)崟r調(diào)整制作所述透光結(jié)構(gòu)的過程中的各項工藝參數(shù)。
[0011] 所述光源為發(fā)射偏振光的偏振光源，或者，所述光源包括自然光源和第二偏振片。
[0012] 所述第二偏振片的透光軸方向與所述第一偏振片的透光軸方向垂直。
[0013] 所述透光結(jié)構(gòu)的應(yīng)力檢測裝置還包括用于固定所述第一偏振片的上框架，用于固 定所述第二偏振片的下框架，用于承載所述透光結(jié)構(gòu)的承載結(jié)構(gòu)，用于固定所述上框架、所 述第一偏振片、所述下框架、所述第二偏振片、所述承載結(jié)構(gòu)和所述透光結(jié)構(gòu)的底座。
[0014] 所述上框架和所述下框架之間的距離可調(diào)。
[0015] 所述透光結(jié)構(gòu)透明或者半透明。
[0016] 本發(fā)明實施例提供了一種透光結(jié)構(gòu)的應(yīng)力檢測裝置，該應(yīng)力檢測裝置包括光源、 第一偏振片和光強分布狀態(tài)檢測單元和應(yīng)力分布狀態(tài)分析單元；其中，光源出射均勻的偏 振光，檢測過程中，第一偏振片和光源分別位于透光結(jié)構(gòu)的兩側(cè)，光源出射的偏振光依次經(jīng) 過透光結(jié)構(gòu)和第一偏振片，光強分布狀態(tài)檢測單兀獲取射出第一偏振片的偏振光的光強 分布狀態(tài)，應(yīng)力分布狀態(tài)分析單元根據(jù)光強分布狀態(tài)獲得透光結(jié)構(gòu)的應(yīng)力分布狀態(tài)。因此， 本發(fā)明實施例中的透光結(jié)構(gòu)的應(yīng)力檢測裝置可以對透光結(jié)構(gòu)的應(yīng)力分布狀態(tài)進行檢測，進 而可以有效提升透光結(jié)構(gòu)的質(zhì)量以及顯示裝置的顯示效果。
[0017] 為了進一步解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明實施例還提供了一種透光結(jié)構(gòu)的應(yīng)力檢測 方法，采用如下技術(shù)方案：
[0018] 一種透光結(jié)構(gòu)的應(yīng)力檢測方法包括：
[0019] 將所述透光結(jié)構(gòu)放置于光源和第一偏振片之間，所述光源出射均勻的偏振光；
[0020] 光強分布狀態(tài)檢測單兀獲取射出所述第一偏振片的偏振光的光強分布狀態(tài)；
[0021] 應(yīng)力分布狀態(tài)分析單元根據(jù)所述光強分布狀態(tài)獲得所述透光結(jié)構(gòu)的應(yīng)力分布狀 態(tài)。
[0022] 在將所述透光結(jié)構(gòu)放置于光源和第一偏振片之間，之前還包括：
[0023] 獲取所述透光結(jié)構(gòu)的材料和厚度信息；
[0024] 根據(jù)所述透光結(jié)構(gòu)的材料和厚度信息調(diào)節(jié)所述光源的亮度。
[0025] 所述透光結(jié)構(gòu)的應(yīng)力檢測方法還包括：
[0026] 所述應(yīng)力分布狀態(tài)分析單元分析所述透光結(jié)構(gòu)具有所述應(yīng)力分布狀態(tài)的原因。
[0027] 所述透光結(jié)構(gòu)的應(yīng)力檢測方法還包括：
[0028] 工藝參數(shù)實時調(diào)整單元根據(jù)所述應(yīng)力分布狀態(tài)分析單元分析出的所述透光結(jié)構(gòu) 具有所述應(yīng)力分布狀態(tài)的原因?qū)崟r調(diào)整制作所述透光結(jié)構(gòu)的過程中的各項工藝參數(shù)。
