具有光線補(bǔ)償裝置的壓痕應(yīng)力測(cè)試儀的制作方法
【專利摘要】本實(shí)用新型涉及一種壓痕應(yīng)力測(cè)試儀，具體講是涉及一種具有光線補(bǔ)償裝置的壓痕應(yīng)力測(cè)試儀，其屬于鑄造、鍛造、焊接及激光沉積成形等加工領(lǐng)域，其包括：支架和固定在支架上的底座；所述底座為具有通孔的圓柱；底座通孔內(nèi)套裝有支撐架，支撐架上固定有對(duì)焦裝置，所述對(duì)焦裝置由物鏡和目鏡構(gòu)成；其針對(duì)壓痕應(yīng)力測(cè)試儀存在著在光線較弱區(qū)域無(wú)法對(duì)焦的缺陷，增設(shè)光線補(bǔ)償，實(shí)現(xiàn)壓痕應(yīng)力測(cè)試儀在光線較弱的情況下有效測(cè)量被測(cè)工件的殘余應(yīng)力，拓展了壓痕應(yīng)力測(cè)試儀的使用空間。
【專利說明】具有光線補(bǔ)償裝置的壓痕應(yīng)力測(cè)試儀

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及一種壓痕應(yīng)力測(cè)試儀，具體講是涉及一種具有光線補(bǔ)償裝置的壓痕應(yīng)力測(cè)試儀，其屬于鑄造、鍛造、焊接及激光沉積成形等加工領(lǐng)域。

【背景技術(shù)】
[0002]各種機(jī)械工藝如鑄造、切削、焊接、熱處理、裝配等都會(huì)使工件內(nèi)部出現(xiàn)不同程度的殘余應(yīng)力。殘余應(yīng)力的存在會(huì)使工件的強(qiáng)度降低，導(dǎo)致日后加工過程中產(chǎn)生變形、開裂等工藝問題；同時(shí)加工后的工件在自然條件下應(yīng)力釋放的過程中，會(huì)使工件的尺寸發(fā)生變化或者使其疲勞強(qiáng)度、應(yīng)力腐蝕等力學(xué)性能降低。從而殘余應(yīng)力的測(cè)量成為人們關(guān)注的焦點(diǎn)。
[0003]目前，已知的殘余應(yīng)力測(cè)量方法分為破壞性和非破壞性兩類。破壞性殘余應(yīng)力測(cè)量方法的精度與靈敏度比較高，但被測(cè)工件必將受到不同程度的破壞，使其在實(shí)際應(yīng)用中受到很大限制。因此，近年來(lái)非破壞性殘余應(yīng)力測(cè)量法成為人們努力研究、改進(jìn)的課題。沖擊壓痕法測(cè)應(yīng)力由于具有物理背景清晰、相關(guān)理論成熟、測(cè)試結(jié)果與盲孔法測(cè)應(yīng)力結(jié)果相近的優(yōu)點(diǎn)，因此利用壓痕法測(cè)試殘余應(yīng)力的應(yīng)用研究正在積極展開，顯示了發(fā)展為簡(jiǎn)便有效的殘余應(yīng)力測(cè)試方法的前景。
[0004]壓痕應(yīng)力測(cè)試儀在應(yīng)力測(cè)試前需采用透鏡對(duì)應(yīng)變花標(biāo)定的壓力施加點(diǎn)進(jìn)行對(duì)焦處理，因此良好的光照條件是對(duì)對(duì)焦過程的有效保障。由于該儀器自身并不攜帶光源，導(dǎo)致在光線較弱狀態(tài)下進(jìn)行殘余應(yīng)力測(cè)量時(shí)存在諸多不便。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0005]鑒于現(xiàn)有技術(shù)存在的問題，本實(shí)用新型的目的是要提供一種具有光線補(bǔ)償裝置的壓痕應(yīng)力測(cè)試儀，其針對(duì)壓痕應(yīng)力測(cè)試儀存在著在光線較弱區(qū)域無(wú)法對(duì)焦的缺陷，增設(shè)光線補(bǔ)償，實(shí)現(xiàn)壓痕應(yīng)力測(cè)試儀在光線較弱的情況下有效測(cè)量被測(cè)工件的殘余應(yīng)力，拓展了壓痕應(yīng)力測(cè)試儀的使用空間。
[0006]為了實(shí)現(xiàn)上述目的，本實(shí)用新型所采用的技術(shù)方案為具有光線補(bǔ)償裝置的壓痕應(yīng)力測(cè)試儀；其包括:支架和固定在支架上的底座；所述底座為具有通孔的圓柱；底座通孔內(nèi)套裝有支撐架，支撐架上固定有對(duì)焦裝置，所述對(duì)焦裝置由物鏡和目鏡構(gòu)成；其特征在于:其還包括光線補(bǔ)償裝置，光線補(bǔ)償裝置固定于底座上；所述光線補(bǔ)償裝置包括光源和圓環(huán)板面，光源固定于圓環(huán)板面上，所述物鏡穿過圓環(huán)板面的圓環(huán)，即物鏡的外徑小于圓環(huán)板面的內(nèi)徑。
[0007]所述光源為L(zhǎng)ED燈，其為6個(gè)，均勻設(shè)置于圓環(huán)板面上，圓環(huán)板面內(nèi)部為無(wú)影區(qū)。
[0008]所述光線補(bǔ)償裝置采用穩(wěn)定電源，其電源與光源之間串聯(lián)有電位器。
[0009]本實(shí)用新型的優(yōu)點(diǎn)如下:
[0010]I)采用無(wú)影燈作為對(duì)焦過程中的光源，可以避免由于物鏡移動(dòng)過程中遮擋光源影響對(duì)焦的現(xiàn)象；
[0011 ] 2)針對(duì)不同的光線環(huán)境，可以通過調(diào)節(jié)電源電壓改變無(wú)影燈的光照強(qiáng)度，從而滿足不同人對(duì)對(duì)焦過程中光照強(qiáng)度的要求；
[0012]3)該裝置成本較低，制作簡(jiǎn)單，可以批量生產(chǎn)，拓展了該型壓痕應(yīng)力測(cè)試儀的使用空間。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0013]圖1光線補(bǔ)償裝置的的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0014]圖2本實(shí)用新型的主視圖；
[0015]圖3為底座與光線補(bǔ)償裝置的位置關(guān)系圖；
[0016]圖4光線補(bǔ)償裝置的電源調(diào)壓電路圖；
[0017]圖中:1、光源，2、圓環(huán)板面，3、支架，4、底座，5、支撐架，6、物鏡，7、目鏡，8、輸入電壓，9、電位器，10、電阻，11、輸出電壓。

