一種測(cè)量真空冷噴涂粒子速度的方法
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種測(cè)量真空冷噴涂粒子速度的方法，其首先通過硬件采集卡采集真空冷噴涂粒子飛行時(shí)產(chǎn)生的電壓信號(hào)，然后通過內(nèi)存映射的方式將采集到的粒子電壓信號(hào)存儲(chǔ)到計(jì)算機(jī)中，最后計(jì)算機(jī)分析計(jì)算真空冷噴涂粒子的速度：首先對(duì)粒子電壓信號(hào)進(jìn)行濾波，然后通過矩形函數(shù)截取有效粒子波形，通過最小二乘法擬合粒子波形，最后由分析擬合后的波形計(jì)算得到真空冷噴涂粒子的飛行速度。本發(fā)明的測(cè)量真空冷噴涂粒子速度的方法集參數(shù)采集和數(shù)據(jù)分析為一體，實(shí)時(shí)采集、實(shí)時(shí)顯示并分析粒子波形數(shù)據(jù)，提高了研究人員的工作效率和使粒子參數(shù)采集具有連續(xù)性；另外，實(shí)時(shí)分析粒子信號(hào)數(shù)據(jù)時(shí)可以濾除粒子信號(hào)中的雜波，提高了對(duì)粒子速度檢測(cè)的準(zhǔn)確性。
【專利說明】一種測(cè)量真空冷噴涂粒子速度的方法

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本發(fā)明屬于真空冷噴涂【技術(shù)領(lǐng)域】，具體涉及一種測(cè)量真空冷噴粒子速度的方法。

【背景技術(shù)】
[0002] 真空冷噴涂（VacuumColdSpray)技術(shù)是一種新型納米陶瓷顆粒涂層制備技術(shù)， 主要原理是在室溫及真空條件下，通過高壓混合氣體（主要是N2，He和空氣）加速超細(xì)固態(tài) 陶瓷粉末顆粒，使其以一定的速度撞擊基體，從而實(shí)現(xiàn)基體涂層制備。上世紀(jì)80年代誕生 的微顆粒氣浮沉積法是真空冷噴涂技術(shù)的前身。此技術(shù)在日本被稱作氣浮沉積法（Aerosol DepositionMethod)，在韓國(guó)被稱為納米顆粒沉積系統(tǒng)（Nano-ParticleDeposition System)。日本先進(jìn)工業(yè)科學(xué)與技術(shù)研究院的Akedo教授對(duì)真空冷噴涂技術(shù)進(jìn)行研究并推 動(dòng)其進(jìn)一步發(fā)展，從此各國(guó)學(xué)者更加重視對(duì)真空冷噴涂技術(shù)的研究。
[0003] 現(xiàn)有技術(shù)中一般采用如下測(cè)量真空冷噴涂粒子的速度，首先通過光纖將真空冷噴 涂粒子參數(shù)采集系統(tǒng)和光電轉(zhuǎn)換器端口相連，然后通過電纜將光電轉(zhuǎn)換器與示波器的采樣 信號(hào)輸入端口相連，再采用RS232電纜將示波器與計(jì)算機(jī)中的硬件采集卡連接，打開噴涂 系統(tǒng)和激光發(fā)射儀，當(dāng)粒子在方形光闌兩側(cè)飛行時(shí)粒子像點(diǎn)形成的電壓很小，當(dāng)粒子飛行 至光闌邊長(zhǎng)范圍內(nèi)時(shí)，粒子像點(diǎn)形成的電壓達(dá)到最大值，從而粒子電壓值隨采樣時(shí)間的變 化會(huì)形成三角波信號(hào)。通過示波器采集并存儲(chǔ)粒子信號(hào)，然后WaveStar軟件通過串口通信 方式將示波器中的粒子數(shù)據(jù)保存到計(jì)算機(jī)磁盤nbk文件中，再通過Origin數(shù)據(jù)處理軟件讀 入采集到的nbk文件數(shù)據(jù)，在Origin數(shù)據(jù)處理軟件中分析處理數(shù)據(jù)，得到粒子的飛行速度。 