[0029] 本發(fā)明實施例提供了一種透光結(jié)構(gòu)的應(yīng)力檢測方法，該應(yīng)力檢測方法包括將透光 結(jié)構(gòu)放置于光源和第一偏振片之間，光強分布狀態(tài)檢測單兀獲取射出第一偏振片的偏振光 的光強分布狀態(tài)，應(yīng)力分布狀態(tài)分析單元根據(jù)光強分布狀態(tài)獲得透光結(jié)構(gòu)的應(yīng)力分布狀 態(tài)。因此，本發(fā)明實施例中的透光結(jié)構(gòu)的應(yīng)力檢測裝置可以對透光結(jié)構(gòu)的應(yīng)力分布狀態(tài)進 行檢測，進而可以有效提升透光結(jié)構(gòu)的質(zhì)量以及顯示裝置的顯示效果。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0030] 為了更清楚地說明本發(fā)明實施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案，下面將對實施例描述 中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本發(fā)明的一些 實施例，對于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講，在不付出創(chuàng)造性勞動的前提下，還可以根據(jù)這些附 圖獲得其他的附圖。
[0031] 圖1為本發(fā)明實施例中的第一種透光結(jié)構(gòu)的應(yīng)力檢測裝置的示意圖；
[0032] 圖2為本發(fā)明實施例中的第二種透光結(jié)構(gòu)的應(yīng)力檢測裝置的示意圖；
[0033] 圖3為本發(fā)明實施例中的第三種透光結(jié)構(gòu)的應(yīng)力檢測裝置的示意圖；
[0034] 圖4為本發(fā)明實施例中的第四種透光結(jié)構(gòu)的應(yīng)力檢測裝置的示意圖；
[0035] 圖5為本發(fā)明實施例中的透光結(jié)構(gòu)的應(yīng)力檢測方法流程圖。
[0036] 附圖標(biāo)記說明：
[0037] 1 一光源； 11 -自然光源； 12-第二偏振片；
[0038] 2-第一偏振片； 3-光強分布狀態(tài)檢測單元； 4 一應(yīng)力分布狀態(tài)分析單 元；
[0039] 5-透光結(jié)構(gòu)； 6-工藝參數(shù)實時調(diào)整單元； 7-上框架；
[0040] 8-下框架； 9 一 7承載結(jié)構(gòu)； 10-底座。

【具體實施方式】
[0041] 下面將結(jié)合本發(fā)明實施例中的附圖，對本發(fā)明實施例中的技術(shù)方案進行清楚、完 整地描述，顯然，所描述的實施例是本發(fā)明一部分實施例，而不是全部的實施例?；诒景l(fā) 明中的實施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動前提下所獲得的所有其他實施 例，都屬于本發(fā)明保護的范圍。
[0042] 實施例一
[0043] 本發(fā)明實施例提供了一種透光結(jié)構(gòu)的應(yīng)力檢測裝置，能夠?qū)ν腹饨Y(jié)構(gòu)的應(yīng)力分布 狀態(tài)進行檢測。
[0044] 具體地，如圖1所示，該透光結(jié)構(gòu)的應(yīng)力檢測裝置包括：光源1、第一偏振片2和光 強分布狀態(tài)檢測單元3和應(yīng)力分布狀態(tài)分析單元4。
[0045] 其中，光源1出射均勻的偏振光，光源1的亮度可以根據(jù)透光結(jié)構(gòu)5的材料及厚度 信息等調(diào)節(jié)。檢測過程中，第一偏振片2和光源1分別位于透光結(jié)構(gòu)5的兩側(cè)，透光結(jié)構(gòu)5 與第一偏振片2以及光源1所在平面平行，光強分布狀態(tài)檢測單元3用于獲取射出第一偏 振片2的偏振光的光強分布狀態(tài)，示例性地，光強分布狀態(tài)可以以圖片的方式呈現(xiàn)，通過不 同區(qū)域的顏色不同表現(xiàn)光強的不同，應(yīng)力分布狀態(tài)分析單元4用于根據(jù)光強分布狀態(tài)獲得 透光結(jié)構(gòu)5的應(yīng)力分布狀態(tài)，示例性地，應(yīng)力分布狀態(tài)也可以以圖片的方式呈現(xiàn)，通過不同 區(qū)域的顏色不同表現(xiàn)應(yīng)力的不同。
