方波沖擊測(cè)試氮?dú)夤?yīng)裝置制造方法
【專(zhuān)利摘要】本實(shí)用新型提供一種方波沖擊測(cè)試氮?dú)夤?yīng)裝置，包括：方波缸；低壓供氣部，包括低壓瓶、一端與所述低壓瓶供氣接口氣路連接的低壓控制部，所述低壓控制部另一端與所述方波缸氣路連接；高壓供氣部，包括高壓瓶、一端與所述高壓瓶供氣接口氣路連接的高壓控制部，所述高壓控制部另一端與所述方波缸氣路連接。本實(shí)用新型提供的測(cè)試氮?dú)夤?yīng)裝置，能夠高效利用氮?dú)馄?，提高氮?dú)獾睦寐?，減少浪費(fèi)。
【專(zhuān)利說(shuō)明】方波沖擊測(cè)試氮?dú)夤?yīng)裝置
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及一種沖擊測(cè)試裝置，特別是涉及一種沖擊測(cè)試氮?dú)夤?yīng)裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]許多產(chǎn)品在使用、裝卸、運(yùn)輸過(guò)程中都會(huì)受到?jīng)_擊。沖擊的量值變化很大并具有復(fù)雜的性質(zhì)。因此沖擊和碰撞可靠性測(cè)試適用于確定機(jī)械的薄弱環(huán)節(jié)，考核產(chǎn)品結(jié)構(gòu)的完整性。所謂沖擊，是指在沖擊過(guò)程中，遇到的非經(jīng)常性、非重復(fù)性的沖擊力。這種沖擊力產(chǎn)生的加速度大，沖擊脈沖持續(xù)時(shí)間短。
[0003]為提高電子儀器設(shè)備的可靠度，需對(duì)其進(jìn)行機(jī)構(gòu)強(qiáng)度方面的測(cè)試，如方波沖擊測(cè)試，以發(fā)現(xiàn)結(jié)構(gòu)缺陷，在其上市之前改進(jìn)改良。執(zhí)行方波沖擊測(cè)試需用到?jīng)_擊設(shè)備，方波缸是沖擊設(shè)備的重要組成部分，又稱(chēng)為方波發(fā)生器。執(zhí)行方波測(cè)試前，需要往方波缸內(nèi)充氮?dú)?。沖擊(方波脈沖)測(cè)試主要為氮?dú)馄抗夥绞剑壳?，主要為單支氮?dú)馄抗?，測(cè)試過(guò)程中，要求瓶?jī)?nèi)壓力必須大于70kg/m2，當(dāng)瓶?jī)?nèi)氣壓小于70kg/m2時(shí)，必須換用新的氮?dú)馄?，這造成大量浪費(fèi)。
實(shí)用新型內(nèi)容
[0004]鑒于以上所述現(xiàn)有技術(shù)的缺點(diǎn)，本實(shí)用新型的目的在于提供一種方波沖擊測(cè)試氮?dú)夤?yīng)裝置，用于解決現(xiàn)有技術(shù)中氮?dú)馄抗鈺r(shí)浪費(fèi)過(guò)大的問(wèn)題。
[0005]為實(shí)現(xiàn)上述目的及其他相關(guān)目的，本實(shí)用新型提供一種方波沖擊測(cè)試氮?dú)夤?yīng)裝置，包括:方波缸；低壓供氣部，包括低壓瓶、一端與所述低壓瓶供氣接口氣路連接的低壓控制部，所述低壓控制部另一端與所述方波缸氣路連接；高壓供氣部，包括高壓瓶、一端與所述高壓瓶供氣接口氣路連接的高壓控制部，所述高壓控制部另一端與所述方波缸氣路連接。
[0006]優(yōu)選地，所述低壓控制部包括低壓瓶開(kāi)關(guān)及低壓調(diào)節(jié)閥，所述低壓調(diào)節(jié)閥一端氣路連接所述低壓瓶供氣接口，另一端與所述低壓瓶開(kāi)關(guān)氣路連接。