雖然這種方法可以測(cè)出粒子飛行速度值，但是此測(cè)速方法是將采集到的粒子信號(hào)先存儲(chǔ)到 計(jì)算機(jī)中再導(dǎo)入到Origin數(shù)據(jù)處理軟件中分析處理數(shù)據(jù)，不能實(shí)時(shí)采集存儲(chǔ)粒子電壓參 數(shù)，也無法實(shí)時(shí)顯示粒子波形，并且不能對(duì)粒子信號(hào)進(jìn)行去噪處理，導(dǎo)致速度測(cè)量精確度不 高，測(cè)速方法效率低。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0004] 本發(fā)明的目的是提供一種測(cè)量真空冷噴涂粒子速度的方法，解決了現(xiàn)有技術(shù)中存 在的真空冷噴粒子速度測(cè)量精度低及效率低的技術(shù)問題。
[0005] 本發(fā)明所采用的技術(shù)方案是，一種測(cè)量真空冷噴涂粒子速度的方法，采用的真空 冷噴涂粒子速度測(cè)量裝置的結(jié)構(gòu)為：包括孔徑光闌，雙膠合透鏡組放置在孔徑光闌的內(nèi)部， 調(diào)制窗光闌在孔徑光闌的右側(cè)并與光纖連接，調(diào)制窗光闌在雙膠合透鏡組后形成一個(gè)調(diào)制 窗光闌理想像平面，調(diào)制窗光闌理想像平面在雙膠合透鏡組的焦平面上，激光發(fā)射儀在調(diào) 制窗光闌理想像平面的正上方，噴涂設(shè)備與基體分別在調(diào)制窗光闌理想像平面的左右兩 側(cè)，光纖后依次連接有光電轉(zhuǎn)換器、硬件采集卡、計(jì)算機(jī)；
[0006] 其測(cè)量真空冷噴涂粒子速度的步驟如下：
[0007] 步驟1:初始化硬件采集卡并設(shè)置采樣參數(shù)，包括設(shè)置計(jì)算機(jī)單文件保存的真空 冷噴涂粒子電壓信號(hào)的屏數(shù)；
[0008] 步驟2:計(jì)算機(jī)調(diào)用硬件采集卡接口采集真空冷噴涂粒子飛行時(shí)產(chǎn)生的電壓信 號(hào)，所述電壓信號(hào)為三角波形電壓信號(hào)；
[0009] 步驟3:初步判斷硬件采集卡采集的真空冷噴涂粒子電壓信號(hào)數(shù)據(jù)是否符合要 求：當(dāng)單屏真空冷噴涂粒子電壓信號(hào)數(shù)據(jù)的電壓最大值減去電壓平均值大于有效峰值 0. 03V時(shí)，說明單屏粒子數(shù)據(jù)有效，直接保存數(shù)據(jù)到內(nèi)存映射文件中，反之，不保存粒子數(shù)據(jù) 到內(nèi)存映射文件中，直接調(diào)用硬件采集卡采集下一屏粒子數(shù)據(jù)；
[0010] 重復(fù)步驟2與步驟3,直至符合要求的真空冷噴涂粒子電壓信號(hào)數(shù)據(jù)的屏數(shù)等于 步驟1中設(shè)置的計(jì)算機(jī)單文件保存的真空冷噴涂粒子電壓信號(hào)的屏數(shù)，然后將內(nèi)存映射文 件中的真空冷噴涂粒子電壓信號(hào)數(shù)據(jù)寫入計(jì)算機(jī)文件中，實(shí)時(shí)顯示真空冷噴涂粒子電壓信 號(hào)波形；
[0011] 步驟4 :分析處理各屏真空冷噴涂粒子電壓信號(hào)數(shù)據(jù)，具體步驟如下：
[0012] 4. 1濾除真空冷噴涂粒子電壓信號(hào)的噪聲信號(hào)；
[0013] 4. 2分析真空冷噴涂粒子電壓信號(hào)數(shù)據(jù)是否符合測(cè)速要求，不符合測(cè)速要求的該 屏真空冷噴涂粒子電壓信號(hào)數(shù)據(jù)不進(jìn)行后續(xù)的分析處理；
[0014] 4. 3擬合符合測(cè)速要求的真空冷噴涂粒子電壓信號(hào)波形，具體步驟如下：
[0015] 4. 3. 1采用循環(huán)遍歷的方式求出真空冷噴涂粒子的三角波形電壓信號(hào)的上升沿起 點(diǎn)和下降沿終點(diǎn)；
