技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明提供了一種用于SAR子孔徑成像的方位模糊抑制方法，其特征在于，包括以下步驟：步驟1：按照成像處理流程對原始回波數(shù)據(jù)進(jìn)行距離向處理然后再沿方位向劃分子孔徑，其中對原始回波數(shù)據(jù)進(jìn)行距離向處理具體為：進(jìn)行距離向FFT；再進(jìn)行距離壓縮；進(jìn)行距離向IFFT；去除脈沖持續(xù)時(shí)間點(diǎn)數(shù)；步驟2：數(shù)據(jù)處理完成后進(jìn)行子孔徑距離向處理，子孔徑距離向處理的具體步驟為首先子孔徑方位FFT；再進(jìn)行數(shù)據(jù)兩端進(jìn)行補(bǔ)零，增加兩端脈沖持續(xù)時(shí)間點(diǎn)數(shù)來實(shí)現(xiàn)擴(kuò)展子孔徑長度；進(jìn)行距離向FFT；進(jìn)行距離向逆壓縮、三次相位濾波，參考點(diǎn)相位補(bǔ)償；進(jìn)行距離向IFFT；進(jìn)行Chirp?Scaling運(yùn)算。

技術(shù)研發(fā)人員：張瑋;方華永
受保護(hù)的技術(shù)使用者：中國航空工業(yè)集團(tuán)公司雷華電子技術(shù)研究所
文檔號碼：201510882971
技術(shù)研發(fā)日：2015.12.03
技術(shù)公布日：2017.06.13