[0046] 需要補充的是，應(yīng)力分布狀態(tài)分析單元4可以根據(jù)光強分布狀態(tài)獲得透光結(jié)構(gòu)5 的應(yīng)力分布狀態(tài)的原因在于，光源1出射的均勻的偏振光經(jīng)過透光結(jié)構(gòu)5時，透光結(jié)構(gòu)5內(nèi) 存在應(yīng)力，透光結(jié)構(gòu)5內(nèi)應(yīng)力不同的區(qū)域的密度不同，使得穿過透光結(jié)構(gòu)5的不同區(qū)域進而 透過第一偏振片2的偏振光的強度不同，示例性地，透過結(jié)構(gòu)5內(nèi)的應(yīng)力越大的區(qū)域，密度 越大，穿過透光結(jié)構(gòu)5的不同區(qū)域進而透過第一偏振片2的偏振光的強度越小。
[0047] 優(yōu)選地，應(yīng)力分布狀態(tài)分析單元4在根據(jù)光強分布狀態(tài)獲得透光結(jié)構(gòu)5的應(yīng)力分 布狀態(tài)的同時，還可以分析透光結(jié)構(gòu)5具有上述應(yīng)力分布狀態(tài)的原因。
[0048] 此時，如圖2所示，透光結(jié)構(gòu)的應(yīng)力檢測裝置還可以包括工藝參數(shù)實時調(diào)整單元 6,該工藝參數(shù)實時調(diào)整單元6用于根據(jù)應(yīng)力分布狀態(tài)分析單元4分析出的透光結(jié)構(gòu)5具有 上述應(yīng)力分布狀態(tài)的原因?qū)崟r調(diào)整制作透光結(jié)構(gòu)5的過程中的各項工藝參數(shù)。
[0049] 上述透光結(jié)構(gòu)的應(yīng)力檢測裝置在實際應(yīng)用過程中具有許多優(yōu)勢，為了便于本領(lǐng)域 技術(shù)人員理解，本發(fā)明實施例以透光結(jié)構(gòu)5為導(dǎo)光板為例，對該透光結(jié)構(gòu)的應(yīng)力檢測裝置 的一種具體應(yīng)用過程描述如下：
[0050] 首先，使用MoldFlow等軟件進行模擬計算，初步設(shè)定一系列導(dǎo)光板制作過程中的 工藝參數(shù)，然后根據(jù)這些參數(shù)制作導(dǎo)光板樣品。
[0051] 然后，將透光結(jié)構(gòu)4放置于光源1和第一偏振片2之間，光強分布狀態(tài)檢測單元3 獲取射出第一偏振片2的偏振光的光強分布狀態(tài)，應(yīng)力分布狀態(tài)分析單兀4根據(jù)光強分布 狀態(tài)獲得透光結(jié)構(gòu)5的應(yīng)力分布狀態(tài)并分析出的導(dǎo)光板樣品具有上述應(yīng)力分布狀態(tài)的原 因。
[0052] 最后，工藝參數(shù)實時調(diào)整單元6根據(jù)上述原因?qū)崟r調(diào)整導(dǎo)光板制作過程中的各項 工藝參數(shù)，例如處于熔融狀態(tài)的材料的射出速度、模具溫度、模具開口尺寸以及位置等，進 而總結(jié)出制作導(dǎo)光板的最佳工藝參數(shù)，并按照上述最佳工藝參數(shù)進行導(dǎo)光板的批量生產(chǎn)。
[0053] 優(yōu)選地，在總結(jié)制作導(dǎo)光板的最佳工藝參數(shù)的過程中，也可以預(yù)先設(shè)定好一個限 度樣本，并檢測該限度樣本的應(yīng)力分布狀態(tài)，然后將測試的導(dǎo)光板樣品的應(yīng)力分布狀態(tài)進 行對比，若不符合規(guī)格則應(yīng)力分布狀態(tài)分析單元4分析原因并且工藝參數(shù)實時調(diào)整單元6 對工藝參數(shù)進行實時調(diào)整，若符合規(guī)格則進行導(dǎo)光板的批量生產(chǎn)。