[0016] 4. 3. 2根據(jù)求出的三角波形上升沿起點(diǎn)和下降沿終點(diǎn)，通過矩形窗函數(shù)對(duì)真空冷 噴涂粒子電壓信號(hào)進(jìn)行截?cái)嗵幚?，得到真空冷噴涂粒子的有效三角波形?br> [0017] 4. 3. 3通過最小二乘法線性擬合真空冷噴涂粒子的有效三角波形，得到真空冷噴 涂粒子的電壓信號(hào)數(shù)據(jù)擬合方程；
[0018] 步驟5:計(jì)算真空噴涂冷粒子的速度
[0019] 5. 1首先求出各屏真空噴涂冷粒子電壓信號(hào)數(shù)據(jù)對(duì)應(yīng)的真空冷噴涂粒子的速 度，具體步驟如下：首先求出步驟4中擬合后的三角波形上升沿中點(diǎn)電壓值對(duì)應(yīng)的索引值middleposl和下降沿中點(diǎn)電壓值對(duì)應(yīng)的索引值middlepos2,然后計(jì)算各屏電壓信號(hào)數(shù)據(jù) 對(duì)應(yīng)的真空冷噴涂粒子的速度，計(jì)算公式如下：
[0020] v=s/t
[0021] 其中，t= (middlepos2_middleposl)/f，f是硬件采集卡的采樣頻率，s是調(diào)制窗 光闌的邊長(zhǎng)，為0.75mm;
[0022] 5. 2計(jì)算各屏真空噴涂冷粒子電壓信號(hào)數(shù)據(jù)對(duì)應(yīng)的真空冷噴涂粒子的速度的平均 值，得到真空噴涂冷粒子的速度，計(jì)算公式如下：

【權(quán)利要求】
1. 一種測(cè)量真空冷噴涂粒子速度的方法，其特征在于，采用的真空冷噴涂粒子速度測(cè) 量裝置的結(jié)構(gòu)為：包括孔徑光闌（5)，雙膠合透鏡組（6)放置在孔徑光闌（5)的內(nèi)部，調(diào)制 窗光闌（7)在孔徑光闌（5)的右側(cè)并與光纖（8)連接，調(diào)制窗光闌（7)在雙膠合透鏡組（6) 后形成一個(gè)調(diào)制窗光闌理想像平面（3)，調(diào)制窗光闌理想像平面（3)在雙膠合透鏡組（6) 的焦平面上，激光發(fā)射儀（1)在調(diào)制窗光闌理想像平面（3)的正上方，噴涂設(shè)備（4)與基 體⑵分別在調(diào)制窗光闌理想像平面（3)的左右兩側(cè)，光纖⑶后依次連接有光電轉(zhuǎn)換器 (9)、硬件采集卡（10)、計(jì)算機(jī)（11); 其測(cè)量真空冷噴涂粒子速度的步驟如下： 步驟1 :初始化硬件采集卡并設(shè)置采樣參數(shù)，包括設(shè)置計(jì)算機(jī)單文件保存的真空冷噴 涂粒子電壓信號(hào)的屏數(shù)； 步驟2 :計(jì)算機(jī)調(diào)用硬件采集卡接口采集真空冷噴涂粒子飛行時(shí)產(chǎn)生的電壓信號(hào)，所 述電壓信號(hào)為三角波形電壓信號(hào)； 步驟3 :初步判斷硬件采集卡采集的真空冷噴涂粒子電壓信號(hào)數(shù)據(jù)是否符合要求：當(dāng) 單屏真空冷噴涂粒子電壓信號(hào)數(shù)據(jù)的電壓最大值減去電壓平均值大于有效峰值0.03V時(shí)， 說明單屏粒子數(shù)據(jù)有效，直接保存數(shù)據(jù)到內(nèi)存映射文件中，反之，不保存粒子數(shù)據(jù)到內(nèi)存映 射文件中，直接調(diào)用硬件采集卡采集下一屏粒子數(shù)據(jù)； 重復(fù)步驟2與步驟3,直至符合要求的真空冷噴涂粒子電壓信號(hào)數(shù)據(jù)的屏數(shù)等于步驟 1中設(shè)置的計(jì)算機(jī)單文件保存的真空冷噴涂粒子電壓信號(hào)的屏數(shù)，然后將內(nèi)存映射文件中 的真空冷噴涂粒子電壓信號(hào)數(shù)據(jù)寫入計(jì)算機(jī)文件中，實(shí)時(shí)顯示真空冷噴涂粒子電壓信號(hào)波 形； 步驟4 :分析處理各屏真空冷噴涂粒子電壓信號(hào)數(shù)據(jù)，具體步驟如下： 4. 