本發(fā)明涉及一種輻射監(jiān)測(cè)技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種基于平臺(tái)系統(tǒng)的檢測(cè)方法。

背景技術(shù)：

自原子彈試驗(yàn)成功，核能的應(yīng)用得到廣泛普及，涉及軍事、醫(yī)療、能源等方面。導(dǎo)致環(huán)境中人工放射性提高，接觸電離輻射的工作人員的輻射防護(hù)和安全也越來(lái)越得到關(guān)注。因此，環(huán)境核輻射監(jiān)測(cè)勢(shì)在必行。環(huán)境核輻射監(jiān)測(cè)是指對(duì)核設(shè)施周?chē)h(huán)境中已存在的輻射水平、環(huán)境介質(zhì)中放射性核素的含量，以及為評(píng)價(jià)公眾劑量所需的環(huán)境參數(shù)、社會(huì)狀況進(jìn)行的監(jiān)測(cè)。

平臺(tái)系統(tǒng)用于輻射儀表的檢定、校準(zhǔn)與檢測(cè)，常用于工業(yè)無(wú)損檢測(cè)等領(lǐng)域。

為了得到準(zhǔn)確的檢測(cè)結(jié)果，需要對(duì)平臺(tái)系統(tǒng)進(jìn)行校準(zhǔn)，但現(xiàn)有平臺(tái)系統(tǒng)的檢測(cè)方法的操作過(guò)程復(fù)雜，很難通過(guò)簡(jiǎn)單操作就實(shí)現(xiàn)放射源、附加濾波片及儀表的三點(diǎn)一線，尤其是在放射源放置于較長(zhǎng)導(dǎo)軌上行程可變情況下，更是不易實(shí)現(xiàn)，無(wú)法達(dá)到平臺(tái)系統(tǒng)要求的精度，因而會(huì)影響到檢測(cè)效果和準(zhǔn)確度。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本發(fā)明的目的是針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)的缺陷，提供一種基于平臺(tái)系統(tǒng)的檢測(cè)方法，操作簡(jiǎn)單，能夠達(dá)到平臺(tái)系統(tǒng)要求的精度，從而提高測(cè)量結(jié)果的準(zhǔn)確度。

為實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明提供了一種基于平臺(tái)系統(tǒng)的檢測(cè)方法，所述基于平臺(tái)系統(tǒng)的檢測(cè)方法包括：

將X光機(jī)平臺(tái)設(shè)置在平臺(tái)系統(tǒng)的系統(tǒng)底板的第一導(dǎo)軌上；其中，X光機(jī)平臺(tái)上架設(shè)有X光機(jī)；

將探測(cè)器平臺(tái)設(shè)置在系統(tǒng)底板的第二導(dǎo)軌上；其中，探測(cè)器平臺(tái)上架設(shè)有探測(cè)器；

將濾波架設(shè)置于X光機(jī)平臺(tái)和探測(cè)器平臺(tái)之間，濾波架上插接有附加濾波片；

控制第一電機(jī)驅(qū)動(dòng)X光機(jī)平臺(tái)在第一導(dǎo)軌上運(yùn)動(dòng)至工作位置；并且，控制第二電機(jī)驅(qū)動(dòng)探測(cè)器平臺(tái)在第二導(dǎo)軌上運(yùn)動(dòng)至工作位置；

調(diào)節(jié)X光機(jī)平臺(tái)的位置，調(diào)整濾波架，使X光機(jī)的X光出射位置、濾波架上插接的附加濾波片中心和探測(cè)器的接收X射線位置在同一直線上；

X光機(jī)產(chǎn)生初始X射線束；

初始X射線束經(jīng)過(guò)附加濾波片過(guò)濾處理，對(duì)低于第一閾值能量的射線進(jìn)行濾除；

探測(cè)器接收過(guò)濾后X射線束，光子沉積在探測(cè)器晶體中，通過(guò)電子學(xué)器件生成電信號(hào)，得到能譜數(shù)據(jù)；其中，所述能譜數(shù)據(jù)為光子能量與光子數(shù)的對(duì)應(yīng)關(guān)系；