[0054] 此外，本發(fā)明實施例中所述的透光結(jié)構(gòu)5不局限于導(dǎo)光板，透光結(jié)構(gòu)5只要是能使 光線透過的結(jié)構(gòu)均可，透光結(jié)構(gòu)5可以透明也可以半透明，示例性地，透光結(jié)構(gòu)5可以為導(dǎo) 光板或者玻璃基板等結(jié)構(gòu)。
[0055] 具體地，光源1可以為發(fā)射偏振光的偏振光源，或者，如圖3所示，光源1也可以包 括自然光源11和第二偏振片12,自然光源11發(fā)出的自然光經(jīng)過第二偏振片12后變?yōu)槠?光。當(dāng)光源1包括自然光源11和第二偏振片12時，第二偏振片12的透光軸方向與第一偏 振片2的透光軸方向可以呈多種角度設(shè)置，其中當(dāng)?shù)诙衿?2的透光軸方向與第一偏振 片2的透光軸方向垂直時，理論上不會有光線通過第一偏振片2,但實際上會有微弱的偏振 光透過第一偏振片2,在此情況下，透光結(jié)構(gòu)5中的應(yīng)力對透過第一偏振片2的偏振光的光 強影響最明顯，因此，本發(fā)明實施例中優(yōu)選第二偏振片12的透光軸方向與第一偏振片2的 透光軸方向垂直。
[0056] 進一步地，如圖4所示，透光結(jié)構(gòu)的應(yīng)力檢測裝置還包括用于固定第一偏振片2的 上框架7,用于固定第二偏振片12的下框架8,用于承載透光結(jié)構(gòu)5的承載結(jié)構(gòu)9,用于固定 上框架7、第一偏振片2、下框架8、第二偏振片12和承載結(jié)構(gòu)9的底座10。其中，承載結(jié)構(gòu) 9為無應(yīng)力存在的PET膜，承載結(jié)構(gòu)9可以承載具有不同尺寸、不同材料的透光結(jié)構(gòu)5。此 夕卜，為了使本發(fā)明實施例中的透光結(jié)構(gòu)的應(yīng)力檢測裝置可以檢測不同厚度的透光結(jié)構(gòu)5的 應(yīng)力分布狀態(tài)，本發(fā)明實施例中優(yōu)選上框架7和下框架8之間的距離可調(diào)，示例性地，可以 通過動力裝置或者人工調(diào)節(jié)螺絲等方式調(diào)節(jié)。
[0057] 本發(fā)明實施例提供了一種透光結(jié)構(gòu)的應(yīng)力檢測裝置，該應(yīng)力檢測裝置包括光源、 第一偏振片和光強分布狀態(tài)檢測單元和應(yīng)力分布狀態(tài)分析單元；其中，光源出射均勻的偏 振光，檢測過程中，第一偏振片和光源分別位于透光結(jié)構(gòu)的兩側(cè)，光源出射的偏振光依次經(jīng) 過透光結(jié)構(gòu)和第一偏振片，光強分布狀態(tài)檢測單兀獲取射出第一偏振片的偏振光的光強分 布狀態(tài)，應(yīng)力分布狀態(tài)分析單元根據(jù)光強分布狀態(tài)獲得透光結(jié)構(gòu)的應(yīng)力分布狀態(tài)。因此，本 發(fā)明實施例中的透光結(jié)構(gòu)的應(yīng)力檢測裝置可以對透光結(jié)構(gòu)的應(yīng)力分布狀態(tài)進行檢測，進而 可以有效提升透光結(jié)構(gòu)的質(zhì)量以及顯示裝置的顯示效果。
[0058] 實施例二
[0059] 本發(fā)明實施例提供了一種透光結(jié)構(gòu)的應(yīng)力檢測方法，如圖5所示，該應(yīng)力檢測方 法包括：
[0060] 步驟S501、將透光結(jié)構(gòu)放置于光源和第一偏振片之間，光源出射均勻的偏振光。
