一種應(yīng)用于光電直讀光譜分析儀的光學(xué)系統(tǒng)的制作方法
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種應(yīng)用于光電直讀光譜分析儀的光學(xué)系統(tǒng)，包括設(shè)置在光學(xué)室外的樣品、激發(fā)火花光源和設(shè)置在光學(xué)室內(nèi)的透鏡、凹面反光鏡、入射調(diào)節(jié)狹縫裝置、凹面光柵、多個出射狹縫裝置和多個光電倍增管，出射狹縫裝置、光電倍增管活動安裝在光學(xué)室內(nèi)，激發(fā)火花光源激發(fā)樣品發(fā)射特征光譜線，特征光譜線入射到光學(xué)室內(nèi)，通過透鏡反射到凹面反光鏡上，凹面反光鏡反射出來的特征光譜線通過入射調(diào)節(jié)狹縫裝置反射給凹面光柵，凹面光柵把特征光譜線分解成按波長大小順序排列的單色平行光，凹面光柵反射單色平行光通過對應(yīng)的出射狹縫裝置射到對應(yīng)的光電倍增管陰極上。本發(fā)明結(jié)構(gòu)簡單，調(diào)節(jié)方便，可以方便快捷地進行各種發(fā)光樣品的成份及其成份含量的測量。
【專利說明】—種應(yīng)用于光電直讀光譜分析儀的光學(xué)系統(tǒng)

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001 ] 本發(fā)明涉及光電直讀光譜儀【技術(shù)領(lǐng)域】，尤其涉及一種應(yīng)用于光電直讀光譜分析儀的光學(xué)系統(tǒng)。

【背景技術(shù)】
[0002]光電直讀光譜儀是分析黑色金屬及有色金屬成份的快速定量分析儀器。具有分析速度快、準確度高等優(yōu)點，適用于較寬的波長范圍，其光電倍增管對信號放大能力強，對強弱不同譜線可用不同的放大倍率，相差可達10000倍，而且線性范圍寬，可做高含量分析，如 Al、Pb、Mg、Zn、Sn、Fe、Co、N1、T1、Cu 等多種基體分析。
[0003]光電直讀光譜儀廣泛應(yīng)用于冶金、機械及其他工業(yè)部門，進行冶煉爐前的在線分析以及中心實驗室的產(chǎn)品檢驗，是控制產(chǎn)品質(zhì)量的有效手段之一。而光學(xué)室是測定激發(fā)火花光源激發(fā)發(fā)光樣品產(chǎn)生特征光譜線的地方，負責樣品特征光譜線的測量。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0004]為了解決【背景技術(shù)】中存在的技術(shù)問題，本發(fā)明提出了一種應(yīng)用于光電直讀光譜分析儀的光學(xué)系統(tǒng)，結(jié)構(gòu)簡單，調(diào)節(jié)方便，可以方便快捷地進行各種發(fā)光樣品的成份及其成份含量的測量。
[0005]本發(fā)明提出的一種應(yīng)用于光電直讀光譜分析儀的光學(xué)系統(tǒng)，包括設(shè)置在光學(xué)室外的樣品、激發(fā)火花光源和設(shè)置在光學(xué)室內(nèi)的透鏡、凹面反光鏡、入射調(diào)節(jié)狹縫裝置、凹面光柵、多個出射狹縫裝置和多個光電倍增管，出射狹縫裝置、光電倍增管活動安裝在光學(xué)室內(nèi)，激發(fā)火花光源激發(fā)樣品發(fā)射特征光譜線，特征光譜線入射到光學(xué)室內(nèi)，通過透鏡反射到凹面反光鏡上，凹面反光鏡反射出來的特征光譜線通過入射調(diào)節(jié)狹縫裝置反射給凹面光柵，凹面光柵把特征光譜線分解成按波長大小順序排列的單色平行光，凹面光柵反射單色平行光通過對應(yīng)的出射狹縫裝置射到對應(yīng)的光電倍增管陰極上，光電倍增管將對應(yīng)的單色平行光的特征光譜線強度轉(zhuǎn)變成電流信號并放大電流信號進行發(fā)光物質(zhì)的成份及其成份含量的測量。
[0006]優(yōu)選地，各個光電倍增管設(shè)置在對應(yīng)的出射狹縫裝置的出射端。