調(diào)節(jié)管電壓和附加過(guò)濾獲得不同的輻射質(zhì)；其中，所述輻射質(zhì)包括平均能量、譜分辨率、第一半值層和同質(zhì)系數(shù)。

優(yōu)選的，在所述將X光機(jī)平臺(tái)設(shè)置在于所述平臺(tái)系統(tǒng)的系統(tǒng)底板的第一導(dǎo)軌上之前，所述方法還包括：

將所述系統(tǒng)底板放置在屏蔽箱內(nèi),通過(guò)所述屏蔽箱屏蔽宇宙射線。

優(yōu)選的，所述調(diào)節(jié)所述X光機(jī)平臺(tái)的位置具體為：

開(kāi)啟所述X光機(jī)平臺(tái)上的激光校準(zhǔn)器，發(fā)射激光；其中，所述第一X射線束與所述激光的出射方向平行；

調(diào)節(jié)所述X光機(jī)平臺(tái)的升降裝置，使所述激光校準(zhǔn)器發(fā)射的激光射向所述探測(cè)器平臺(tái)的激光接收器；

調(diào)節(jié)所述X光機(jī)平臺(tái)的俯仰臺(tái)和旋轉(zhuǎn)臺(tái)，使所述激光校準(zhǔn)器發(fā)射的激光射至所述激光接收器的中心。

進(jìn)一步優(yōu)選的，所述調(diào)整所述濾波架具體為：

轉(zhuǎn)動(dòng)所述濾波架，使所述激光校準(zhǔn)器發(fā)射的激光射向所述濾波架；其中，所述濾波架包括支撐桿和連接部；

并且，調(diào)節(jié)所述支撐桿的高度，旋轉(zhuǎn)所述支撐桿的角度，使激光校準(zhǔn)器發(fā)射的激光射向所述濾波架的預(yù)定位置，使所述X光機(jī)的X光出射位置、所述濾波架上插接的附加濾波片中心和所述探測(cè)器的接收X射線位置在同一直線上。

進(jìn)一步優(yōu)選的，所述俯仰臺(tái)包括第一臺(tái)面、第二臺(tái)面和俯仰調(diào)節(jié)螺栓；所述第一臺(tái)面通過(guò)所述俯仰調(diào)節(jié)螺栓架設(shè)于所述第二臺(tái)面的上方；

所述調(diào)節(jié)X光機(jī)平臺(tái)的俯仰臺(tái)具體為：旋轉(zhuǎn)所述俯仰調(diào)節(jié)螺栓，使所述第一臺(tái)面根據(jù)所述俯仰調(diào)節(jié)螺栓轉(zhuǎn)動(dòng)產(chǎn)生相應(yīng)傾斜。

進(jìn)一步優(yōu)選的，所述旋轉(zhuǎn)臺(tái)包括旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)電機(jī)、固定部和旋轉(zhuǎn)盤(pán)；所述旋轉(zhuǎn)盤(pán)設(shè)置于所述固定部上；

所述調(diào)節(jié)X光機(jī)平臺(tái)的旋轉(zhuǎn)臺(tái)具體為：所述旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)電機(jī)接收旋轉(zhuǎn)信號(hào)，驅(qū)動(dòng)所述旋轉(zhuǎn)盤(pán)在所述固定部上旋轉(zhuǎn)。

優(yōu)選的，所述第一導(dǎo)軌包括固定平臺(tái)、兩條軌道、第一滑塊和絲杠；所述兩條軌道平行設(shè)置于所述固定平臺(tái)上；所述絲杠設(shè)置于所述兩條軌道中間，并平行于所述兩條軌道；所述第一滑塊設(shè)置于所述絲杠上并與所述X光機(jī)平臺(tái)的底部相連；

所述控制第一電機(jī)驅(qū)動(dòng)X光機(jī)平臺(tái)在第一導(dǎo)軌上運(yùn)動(dòng)至工作位置具體為：所述第一電機(jī)接收第一位移信號(hào)，驅(qū)動(dòng)所述絲杠轉(zhuǎn)動(dòng)，帶動(dòng)所述第一滑塊沿所述絲杠運(yùn)動(dòng)至工作位置。