[0061] 為了獲得最準(zhǔn)確的檢測結(jié)果，本發(fā)明實施例中優(yōu)選在將透光結(jié)構(gòu)5放置于光源1 和第一偏振片2之間，之前還包括：首先，獲取透光結(jié)構(gòu)5的材料和厚度信息；然后，根據(jù)透 光結(jié)構(gòu)5的材料和厚度信息調(diào)節(jié)光源1的亮度。
[0062] 步驟S502、光強分布狀態(tài)檢測單元獲取射出第一偏振片的偏振光的光強分布狀 態(tài)。
[0063] 示例性地，光強分布狀態(tài)可以以圖片的方式呈現(xiàn)，通過不同區(qū)域的顏色不同以表 現(xiàn)光強的不同，
[0064] 步驟S503、應(yīng)力分布狀態(tài)分析單元根據(jù)光強分布狀態(tài)獲得透光結(jié)構(gòu)的應(yīng)力分布狀 態(tài)。
[0065] 示例性地，應(yīng)力分布狀態(tài)也可以以圖片的方式呈現(xiàn)，通過不同區(qū)域的顏色不同以 表現(xiàn)應(yīng)力的不同。
[0066] 進一步地，透光結(jié)構(gòu)的應(yīng)力檢測方法還包括：應(yīng)力分布狀態(tài)分析單元4分析透光 結(jié)構(gòu)5具有應(yīng)力分布狀態(tài)的原因。
[0067] 進一步地，透光結(jié)構(gòu)的應(yīng)力檢測方法還包括：工藝參數(shù)實時調(diào)整單元6根據(jù)應(yīng)力 分布狀態(tài)分析單元4分析出的透光結(jié)構(gòu)5具有上述應(yīng)力分布狀態(tài)的原因?qū)崟r調(diào)整制作透光 結(jié)構(gòu)5的過程中的各項工藝參數(shù)。
[0068] 本發(fā)明實施例提供了一種透光結(jié)構(gòu)的應(yīng)力檢測方法，該應(yīng)力檢測方法包括將透光 結(jié)構(gòu)放置于光源和第一偏振片之間，光強分布狀態(tài)檢測單兀獲取射出第一偏振片的偏振光 的光強分布狀態(tài)，應(yīng)力分布狀態(tài)分析單元根據(jù)光強分布狀態(tài)獲得透光結(jié)構(gòu)的應(yīng)力分布狀 態(tài)。因此，本發(fā)明實施例中的透光結(jié)構(gòu)的應(yīng)力檢測裝置可以對透光結(jié)構(gòu)的應(yīng)力分布狀態(tài)進 行檢測，進而可以有效提升透光結(jié)構(gòu)的質(zhì)量以及顯示裝置的顯示效果。
[〇〇69] 以上所述，僅為本發(fā)明的【具體實施方式】，但本發(fā)明的保護范圍并不局限于此，任何 熟悉本【技術(shù)領(lǐng)域】的技術(shù)人員在本發(fā)明揭露的技術(shù)范圍內(nèi)，可輕易想到變化或替換，都應(yīng)涵 蓋在本發(fā)明的保護范圍之內(nèi)。因此，本發(fā)明的保護范圍應(yīng)以所述權(quán)利要求的保護范圍為準(zhǔn)。
【權(quán)利要求】
1. 一種透光結(jié)構(gòu)的應(yīng)力檢測裝置，其特征在于，包括：光源、第一偏振片和光強分布狀 態(tài)檢測單元和應(yīng)力分布狀態(tài)分析單元； 其中，所述光源出射均勻的偏振光，檢測過程中，所述第一偏振片和所述光源分別位于 所述透光結(jié)構(gòu)的兩側(cè)，所述光強分布狀態(tài)檢測單元用于獲取射出所述第一偏振片的偏振光 的光強分布狀態(tài)；所述應(yīng)力分布狀態(tài)分析單元用于根據(jù)所述光強分布狀態(tài)獲得所述透光結(jié) 構(gòu)的應(yīng)力分布狀態(tài)。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的透光結(jié)構(gòu)的應(yīng)力檢測裝置，其特征在于，所述應(yīng)力分布狀態(tài) 還用于分析所述透光結(jié)構(gòu)具有所述應(yīng)力分布狀態(tài)的原因。
