技術(shù)總結(jié)
用于在高溫和/或高壓下對樣品、過程和反應(yīng)進行T1/T2分析、FT光譜分析、CW光譜分析和2D/3D成像的MRI/NMR系統(tǒng)、設(shè)備及其模塊，其包括如說明書和附圖所述的有源和/或無源的熱絕緣裝置。

技術(shù)研發(fā)人員：尤里·拉波波特;泰勒·科恩;伊泰·巴魯奇
受保護的技術(shù)使用者：艾斯拜克特成像有限公司
文檔號碼：201510413328
技術(shù)研發(fā)日：2015.07.14
技術(shù)公布日：2017.01.25