1濾除真空冷噴涂粒子電壓信號(hào)的噪聲信號(hào)； 4. 2分析真空冷噴涂粒子電壓信號(hào)數(shù)據(jù)是否符合測(cè)速要求，不符合測(cè)速要求的該屏真 空冷噴涂粒子電壓信號(hào)數(shù)據(jù)不進(jìn)行后續(xù)的分析處理； 4. 3擬合符合測(cè)速要求的真空冷噴涂粒子電壓信號(hào)波形，具體步驟如下： 4. 3. 1采用循環(huán)遍歷的方式求出真空冷噴涂粒子的三角波形電壓信號(hào)的上升沿起點(diǎn)和 下降沿終點(diǎn)； 4. 3. 2根據(jù)求出的三角波形上升沿起點(diǎn)和下降沿終點(diǎn)，通過矩形窗函數(shù)對(duì)真空冷噴涂 粒子電壓信號(hào)進(jìn)行截?cái)嗵幚?，得到真空冷噴涂粒子的有效三角波形? 4. 3. 3通過最小二乘法線性擬合真空冷噴涂粒子的有效三角波形，得到真空冷噴涂粒 子的電壓信號(hào)數(shù)據(jù)擬合方程； 步驟5 :計(jì)算真空噴涂冷粒子的速度 5. 1首先求出各屏真空噴涂冷粒子電壓信號(hào)數(shù)據(jù)對(duì)應(yīng)的真空冷噴涂粒子的速度， 具體步驟如下：首先求出步驟4中擬合后的三角波形上升沿中點(diǎn)電壓值對(duì)應(yīng)的索引值 middleposl和下降沿中點(diǎn)電壓值對(duì)應(yīng)的索引值middlepos2,然后計(jì)算各屏電壓信號(hào)數(shù)據(jù) 對(duì)應(yīng)的真空冷噴涂粒子的速度，計(jì)算公式如下： V = s/t 其中，t = (middlepos2_middleposl)/f，f是硬件采集卡的采樣頻率，s是調(diào)制窗光闌 的邊長(zhǎng)，為〇? 75mm ; 5. 2計(jì)算各屏真空噴涂冷粒子電壓信號(hào)數(shù)據(jù)對(duì)應(yīng)的真空冷噴涂粒子的速度的平均值， 得到真空噴涂冷粒子的速度，計(jì)算公式如下：
其中：Vi是第i屏的粒子速度值，n是符合測(cè)速要求的真空冷噴涂粒子電壓信號(hào)總屏 數(shù)。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種測(cè)量真空冷噴涂粒子速度的方法，其特征在于，所述 的步驟1中設(shè)置的采樣參數(shù)為耦合方式為DC直流耦合方式，采樣率為25MHZ，采樣長(zhǎng)度為 4096,預(yù)觸發(fā)長(zhǎng)度為256,觸發(fā)模式為自動(dòng)觸發(fā)，觸發(fā)源為CHA通道，觸發(fā)邊沿為上升沿觸 發(fā)，觸發(fā)電平為127,計(jì)算機(jī)單文件保存的粒子電壓屏數(shù)為49屏，硬件采集卡每采樣一屏數(shù) 據(jù)是采樣4096個(gè)粒子電壓點(diǎn)。
3. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種測(cè)量真空冷噴涂粒子速度的方法，其特征在于，所述的 步驟2中采集真空冷噴涂粒子飛行時(shí)產(chǎn)生的電壓信號(hào)的步驟如下：首先打開真空冷噴涂粒 子速度測(cè)量裝置中的激光發(fā)射儀，激光發(fā)射儀發(fā)射一束激光覆蓋在調(diào)制窗光闌所成的理想 像平面上，然后真空冷噴涂設(shè)備噴射冷粒子，冷粒子從光闌理想像平面飛過，飛行的冷粒子 反射一部分激光到透鏡組后面形成粒子像點(diǎn)，粒子像點(diǎn)經(jīng)過孔徑光闌、雙膠合透鏡組、調(diào)制 窗光闌后通過光纖輸入到光電轉(zhuǎn)換器中，光電轉(zhuǎn)換器將光信號(hào)轉(zhuǎn)化成電信號(hào)，得到真空冷 噴涂粒子飛行時(shí)產(chǎn)生的三角波形電壓信號(hào)，計(jì)算機(jī)調(diào)用硬件采集卡接口采集真空冷噴涂粒 子飛行時(shí)產(chǎn)生的三角波形電壓信號(hào)。
4. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種測(cè)量真空冷噴涂粒子速度的方法，其特征在于，所述的 步驟4. 1中濾除真空冷噴涂粒子電壓信號(hào)的噪聲信號(hào)的方法如下：對(duì)真空冷噴涂粒子噪聲 信號(hào)進(jìn)行256鄰點(diǎn)平均處理，確定背底噪聲的零漂水平大小，作為去除零漂的依據(jù)，然后對(duì) 采集到的每一屏真空冷噴涂粒子的電壓信號(hào)進(jìn)行快速傅里葉變換（FFT)低通濾波（頻率為 0-1. 22MHZ)加16鄰點(diǎn)平均濾波，濾除真空冷噴涂粒子信號(hào)中的噪聲信號(hào)，再對(duì)濾波后的真 空冷噴涂粒子信號(hào)進(jìn)行零漂補(bǔ)償處理得到新的真空冷噴涂粒子電壓信號(hào)數(shù)據(jù)，記作：X(i)， i為索引，1彡i彡4096, X(i)為i索引值處的電壓值，即第i個(gè)電壓點(diǎn)對(duì)應(yīng)的電壓值。
5. 根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種測(cè)量真空冷噴涂粒子速度的方法，其特征在于，所述的 步驟4. 2中分析真空冷噴涂粒子電壓信號(hào)數(shù)據(jù)是否符合測(cè)速要求的方法如下：通過循環(huán)遍 歷的方式求出零漂補(bǔ)償后的每屏真空冷噴涂粒子信號(hào)的電壓值中的最大值max和電壓最 大值對(duì)應(yīng)的索引值maxpos，并且求出每屏粒子信號(hào)的電壓平均值ave，當(dāng)遍歷到的粒子電 壓值小于〇? 9max值時(shí)，結(jié)束遍歷，此處的電壓值記作firstmax，其對(duì)應(yīng)的索引值記為posl， 再?gòu)牧Ｗ幼畲笾堤幭蛴冶闅v，當(dāng)遍歷到的粒子電壓值小于〇. 9max值時(shí)，結(jié)束遍歷，此處的 電壓值記為lastmax，其對(duì)應(yīng)的索引值記為pos2 ;如果電壓最大值max減去電壓平均值ave 大于有效峰值〇. 03V，并且pos2與posl的差值大于5,那么該屏真空冷噴涂粒子電壓信號(hào) 數(shù)據(jù)符合測(cè)速要求，保留，如果P〇s2與posl的差值小于等于5,那么此屏真空冷噴涂粒子電 壓信號(hào)峰波持續(xù)過短，不滿足測(cè)速要求，該屏真空冷噴涂粒子電壓信號(hào)數(shù)據(jù)不進(jìn)行后續(xù)的 分析處理。
6. 根據(jù)權(quán)利要求5所述的一種測(cè)量真空冷噴涂粒子速度的方法，其特征在于，所述的 步驟4. 3. 1中采用循環(huán)遍歷的方式求出真空冷噴涂粒子的三角波形電壓信號(hào)的上升沿起 點(diǎn)和下降沿終點(diǎn)的方法如下：根據(jù)步驟4. 1確定的噪聲的零漂水平，對(duì)原噪聲進(jìn)行零漂補(bǔ) 償，得出最新的噪聲值，再對(duì)噪聲信號(hào)進(jìn)行電壓幅值統(tǒng)計(jì)，并根據(jù)真空冷噴涂粒子噪聲信號(hào) 的高斯分布特性和高斯分布的3〇原則，得出真空冷噴涂粒子有效脈沖信號(hào)判據(jù)為3〇 = 21. 3mV，然后由電壓最大值所在位置開始依次向前遍歷粒子電壓值，當(dāng)某點(diǎn)粒子電壓值小 于21. 3mV時(shí)，結(jié)束遍歷，此點(diǎn)為三角波形上升沿的起點(diǎn)，此點(diǎn)的電壓值記為beginval，其對(duì) 應(yīng)的索引值記為beginpos，再?gòu)碾妷鹤畲笾邓谖恢瞄_始依次向后遍歷粒子電壓值，當(dāng)某 點(diǎn)粒子電壓值小于21. 3mV時(shí)，結(jié)束遍歷，此點(diǎn)為三角波形下降沿的終點(diǎn)，此點(diǎn)的電壓值記 為endval，其對(duì)應(yīng)的索引值記為endpos。