3. 根據(jù)權(quán)利要求2所述的透光結(jié)構(gòu)的應(yīng)力檢測裝置，其特征在于，還包括工藝參數(shù)實 時調(diào)整單元，所述工藝參數(shù)實時調(diào)整單元用于根據(jù)所述應(yīng)力分布狀態(tài)分析單元分析出的所 述透光結(jié)構(gòu)具有所述應(yīng)力分布狀態(tài)的原因?qū)崟r調(diào)整制作所述透光結(jié)構(gòu)的過程中的各項工 藝參數(shù)。
4. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的透光結(jié)構(gòu)的應(yīng)力檢測裝置，其特征在于，所述光源為發(fā)射偏 振光的偏振光源，或者，所述光源包括自然光源和第二偏振片。
5. 根據(jù)權(quán)利要求4所述的透光結(jié)構(gòu)的應(yīng)力檢測裝置，其特征在于，所述第二偏振片的 透光軸方向與所述第一偏振片的透光軸方向垂直。
6. 根據(jù)權(quán)利要求4所述的透光結(jié)構(gòu)的應(yīng)力檢測裝置，其特征在于，還包括用于固定所 述第一偏振片的上框架，用于固定所述第二偏振片的下框架，用于承載所述透光結(jié)構(gòu)的承 載結(jié)構(gòu)，用于固定所述上框架、所述第一偏振片、所述下框架、所述第二偏振片、所述承載結(jié) 構(gòu)和所述透光結(jié)構(gòu)的底座。
7. 根據(jù)權(quán)利要求6所述的透光結(jié)構(gòu)的應(yīng)力檢測裝置，其特征在于，所述上框架和所述 下框架之間的距離可調(diào)。
8. 根據(jù)權(quán)利要求1-7任一項所述的透光結(jié)構(gòu)的應(yīng)力檢測裝置，其特征在于，所述透光 結(jié)構(gòu)透明或者半透明。
9. 一種透光結(jié)構(gòu)的應(yīng)力檢測方法，其特征在于，包括： 將所述透光結(jié)構(gòu)放置于光源和第一偏振片之間，所述光源出射均勻的偏振光； 光強分布狀態(tài)檢測單兀獲取射出所述第一偏振片的偏振光的光強分布狀態(tài)； 應(yīng)力分布狀態(tài)分析單元根據(jù)所述光強分布狀態(tài)獲得所述透光結(jié)構(gòu)的應(yīng)力分布狀態(tài)。
10. 根據(jù)權(quán)利要求9所述的透光結(jié)構(gòu)的應(yīng)力檢測方法，其特征在于，在將所述透光結(jié)構(gòu) 放置于光源和第一偏振片之間，之前還包括： 獲取所述透光結(jié)構(gòu)的材料和厚度信息； 根據(jù)所述透光結(jié)構(gòu)的材料和厚度信息調(diào)節(jié)所述光源的亮度。
11. 根據(jù)權(quán)利要求9或10所述的透光結(jié)構(gòu)的應(yīng)力檢測方法，其特征在于，還包括： 所述應(yīng)力分布狀態(tài)分析單元分析所述透光結(jié)構(gòu)具有所述應(yīng)力分布狀態(tài)的原因。
12. 根據(jù)權(quán)利要求11所述的透光結(jié)構(gòu)的應(yīng)力檢測方法，其特征在于，還包括： 工藝參數(shù)實時調(diào)整單元根據(jù)所述應(yīng)力分布狀態(tài)分析單元分析出的所述透光結(jié)構(gòu)具有 所述應(yīng)力分布狀態(tài)的原因?qū)崟r調(diào)整制作所述透光結(jié)構(gòu)的過程中的各項工藝參數(shù)。
【文檔編號】G01L1/24GK104089728SQ201410295714
【公開日】2014年10月8日 申請日期:2014年6月26日 優(yōu)先權(quán)日:2014年6月26日
【發(fā)明者】曾智輝, 劉芳, 馮鴻博, 蘇躍峰, 董瑞君 申請人:京東方科技集團股份有限公司, 北京京東方光電科技有限公司