[0007]優(yōu)選地，光學(xué)室外設(shè)有Hg光源，Hg燈光源產(chǎn)生的基體線入射到光學(xué)室內(nèi)經(jīng)過凹面反光鏡、入射調(diào)節(jié)狹縫裝置完成Hg燈光源光學(xué)準直。
[0008]優(yōu)選地，入射調(diào)節(jié)狹縫裝置包括入射狹縫、調(diào)節(jié)入射狹縫大小的擋片以及調(diào)節(jié)擋片移動的手輪。
[0009]本發(fā)明提出的一種應(yīng)用于光電直讀光譜分析儀的光學(xué)系統(tǒng)，激發(fā)火花光源激發(fā)樣品發(fā)出的特征光譜線射到透鏡之后，均勻地照在入射調(diào)節(jié)狹縫裝置上，進入射調(diào)節(jié)狹縫裝置的光，經(jīng)凹面反光鏡轉(zhuǎn)向射到凹面光柵上，凹面光柵把特征光譜線分解成按波長大小順序排列的單色平行光，并由凹面光柵射出形成沿水平方向展開的光譜帶，通過對元素特征線辯認，在對應(yīng)的光線處放置出射狹縫裝置及光電倍增管，并通過光電倍增管測量對應(yīng)光線相對強度，便知發(fā)光物質(zhì)的成份及其成份含量。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0010]圖1為本發(fā)明提出的一種光電直讀光譜分析系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)示意圖。

【具體實施方式】
[0011]如圖1所示，圖1為本發(fā)明提出的一種光電直讀光譜分析系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0012]參照圖1，本發(fā)明提出的一種應(yīng)用于光電直讀光譜分析儀的光學(xué)系統(tǒng)，包括設(shè)置在光學(xué)室10外的樣品11、激發(fā)火花光源12和設(shè)置在光學(xué)室10內(nèi)的透鏡13、凹面反光鏡14、入射調(diào)節(jié)狹縫裝置15、凹面光柵16、多個出射狹縫裝置17和多個光電倍增管18，入射調(diào)節(jié)狹縫裝置15包括入射狹縫、調(diào)節(jié)入射狹縫大小的擋片以及調(diào)節(jié)擋片移動的手輪，出射狹縫裝置17、光電倍增管18活動安裝在光學(xué)室10內(nèi)，各個光電倍增管10設(shè)置在對應(yīng)的出射狹縫裝置17的出射端，激發(fā)火花光源12激發(fā)樣品11發(fā)射特征光譜線，特征光譜線入射到光學(xué)室10內(nèi)，通過透鏡13反射到凹面反光鏡14上，凹面反光鏡14反射出來的特征光譜線通過入射調(diào)節(jié)狹縫裝置15反射給凹面光柵16，凹面光柵16把特征光譜線分解成按波長大小順序排列的單色平行光，凹面光柵16反射單色平行光通過對應(yīng)的出射狹縫裝置17射到對應(yīng)的光電倍增管18陰極上，光電倍增管18將對應(yīng)的單色平行光的特征光譜線強度轉(zhuǎn)變成電流信號并放大電流信號進行發(fā)光物質(zhì)的成份及其成份含量的測量。
[0013]本發(fā)明中，激發(fā)火花光源12激發(fā)樣品11發(fā)出的特征光譜線射到透鏡13之后，均勻地照在入射調(diào)節(jié)狹縫裝置15上，進入射調(diào)節(jié)狹縫裝置15的光，經(jīng)凹面反光鏡14轉(zhuǎn)向射到凹面光柵16上，凹面光柵16把特征光譜線分解成按波長大小順序排列的單色平行光，并由凹面光柵16射出形成沿水平方向展開的光譜帶，通過對元素特征線辯認，在對應(yīng)的光線處放置出射狹縫裝置17及光電倍增管18，并通過光電倍增管18測量對應(yīng)光線相對強度，便知發(fā)光物質(zhì)的成份及其成份含量。