【具體實(shí)施方式】
[0018]為了進(jìn)一步了解該具有光線補(bǔ)償裝置的壓痕應(yīng)力測(cè)試儀，下面結(jié)合【專利附圖】

【附圖說明】如下。
[0019]其包括:支架3和固定在支架上的底座4 ;所述底座為具有通孔的圓柱；底座通孔內(nèi)套裝有支撐架5，支撐架上固定有對(duì)焦裝置，所述對(duì)焦裝置由物鏡6和目鏡7構(gòu)成；所述物鏡穿過圓環(huán)板面2的圓環(huán)，即物鏡的外徑小于圓環(huán)板面的內(nèi)徑，圓環(huán)板面2固定于底座4下方，圓環(huán)板面上均勻分別有6個(gè)LED燈，此時(shí)圓環(huán)內(nèi)部將形成一個(gè)無(wú)影區(qū)；當(dāng)物鏡在圓環(huán)內(nèi)移動(dòng)時(shí)，在目鏡下方都不會(huì)出現(xiàn)陰影區(qū)，影響對(duì)焦過程；6個(gè)LED燈的正、負(fù)極采用2根導(dǎo)線統(tǒng)一連接，引出接線端子；接線端子與電源的電壓輸出端相連接，電源的電壓輸出端和電源的電源輸入端之間串聯(lián)有電位器和電阻；電源的電壓輸入端采用穩(wěn)壓電源供電或是電池供電，根據(jù)所選LED燈的工作電壓選擇穩(wěn)壓電源或電池的電壓，并且通過調(diào)節(jié)電位器即可達(dá)到改變LED燈光照強(qiáng)度的目的。
【權(quán)利要求】
1.具有光線補(bǔ)償裝置的壓痕應(yīng)力測(cè)試儀，其包括:支架和固定在支架上的底座；所述底座為具有通孔的圓柱；底座通孔內(nèi)套裝有支撐架，支撐架上固定有對(duì)焦裝置，所述對(duì)焦裝置由物鏡和目鏡構(gòu)成；其特征在于:其還包括光線補(bǔ)償裝置，光線補(bǔ)償裝置固定于底座上；所述光線補(bǔ)償裝置包括光源和圓環(huán)板面，光源固定于圓環(huán)板面上，所述物鏡穿過圓環(huán)板面的圓環(huán)，即物鏡的外徑小于圓環(huán)板面的內(nèi)徑。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的具有光線補(bǔ)償裝置的壓痕應(yīng)力測(cè)試儀，其特征在于:所述光源為[￡0燈，其為6個(gè)，均勻設(shè)置于圓環(huán)板面上，圓環(huán)板面內(nèi)部為無(wú)影區(qū)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的具有光線補(bǔ)償裝置的壓痕應(yīng)力測(cè)試儀，其特征在于:所述光線補(bǔ)償裝置采用穩(wěn)定電源，其電源與光源之間串聯(lián)有電位器。
【文檔編號(hào)】G01N3/02GK204128886SQ201420538148
【公開日】2015年1月28日 申請(qǐng)日期:2014年9月18日 優(yōu)先權(quán)日:2014年9月18日
【發(fā)明者】卞宏友, 范欽春, 趙翔鵬, 楊光, 欽蘭云 申請(qǐng)人:沈陽(yáng)航空航天大學(xué)