一種異形光學(xué)元件中心偏差的輔助檢驗(yàn)裝置制造方法
【專利摘要】本實(shí)用新型公開了一種異形光學(xué)元件中心偏差的輔助檢驗(yàn)裝置，包括圓盤形基座和固定所述的圓盤形基座的夾具，所述的基座上設(shè)有一個(gè)與異形光學(xué)元件的尺寸匹配的方形通孔，所述的方形通孔的內(nèi)壁下側(cè)的四周設(shè)有一圈凸出的臺(tái)階，所述的臺(tái)階的上表面與水平面平行，所述的臺(tái)階的寬度為0.4～0.5cm，所述的臺(tái)階的上表面距離所述的基座上表面的距離為1.2～1.5cm，所述的方形通孔的四個(gè)角上分別設(shè)有一個(gè)保護(hù)通孔,所述的方形通孔的中心與所述的圓盤形基座的圓心重合。本實(shí)用新型旨在提供一種測(cè)量精度高、測(cè)量過程簡(jiǎn)單的異形光學(xué)元件中心偏差的輔助檢驗(yàn)裝置。
【專利說明】
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本實(shí)用新型涉及光學(xué)鏡片的生產(chǎn)設(shè)備制造領(lǐng)域，特別是一種異形光學(xué)元件中心偏 差的輔助檢驗(yàn)裝置。 一種異形光學(xué)元件中心偏差的輔助檢驗(yàn)裝置

【背景技術(shù)】
[0002] 隨著科學(xué)技術(shù)的發(fā)展，光學(xué)鏡片經(jīng)歷了多個(gè)產(chǎn)品形狀的發(fā)展，從傳統(tǒng)的圓形光學(xué) 鏡片演化為方形光學(xué)鏡片，隨著應(yīng)用范圍的擴(kuò)展，鏡片的形狀也從規(guī)則向不規(guī)則的形狀發(fā) 展，比如L形、中空的方形、凹字形、Z字形等，要對(duì)這些光學(xué)鏡片進(jìn)行中心偏差進(jìn)行檢測(cè)，難 度要遠(yuǎn)遠(yuǎn)大于對(duì)規(guī)則的形狀的光學(xué)鏡片進(jìn)行檢測(cè)，在現(xiàn)有技術(shù)中，一般檢測(cè)異性光學(xué)元件 的中心偏差往往采用游標(biāo)卡尺或者其他鏡面形狀的檢測(cè)工具進(jìn)行測(cè)量，在測(cè)量過程中，一 般通過化學(xué)膠黏劑將光學(xué)元件粘結(jié)在水平面上進(jìn)行固定，其測(cè)量過程復(fù)雜，由于具有化學(xué) 膠黏劑的水平面并不是嚴(yán)格的水平，對(duì)測(cè)量精度也有一定的影響。 實(shí)用新型內(nèi)容
[0003] 本實(shí)用新型提供一種測(cè)量精度高、測(cè)量過程簡(jiǎn)單的異形光學(xué)元件中心偏差的輔助 檢驗(yàn)裝置。
[0004] 本實(shí)用新型提供的技術(shù)方案為：一種異形光學(xué)元件中心偏差的輔助檢驗(yàn)裝置，包 括圓盤形基座和固定所述的圓盤形基座的夾具，所述的基座上設(shè)有一個(gè)與異形光學(xué)元件的 尺寸匹配的方形通孔，所述的方形通孔的內(nèi)壁下側(cè)的四周設(shè)有一圈凸出的臺(tái)階，所述的臺(tái) 階的上表面與水平面平行，所述的臺(tái)階的寬度為0. 4?0. 5cm，所述的臺(tái)階的上表面距離所 述的基座上表面的距離為1. 2?1. 5cm，所述的方形通孔的四個(gè)角上分別設(shè)有一個(gè)保護(hù)通 孔，所述的方形通孔的中心與所述的圓盤形基座的圓心重合。
[0005] 在上述的異形光學(xué)元件中心偏差的輔助檢驗(yàn)裝置中，所述的夾具為三爪卡盤。
[0006] 在上述的異形光學(xué)元件中心偏差的輔助檢驗(yàn)裝置中，所述的圓盤形基座為不銹鋼 材料制成。
[0007] 本實(shí)用新型采用方形通孔以及固定在方形通過內(nèi)壁下側(cè)的臺(tái)階對(duì)異性光學(xué)鏡 片進(jìn)行固定以輔助中心偏差數(shù)據(jù)的檢測(cè)，本實(shí)用新型中，臺(tái)階的寬度恰到好處的設(shè)置在 0. 4?0. 5cm范圍內(nèi)，防止過窄不易放置鏡片，過寬縮小了測(cè)量面積，更為重要的是，由于本 實(shí)用新型所測(cè)量的對(duì)象是異形光學(xué)元件，在測(cè)量過程中，需要不斷的旋轉(zhuǎn)本輔助檢查裝置， 異性光學(xué)元件在轉(zhuǎn)動(dòng)的過程中各個(gè)頂角與方形通孔之間的接觸力并不是均衡的，特別是在 檢測(cè)工具的測(cè)量頭施加一定的作用力與光學(xué)元件的表面時(shí)，這種現(xiàn)象更加明顯，容易造成 光學(xué)元件的角磕壞或者在擠壓作用下?lián)p傷，采用本方案的保護(hù)通孔，可以避免各角受力，相 應(yīng)的作用力轉(zhuǎn)移到光學(xué)元件的邊上，降低了產(chǎn)品的測(cè)量損壞率。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0008] 圖1是本實(shí)用新型的具體實(shí)施例1的圓盤形基座1的俯視圖；