優(yōu)選的，所述調(diào)節(jié)附加過(guò)濾具體為：更換附加濾波片。

優(yōu)選的，所述調(diào)節(jié)管電壓具體為：改變所述初始X射線束的強(qiáng)度和平均能量。

本發(fā)明實(shí)施例提供的基于平臺(tái)系統(tǒng)的檢測(cè)方法，操作簡(jiǎn)單，能夠達(dá)到平臺(tái)系統(tǒng)要求的精度，從而提高測(cè)量結(jié)果的準(zhǔn)確度。

附圖說(shuō)明

圖1為本發(fā)明實(shí)施例提供的平臺(tái)系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2為本發(fā)明實(shí)施例提供的X光機(jī)平臺(tái)的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖3為本發(fā)明實(shí)施例提供的基于平臺(tái)系統(tǒng)的檢測(cè)方法流程圖。

具體實(shí)施方式

下面通過(guò)附圖和實(shí)施例，對(duì)本發(fā)明的技術(shù)方案做進(jìn)一步的詳細(xì)描述。

本發(fā)明實(shí)施例提供的基于平臺(tái)系統(tǒng)的檢測(cè)方法，執(zhí)行于平臺(tái)系統(tǒng)中，所述平臺(tái)系統(tǒng)包括系統(tǒng)底板、X光機(jī)平臺(tái)、放射源平臺(tái)、探測(cè)器平臺(tái)和濾波架，通過(guò)簡(jiǎn)單的操作能夠?qū)崿F(xiàn)平臺(tái)系統(tǒng)中的X光機(jī)平臺(tái)、探測(cè)器平臺(tái)和濾波架之間的位置校準(zhǔn)。

為了更好的理解本發(fā)明實(shí)施例提供的檢測(cè)方法，首先，對(duì)平臺(tái)系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)進(jìn)行介紹，如圖1所示，平臺(tái)系統(tǒng)包括：系統(tǒng)底板1、X光機(jī)平臺(tái)2、放射源平臺(tái)3、探測(cè)器平臺(tái)4和濾波架5。

系統(tǒng)底板1具有第一導(dǎo)軌11、第二導(dǎo)軌12和第三導(dǎo)軌13，第三導(dǎo)軌13的長(zhǎng)度與第一導(dǎo)軌11的長(zhǎng)度相等,且第三導(dǎo)軌13平行于第一導(dǎo)軌11設(shè)置；第二導(dǎo)軌12垂直于第一導(dǎo)軌11和第三導(dǎo)軌13，且設(shè)置在第一導(dǎo)軌11和第三導(dǎo)軌13的一端；第二導(dǎo)軌12的長(zhǎng)度大于第一導(dǎo)軌11和第三導(dǎo)軌13之間的間距。如圖2所示，第一導(dǎo)軌11包括固定平臺(tái)111、兩條軌道112、第一滑塊(圖中未示出)和絲杠113；兩條軌道112平行安裝在固定平臺(tái)111的上；絲杠113位于兩條軌道112中間，并平行于兩條軌道112，由第一電機(jī)14驅(qū)動(dòng)轉(zhuǎn)動(dòng)；第一滑塊設(shè)置在絲杠113上，隨絲杠113的轉(zhuǎn)動(dòng)沿絲杠113運(yùn)動(dòng)。其中，第一導(dǎo)軌11、第二導(dǎo)軌12和第三導(dǎo)軌13結(jié)構(gòu)相同，第二導(dǎo)軌12由第二電機(jī)(圖中未示出)驅(qū)動(dòng)，第三導(dǎo)軌由第三電機(jī)(圖中未示出)驅(qū)動(dòng)。

X光機(jī)平臺(tái)2的結(jié)構(gòu)具體如圖2所示，包括第一移動(dòng)平臺(tái)21和X光機(jī)22，第一移動(dòng)平臺(tái)21滑設(shè)在第一導(dǎo)軌11上，沿第一導(dǎo)軌11方向運(yùn)動(dòng)；X光機(jī)22設(shè)置在第一移動(dòng)平臺(tái)21上，產(chǎn)生水平出射的X射線束。