[0007]優(yōu)選地，所述低壓控制部為低壓瓶開(kāi)關(guān)。
[0008]優(yōu)選地，所述高壓控制部包括高壓瓶開(kāi)關(guān)及高壓調(diào)節(jié)閥，所述高壓調(diào)節(jié)閥一端氣路連接所述高壓瓶供氣接口，另一端與所述高壓瓶開(kāi)關(guān)氣路連接。
[0009]如上所述，本實(shí)用新型的方波沖擊測(cè)試氮?dú)夤?yīng)裝置，具有以下有益效果:本實(shí)用新型通過(guò)低壓瓶預(yù)先供氣，填充方波缸中大部分的空間，當(dāng)方波缸中的壓力與所述低壓瓶的壓力持平時(shí)，再使用高壓瓶對(duì)方波缸進(jìn)行供氣，調(diào)節(jié)供氣壓力，使得方波缸中的氮?dú)鈮毫_(dá)到測(cè)試要求；而以往使用一支氮?dú)馄窟M(jìn)行供氣時(shí)，因壓力不夠需要更換新的氮?dú)馄?，而撤換的氮?dú)馄窟€留有大量的未利用的氮?dú)?；而使用本裝置能夠高效利用氮?dú)馄?，提高氮?dú)獾睦寐?，減少浪費(fèi)。
【專(zhuān)利附圖】

【附圖說(shuō)明】[0010]圖1顯示為本實(shí)用新型原理示意圖。
[0011]圖2顯示為本實(shí)用新型另一實(shí)施例示意圖。
[0012]零件標(biāo)號(hào)說(shuō)明
[0013]I 方波缸
[0014]2 低壓瓶
[0015]21低壓瓶開(kāi)關(guān)
[0016]22低壓調(diào)節(jié)閥
[0017]3 高壓瓶
[0018]31高壓瓶開(kāi)關(guān)
[0019]32高壓調(diào)節(jié)閥
【具體實(shí)施方式】
[0020]以下由特定的具體實(shí)施例說(shuō)明本實(shí)用新型的實(shí)施方式，熟悉此技術(shù)的人士可由本說(shuō)明書(shū)所揭露的內(nèi)容輕易地了解本實(shí)用新型的其他優(yōu)點(diǎn)及功效。
[0021]請(qǐng)參閱圖1至圖2。須知，本說(shuō)明書(shū)所附圖式所繪示的結(jié)構(gòu)、比例、大小等，均僅用以配合說(shuō)明書(shū)所揭示的內(nèi)容，以供熟悉此技術(shù)的人士了解與閱讀，并非用以限定本實(shí)用新型可實(shí)施的限定條件，故不具技術(shù)上的實(shí)質(zhì)意義，任何結(jié)構(gòu)的修飾、比例關(guān)系的改變或大小的調(diào)整，在不影響本實(shí)用新型所能產(chǎn)生的功效及所能達(dá)成的目的下，均應(yīng)仍落在本實(shí)用新型所揭示的技術(shù)內(nèi)容得能涵蓋的范圍內(nèi)。同時(shí)，本說(shuō)明書(shū)中所引用的如“上”、“下”、“左”、“右”、“中間”及“一”等的用語(yǔ)，亦僅為便于敘述的明了，而非用以限定本實(shí)用新型可實(shí)施的范圍，其相對(duì)關(guān)系的改變或調(diào)整，在無(wú)實(shí)質(zhì)變更技術(shù)內(nèi)容下，當(dāng)亦視為本實(shí)用新型可實(shí)施的范疇。