[0014]本發(fā)明中，光學(xué)室10外設(shè)有Hg光源，Hg燈光源產(chǎn)生的基體線入射到光學(xué)室10內(nèi)經(jīng)過凹面反光鏡14、入射調(diào)節(jié)狹縫裝置15完成Hg燈光源光學(xué)準直。本發(fā)明采用Hg光源產(chǎn)生的汞譜線來進行光路準直，在曝光程序以外的時間，打開Hg光源開關(guān)，入射光路輸入由Hg光源發(fā)出的光，令其射入凹面光柵16經(jīng)分光而產(chǎn)生汞譜線；光學(xué)系統(tǒng)調(diào)試時，汞譜線是調(diào)整每一個出射狹縫裝置17的基準，汞譜線的調(diào)整在主計算機上可直觀地觀察到，同時通過入射調(diào)節(jié)狹縫裝置15上的調(diào)整計數(shù)器，改變光線的入射光角度，從出射狹縫產(chǎn)生的光信號達到最大峰值，以此完成入射調(diào)節(jié)狹縫裝置15準直光學(xué)系統(tǒng)的目的。
[0015]以上所述，僅為本發(fā)明較佳的【具體實施方式】，但本發(fā)明的保護范圍并不局限于此，任何熟悉本【技術(shù)領(lǐng)域】的技術(shù)人員在本發(fā)明揭露的技術(shù)范圍內(nèi)，根據(jù)本發(fā)明的技術(shù)方案及其發(fā)明構(gòu)思加以等同替換或改變，都應(yīng)涵蓋在本發(fā)明的保護范圍之內(nèi)。
【權(quán)利要求】
1.一種應(yīng)用于光電直讀光譜分析儀的光學(xué)系統(tǒng)，其特征在于，包括設(shè)置在光學(xué)室(10)外的樣品(11)、激發(fā)火花光源(12)和設(shè)置在光學(xué)室(10)內(nèi)的透鏡(13)、凹面反光鏡(14)、入射調(diào)節(jié)狹縫裝置(15)、凹面光柵(16)、多個出射狹縫裝置(17)和多個光電倍增管(18)，出射狹縫裝置(17)、光電倍增管(18)活動安裝在光學(xué)室(10)內(nèi)，激發(fā)火花光源(12)激發(fā)樣品(11)發(fā)射特征光譜線，特征光譜線入射到光學(xué)室(10)內(nèi)，通過透鏡(13)反射到凹面反光鏡(14)上，凹面反光鏡(14)反射出來的特征光譜線通過入射調(diào)節(jié)狹縫裝置(15)反射給凹面光柵(16)，凹面光柵(16)把特征光譜線分解成按波長大小順序排列的單色平行光，凹面光柵(16)反射單色平行光通過對應(yīng)的出射狹縫裝置(17)射到對應(yīng)的光電倍增管(18)陰極上，光電倍增管(18)將對應(yīng)的單色平行光的特征光譜線強度轉(zhuǎn)變成電流信號并放大電流信號進行發(fā)光物質(zhì)的成份及其成份含量的測量。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的應(yīng)用于光電直讀光譜分析儀的光學(xué)系統(tǒng)，其特征在于，各個光電倍增管(18)設(shè)置在對應(yīng)的出射狹縫裝置(17)的出射端。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的應(yīng)用于光電直讀光譜分析儀的光學(xué)系統(tǒng)，其特征在于，光學(xué)室(10)外設(shè)有Hg光源，Hg燈光源產(chǎn)生的基體線入射到光學(xué)室(10)內(nèi)經(jīng)過凹面反光鏡(14)、入射調(diào)節(jié)狹縫裝置(15)完成Hg燈光源光學(xué)準直。
4.根據(jù)權(quán)利要求1或3所述的應(yīng)用于光電直讀光譜分析儀的光學(xué)系統(tǒng)，其特征在于，入射調(diào)節(jié)狹縫裝置(15)包括入射狹縫、調(diào)節(jié)入射狹縫大小的擋片以及調(diào)節(jié)擋片移動的手輪。
【文檔編號】G01N21/63GK104280348SQ201410577774
【公開日】2015年1月14日 申請日期:2014年10月24日 優(yōu)先權(quán)日:2014年10月24日
【發(fā)明者】陳進 申請人:合肥卓越分析儀器有限責任公司