第一底座211的底面兩側(cè)設(shè)有兩排第二滑塊2111，每排可以設(shè)有兩個(gè)第二滑塊2111，所述兩排第二滑塊2111滑分別滑設(shè)在第一導(dǎo)軌11的兩條軌道112上，并且兩排第二滑塊2111之間的距離與兩條軌道112之間的距離相等；第一底座211的底面與第一滑塊固定連接。當(dāng)X光機(jī)平臺(tái)2需要沿第一導(dǎo)軌11方向調(diào)整位置時(shí)，可以通過(guò)第一電機(jī)14驅(qū)動(dòng)絲杠113轉(zhuǎn)動(dòng)，帶動(dòng)第一滑塊沿絲杠113運(yùn)動(dòng)，從而實(shí)現(xiàn)第一底座211沿第一導(dǎo)軌11運(yùn)動(dòng)。

滑軌212，安裝在第一底座211上，與第一導(dǎo)軌11的方向垂直。

第二底座213，平行第一底座211并滑設(shè)在滑軌212上，由滑移電機(jī)15驅(qū)動(dòng)，沿滑軌212方向運(yùn)動(dòng)，即沿垂直第一導(dǎo)軌11方向運(yùn)動(dòng)；第二底座213上設(shè)置有多個(gè)第一固定柱2131，第一固定柱2131為圓柱型，多個(gè)第一固定柱2131分別設(shè)置在第二底座213的兩側(cè)。

升降裝置214，設(shè)置在第二底座213上；升降裝置214包括升降驅(qū)動(dòng)電機(jī)2141、升降驅(qū)動(dòng)桿2142和升降平臺(tái)2143；升降平臺(tái)2143具有第一螺紋孔；具體的，第一螺紋孔位于升降平臺(tái)2143的中心，升降驅(qū)動(dòng)桿2142通過(guò)第一螺紋孔穿設(shè)于升降平臺(tái)2143，升降驅(qū)動(dòng)電機(jī)2141驅(qū)動(dòng)升降驅(qū)動(dòng)桿2142轉(zhuǎn)動(dòng)，帶動(dòng)升降平臺(tái)2143在垂直于第二底座213所在平面的方向運(yùn)動(dòng)。當(dāng)X光機(jī)平臺(tái)2需要沿垂直于系統(tǒng)底板1所在平面方向運(yùn)動(dòng)時(shí)，可以通過(guò)升降驅(qū)動(dòng)電機(jī)2141驅(qū)動(dòng)升降驅(qū)動(dòng)桿2142轉(zhuǎn)動(dòng)，帶動(dòng)升降平臺(tái)2143運(yùn)動(dòng)，從而實(shí)現(xiàn)X光機(jī)平臺(tái)2在垂直于系統(tǒng)底板1所在平面的方向運(yùn)動(dòng)。升降平臺(tái)2143上還設(shè)置有多個(gè)第二固定柱21431，多個(gè)第二固定柱21431分別設(shè)置在升降平臺(tái)2143的兩側(cè)，隨升降平臺(tái)2143同步運(yùn)動(dòng)。

第三底座215，架設(shè)在第一固定柱2131上，具體的，升降平臺(tái)2143上還設(shè)有多個(gè)第二通孔，第二通孔的位置與多個(gè)第一固定柱2131的位置相對(duì)應(yīng)，多個(gè)第一固定柱2131穿設(shè)于多個(gè)第二通孔內(nèi)，一端與第二底座213的上表面固定連接，另一端與第三底座215的下表面固定連接，從而實(shí)現(xiàn)第二底座213和第三底座215之間的固定，第二底座213和第三底座215之間距離即為第一固定柱2131的長(zhǎng)度，升降平臺(tái)2143通過(guò)多個(gè)第一固定柱2131在第二底座213和第三底座215之間垂直運(yùn)動(dòng)。