[0022]如圖1所示，本實(shí)用新型提供一種方波沖擊測(cè)試氮?dú)夤?yīng)裝置，包括:方波缸I ;低壓供氣部，包括低壓瓶2、一端與所述低壓瓶2供氣接口氣路連接的低壓控制部，所述低壓控制部另一端與所述方波缸I氣路連接；高壓供氣部，包括高壓瓶3、一端與所述高壓瓶3供氣接口氣路連接的高壓控制部，所述高壓控制部另一端與所述方波缸I氣路連接。
[0023]所述方波缸I (方波發(fā)生器)內(nèi)的氮?dú)庥伤龅蛪浩?及高壓瓶3提供，根據(jù)不同測(cè)試需求，被測(cè)電子設(shè)備等需執(zhí)行不同加速度的方波沖擊測(cè)試(沖擊加速度大小與方波缸內(nèi)氮?dú)鈮毫τ嘘P(guān))。若提供給方波缸I的氮?dú)鈮毫π∮陬A(yù)設(shè)值時(shí)，會(huì)致使測(cè)試條件達(dá)不到。所以當(dāng)?shù)獨(dú)馄康獨(dú)鈮毫π∮陬A(yù)設(shè)值時(shí)不得不更換新的氮?dú)馄?，這造成大量浪費(fèi)。
[0024]所述低壓控制部包括低壓瓶開(kāi)關(guān)21及低壓調(diào)節(jié)閥22，所述低壓調(diào)節(jié)閥22 —端氣路連接所述低壓瓶2供氣接口，另一端與所述低壓瓶開(kāi)關(guān)21氣路連接。所述低壓瓶開(kāi)關(guān)21為在所述低壓瓶2供氣過(guò)程完成時(shí)，關(guān)閉所述低壓瓶2對(duì)所述方波缸I的供氣；所述低壓調(diào)節(jié)閥22為在所述低壓瓶2供氣過(guò)程中調(diào)節(jié)供氣速率。在另一實(shí)施例中，如圖2所示，所述低壓控制部就只包括低壓瓶開(kāi)關(guān)21，所述低壓瓶2供氣過(guò)程中不需要控制其對(duì)所述方波缸I的氮?dú)鈮毫Υ笮　?br> [0025]所述高壓控制部包括高壓瓶開(kāi)關(guān)31及高壓調(diào)節(jié)閥32，所述高壓調(diào)節(jié)閥32 —端氣路連接所述高壓瓶3供氣接口，另一端與所述高壓瓶開(kāi)關(guān)31氣路連接。
[0026]所述高壓瓶開(kāi)關(guān)31在所述低壓瓶2供氣完成時(shí)開(kāi)啟，使所述高壓瓶3對(duì)所述方波缸I進(jìn)行供氣；所述高壓調(diào)節(jié)閥32在所述高壓瓶3供氣時(shí)調(diào)節(jié)供氣速率，通過(guò)控制供氣速率達(dá)到控制所述方波缸I中的氮?dú)鈮毫?，并通過(guò)調(diào)節(jié)使得所述方波缸I中的壓力滿(mǎn)足測(cè)試條件。
[0027]所述低壓供氣部對(duì)所述方波缸I充氣后，當(dāng)所述低壓瓶2內(nèi)壓力與所述方波缸I壓力持平時(shí)，關(guān)閉所述低壓瓶2對(duì)所述方波缸I的供氣，同時(shí)，開(kāi)啟所述高壓瓶3對(duì)所述方波缸I的供氣。
[0028]具體操作步驟為:
[0029]關(guān)閉高壓瓶開(kāi)關(guān)31，開(kāi)啟低壓瓶開(kāi)關(guān)21，調(diào)節(jié)低壓調(diào)節(jié)閥22使得低壓瓶2開(kāi)始向方波缸I充氣，直至低壓瓶2不能再向方波缸I充氣為止，此時(shí)，方波缸I內(nèi)的氮?dú)鈮毫εc低壓瓶2內(nèi)的氮?dú)鈮毫Τ制剑錃饬康亩嗌儆傻蛪浩?內(nèi)的氮?dú)鈮毫Q定，不是定值；
[0030]關(guān)閉低壓瓶開(kāi)關(guān)21，開(kāi)啟高壓瓶開(kāi)關(guān)31，調(diào)節(jié)高壓調(diào)節(jié)閥32使得高壓瓶3開(kāi)始向方波缸I充氣，直至方波缸I內(nèi)氮?dú)鈮毫_(dá)到測(cè)試要求為止(通常在iookg/ m2?IlOkg/ m2之間)。