7. 根據(jù)權(quán)利要求6所述的一種測(cè)量真空冷噴涂粒子速度的方法，其特征在于，所述的 矩形窗函數(shù)的公式如下：
其中，nl為截取區(qū)域的起始點(diǎn)beginpos, n2為截取區(qū)域的終止點(diǎn)endpos ;通過矩形窗 函數(shù)截取后的粒子三角波形上升沿電壓數(shù)據(jù)保存為Yl (il)，三角波形下降沿電壓數(shù)據(jù)保存 為 Y2(i2)。
8. 根據(jù)權(quán)利要求7所述的一種測(cè)量真空冷噴涂粒子速度的方法，其特征在于，所述的 步驟4. 3. 3中通過最小二乘法線性擬合真空冷噴涂粒子的有效三角波形，得出真空冷噴涂 粒子的信號(hào)擬合方程，具體步驟如下： 設(shè)三角波形上升沿?cái)M合函數(shù)公式： Yl = al+bl*Xl 下降沿?cái)M合函數(shù)公式： Y2 = a2+b2*X2 那么上升沿?cái)M合函數(shù)系數(shù)公式為：

Xl (il) = il，il = 1，2…n，n = maxpos-beginpos+1，Yl (il)為截取后的三角波形上 升沿的電壓數(shù)據(jù)； 三角波形下降沿?cái)M合函數(shù)系數(shù)公式為：
X2(i2) = i2, i2 = 1，2…nl，nl = endpos-maxpos+1，Y2(i2)為截取后的三角波形下 降沿的電壓數(shù)據(jù)；擬合后的上升沿電壓數(shù)據(jù)保存到新的一維數(shù)組Zl (i3)，擬合后的下降沿 電壓數(shù)據(jù)保存到新的一維數(shù)組Zl (i4)。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的一種測(cè)量真空冷噴涂粒子速度的方法，其特征在于，所述的 步驟5中求三角波形上升沿中點(diǎn)電壓值對(duì)應(yīng)的索引值middl印osl，和三角波形下降沿中點(diǎn) 電壓值對(duì)應(yīng)的索引值middl印os2的具體步驟如下：求三角波形上升沿的中點(diǎn)時(shí)，從上升沿 最大索引值處依次向前遍歷粒子上升沿電壓數(shù)組Zl (i3)，當(dāng)遍歷到索引值對(duì)應(yīng)的電壓值小 于〇. 5倍的最大索引值對(duì)應(yīng)的電壓值時(shí)，結(jié)束遍歷，將此時(shí)的遍歷點(diǎn)作為三角波形上升沿 中點(diǎn)，即此時(shí)的索引值加上beginpos便為上升沿中點(diǎn)對(duì)應(yīng)的索引值middleposl ;求三角波 形下降沿的中點(diǎn)時(shí)，從下降沿最小索引值處依次向后遍歷粒子下降沿電壓數(shù)組Z2 (i4)，當(dāng) 遍歷到索引值對(duì)應(yīng)的電壓值小于〇. 5倍的最小索引對(duì)應(yīng)的電壓值時(shí)，結(jié)束遍歷，將此時(shí)的 遍歷點(diǎn)作為三角波形下降沿中點(diǎn)，即此時(shí)的索引值加上beginpos便為下降沿中點(diǎn)對(duì)應(yīng)的 索引值 middlepos2。
【文檔編號(hào)】G01P5/26GK104330588SQ201410696792
【公開日】2015年2月4日 申請(qǐng)日期:2014年11月26日 優(yōu)先權(quán)日:2014年11月26日
【發(fā)明者】毋濤, 潘曉慧, 張衛(wèi)軍, 汪子涵, 張帆, 何科訓(xùn) 申請(qǐng)人:西安工程大學(xué)