[0009] 圖2是本實(shí)用新型的具體實(shí)施例1的圓盤形基座1的仰視圖；
[0010] 圖3是本實(shí)用新型的具體實(shí)施例1的圓盤形基座1上安裝有L形光學(xué)元件后的俯 視圖；
[0011]圖4是本實(shí)用新型的具體實(shí)施例1的輔助檢驗(yàn)裝置上安裝有L形光學(xué)元件后的俯 視圖。

【具體實(shí)施方式】
[0012] 下面結(jié)合【具體實(shí)施方式】，對(duì)本實(shí)用新型的技術(shù)方案作進(jìn)一步的詳細(xì)說明，但不構(gòu) 成對(duì)本實(shí)用新型的任何限制。
[0013] 實(shí)施例1
[0014] 如圖1至圖2所示，一種異形光學(xué)元件中心偏差的輔助檢驗(yàn)裝置，包括圓盤形基座 1和固定所述的圓盤形基座1的夾具2,所述的夾具2優(yōu)選為為三爪卡盤，所述的基座1上設(shè) 有一個(gè)與異形光學(xué)元件6的尺寸匹配的方形通孔3,所述的方形通孔3的內(nèi)壁下側(cè)的四周設(shè) 有一圈凸出的臺(tái)階4,所述的臺(tái)階4的上表面與水平面平行，所述的臺(tái)階4的寬度為0.4? 0. 5cm，優(yōu)選為0. 45cm，所述的臺(tái)階4的上表面距離所述的基座1上表面的距離為1. 2? 1. 5cm，優(yōu)選為1. 3cm，所述的方形通孔3的四個(gè)角上分別設(shè)有一個(gè)保護(hù)通孔5,所述的方形 通孔3的中心與所述的圓盤形基座1的圓心重合，在本方案中，所述的圓盤形基座1為不銹 鋼材料制成。
[0015] 如圖3和圖4所示，當(dāng)需要測(cè)量異形光學(xué)元件時(shí)，如測(cè)量L形光學(xué)元件，只需要將 L形光學(xué)元件放入到本輔助檢查裝置中，將本輔助檢查裝置固定在三爪卡盤上，通過減速電 機(jī)帶動(dòng)三爪卡盤轉(zhuǎn)動(dòng)，進(jìn)而使本輔助檢測(cè)裝置進(jìn)行慢速轉(zhuǎn)動(dòng)，通過三坐標(biāo)測(cè)量?jī)x或者游標(biāo) 卡尺或者其他工具檢測(cè)該L形光學(xué)元件的表面的參數(shù)，進(jìn)而判斷中心偏差的具體數(shù)值。
[0016] 以上所述的僅為本實(shí)用新型的較佳實(shí)施例，凡在本實(shí)用新型的精神和原則范圍內(nèi) 所作的任何修改、等同替換和改進(jìn)等，均應(yīng)包含在本實(shí)用新型的保護(hù)范圍之內(nèi)。
【權(quán)利要求】
1. 一種異形光學(xué)元件中心偏差的輔助檢驗(yàn)裝置，包括圓盤形基座（1)和固定所述的圓 盤形基座（1)的夾具（2)，其特征在于，所述的基座（1)上設(shè)有一個(gè)與異形光學(xué)元件的尺寸 匹配的方形通孔（3)，所述的方形通孔（3)的內(nèi)壁下側(cè)的四周設(shè)有一圈凸出的臺(tái)階（4)，所 述的臺(tái)階（4)的上表面與水平面平行，所述的臺(tái)階（4)的寬度為0.4?0.5cm，所述的臺(tái)階 (4)的上表面距離所述的基座（1)的上表面的距離為1. 2?1. 5cm，所述的方形通孔（3)的 四個(gè)角上分別設(shè)有一個(gè)保護(hù)通孔（5)，所述的方形通孔（3)的中心與所述的圓盤形基座（1) 的圓心重合。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的異形光學(xué)元件中心偏差的輔助檢驗(yàn)裝置，其特征在于，所述 的夾具（2)為三爪卡盤。
3. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的異形光學(xué)元件中心偏差的輔助檢驗(yàn)裝置，其特征在于，所述 的圓盤形基座（1)由不銹鋼材料制成。
【文檔編號(hào)】G01B21/00GK203881320SQ201420265437
【公開日】2014年10月15日 申請(qǐng)日期:2014年5月22日 優(yōu)先權(quán)日:2014年5月22日
【發(fā)明者】江濤 申請(qǐng)人:武漢君邦光電科技有限公司