[0031]綜上所述，本實(shí)用新型提供的方波沖擊測(cè)試氮?dú)夤?yīng)裝置，通過(guò)低壓瓶預(yù)先供氣，填充方波缸中大部分的空間，當(dāng)方波缸中的壓力與所述低壓瓶的壓力持平時(shí)，再使用高壓瓶對(duì)方波缸進(jìn)行供氣，調(diào)節(jié)供氣壓力，使得方波缸中的氮?dú)鈮毫_(dá)到測(cè)試要求；而以往使用一支氮?dú)馄窟M(jìn)行供氣時(shí)，因壓力不夠需要更換新的氮?dú)馄浚窊Q的氮?dú)馄窟€留有大量的未利用的氮?dú)?；而使用本裝置能夠高效利用氮?dú)馄浚岣叩獨(dú)獾睦寐?，減少浪費(fèi)。所以，本實(shí)用新型有效克服了現(xiàn)有技術(shù)中的種種缺點(diǎn)而具高度產(chǎn)業(yè)利用價(jià)值。
[0032]上述實(shí)施例僅例示性說(shuō)明本實(shí)用新型的原理及其功效，而非用于限制本實(shí)用新型。任何熟悉此技術(shù)的人士皆可在不違背本實(shí)用新型的精神及范疇下，對(duì)上述實(shí)施例進(jìn)行修飾或改變。因此，舉凡所屬【技術(shù)領(lǐng)域】中具有通常知識(shí)者在未脫離本實(shí)用新型所揭示的精神與技術(shù)思想下所完成的一切等效修飾或改變，仍應(yīng)由本實(shí)用新型的權(quán)利要求所涵蓋。
【權(quán)利要求】
1.一種方波沖擊測(cè)試氮?dú)夤?yīng)裝置，其特征在于，包括: 方波缸； 低壓供氣部，包括低壓瓶、一端與所述低壓瓶供氣接口氣路連接的低壓控制部，所述低壓控制部的另一端與所述方波缸氣路連接； 高壓供氣部，包括高壓瓶、一端與所述高壓瓶供氣接口氣路連接的高壓控制部，所述高壓控制部的另一端與所述方波缸氣路連接。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方波沖擊測(cè)試氮?dú)夤?yīng)裝置，其特征在于:所述低壓控制部包括低壓瓶開(kāi)關(guān)及低壓調(diào)節(jié)閥，所述低壓調(diào)節(jié)閥一端氣路連接所述低壓瓶供氣接口，另一端與所述低壓瓶開(kāi)關(guān)氣路連接。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方波沖擊測(cè)試氮?dú)夤?yīng)裝置，其特征在于:所述低壓控制部為低壓瓶開(kāi)關(guān)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方波沖擊測(cè)試氮?dú)夤?yīng)裝置，其特征在于:所述高壓控制部包括高壓瓶開(kāi)關(guān)及高壓調(diào)節(jié)閥，所述高壓調(diào)節(jié)閥一端氣路連接所述高壓瓶供氣接口，另一端與所述高壓瓶開(kāi)關(guān)氣路連接。
【文檔編號(hào)】G01M7/08GK203798524SQ201420151177
【公開(kāi)日】2014年8月27日 申請(qǐng)日期:2014年3月31日 優(yōu)先權(quán)日:2014年3月31日
【發(fā)明者】鐘正, 王明 申請(qǐng)人:達(dá)豐（重慶）電腦有限公司