1.一種用于光學(xué)相干斷層成像術(shù)的設(shè)備，該設(shè)備包括：
光源；
第一臂，該第一臂包括第一色散光學(xué)組件，該第一色散光學(xué)組件在來(lái)自該光源并穿越該第一臂的光中引起第一色散量，該第一臂構(gòu)成干涉儀的樣品臂和參考臂中的一個(gè)；
第二臂，該第二臂包括第二色散光學(xué)組件，該第二色散光學(xué)組件在來(lái)自該光源并穿越該第二臂的光中引起第二色散量，該第二臂構(gòu)成該樣品臂和該參考臂中的另一個(gè)，該第二色散量大于該第一色散量；
處理單元，該處理單元被配置為處理干涉信號(hào)以進(jìn)行色散編碼全范圍光學(xué)相干斷層成像術(shù)，該干涉信號(hào)代表來(lái)自該第一臂的光和來(lái)自該第二臂的光的疊加，
其中，對(duì)于該第二色散光學(xué)組件的一個(gè)或多個(gè)光學(xué)元件的任何子組件，由該子組件在穿越該第二臂的光中引起的色散量不同于該第一色散量。
2.如權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其中該第二色散量比該第一色散量大一個(gè)量，該量對(duì)應(yīng)于由至少1cm厚度的透明材料在來(lái)自該光源的光中引起的色散量。
3.如權(quán)利要求1或權(quán)利要求2所述的設(shè)備，其中該第二色散光學(xué)組件中的該一個(gè)或多個(gè)光學(xué)元件包括反射鏡、分束器、物鏡、準(zhǔn)直器、光纖和光纖布拉格光柵中的至少一個(gè)。
4.一種用于制造光學(xué)相干斷層成像術(shù)設(shè)備的方法，該方法包括以下步驟：
提供包括第一色散光學(xué)組件的第一臂，該第一色散光學(xué)組件在來(lái)自光源并穿越該第一臂的光中引起第一色散量，該第一臂構(gòu)成干涉儀的樣品臂和參考臂中的一個(gè)；
提供包括第二色散光學(xué)組件的第二臂，該第二色散光學(xué)組件在來(lái)自該光源并穿越該第二臂的光中引起第二色散量，該第二臂構(gòu)成該樣品臂和該參考臂中的另一個(gè)，該第二色散量基本上等于該第一色散量；
提供替代光學(xué)部件；
通過(guò)將該第一臂和該第二臂的一個(gè)中的至少一個(gè)光學(xué)部件替換為該替代光學(xué)部件來(lái)改造該第一臂和該第二臂中的一個(gè)，由此改變?cè)摰谝槐酆驮摰诙壑械倪@一個(gè)的色散量；并且
提供處理單元，該處理單元被配置為處理干涉信號(hào)以進(jìn)行色散編碼全范圍光學(xué)相干斷層成像術(shù)，該干涉信號(hào)代表來(lái)自該第一臂和該第二臂中的所改造的臂和另一個(gè)臂的光的疊加。
5.如權(quán)利要求4所述的方法，其中該改造步驟包括用該替代光學(xué)部件替換反射鏡、分束器、物鏡、準(zhǔn)直器、光纖和光纖布拉格光柵中的至少一個(gè)。
6.如權(quán)利要求4或權(quán)利要求5所述的方法，其中在該改造步驟中，替換該至少一個(gè)光學(xué)部件不會(huì)導(dǎo)致該參考臂和該樣品臂之間的光路長(zhǎng)度差均值的增加大于該OCT設(shè)備的掃描深度。
7.如權(quán)利要求4至6中任一項(xiàng)所述的方法，包括以下步驟：
使該第一臂和該第二臂中的至少一個(gè)適配根據(jù)該至少一個(gè)光學(xué)部件的替換而改變的光路長(zhǎng)度。