運(yùn)動(dòng)臺(tái)216，架設(shè)在第二固定柱21431上，與升降平臺(tái)2143同步運(yùn)動(dòng)；具體的，第三底座215上具有多個(gè)第三通孔，多個(gè)第三通孔的位置與多個(gè)第二固定柱21431的位置相對(duì)設(shè)置，多個(gè)第二固定柱21431經(jīng)由多個(gè)第三通孔穿設(shè)于第三底座215上，一端與升降平臺(tái)2143的上表面相連，另一端與運(yùn)動(dòng)臺(tái)216的下表面相連。升降平臺(tái)2143與運(yùn)動(dòng)臺(tái)216之間的距離是固定的，即為第二固定柱21431的長(zhǎng)度，當(dāng)升降平臺(tái)2143運(yùn)動(dòng)時(shí)，帶動(dòng)升降平臺(tái)2143上的多個(gè)第二固定柱21431相對(duì)運(yùn)動(dòng)，從而使運(yùn)動(dòng)臺(tái)216隨升降平臺(tái)2143同步運(yùn)動(dòng)。

再次如圖1所示，放射源平臺(tái)3包括第二移動(dòng)平臺(tái)31和放射源固定夾具32，第二移動(dòng)平臺(tái)31用于放置放射源固定夾具32；第二移動(dòng)平臺(tái)31滑設(shè)在第三導(dǎo)軌13上，沿第三導(dǎo)軌13方向運(yùn)動(dòng)；放射源固定夾具32設(shè)置在第二移動(dòng)平臺(tái)31上，可以用于固定不同的放射源，例如²⁴¹Am、¹³⁷Cs、⁶⁰Co等，操作人員可以根據(jù)需要選擇合適的放射源。放射源平臺(tái)3的具體結(jié)構(gòu)與X光機(jī)平臺(tái)2的結(jié)構(gòu)類(lèi)似，不再進(jìn)行贅述。

探測(cè)器平臺(tái)4，包括第三移動(dòng)平臺(tái)41和探測(cè)器(圖中未示出)，第三移動(dòng)平臺(tái)41滑設(shè)在第二導(dǎo)軌12上，沿第二導(dǎo)軌12方向運(yùn)動(dòng)；第三移動(dòng)平臺(tái)41上用于放置探測(cè)器。探測(cè)器用于接收X光機(jī)平臺(tái)2射出的X射線束或放射源平臺(tái)3射出的放射源射線。

在本例中，X光機(jī)平臺(tái)2和放射源平臺(tái)3的移動(dòng)量程為0～80cm；探測(cè)器平臺(tái)4的移動(dòng)量程為0～70cm。

進(jìn)一步的，用于承載X光機(jī)22的第一移動(dòng)平臺(tái)21和用于承載放射源的第二移動(dòng)平臺(tái)31的結(jié)構(gòu)相似，均包括第一底座211、滑軌212、第二底座213、升降裝置214、第三底座215和運(yùn)動(dòng)臺(tái)216；用于承載探測(cè)器的第三移動(dòng)平臺(tái)41與第二移動(dòng)平臺(tái)31的結(jié)構(gòu)也相似，區(qū)別在于第三移動(dòng)平臺(tái)41上不設(shè)有滑軌。

濾波架5，如圖1所示，包括連接部51和支撐桿52；連接部51設(shè)置在系統(tǒng)底板1上并位于第一導(dǎo)軌11和第三導(dǎo)軌13之間；連接部51的一端與系統(tǒng)底板1鉸接；連接部51可根據(jù)需要在平行系統(tǒng)底板1所在平面轉(zhuǎn)動(dòng)；支撐桿52的一端與連接部51的另一端相接，并垂直于系統(tǒng)底板1設(shè)置，具體的，支撐桿52與連接部51通過(guò)轉(zhuǎn)動(dòng)伸縮部件連接，支撐桿52可以在連接部51上360⁰旋轉(zhuǎn)，也可以在連接部51上豎直伸縮；支撐桿52的另一端具有過(guò)濾片固定器521，過(guò)濾片固定器521中夾設(shè)附加濾波片。當(dāng)使用X光機(jī)平臺(tái)2和探測(cè)器平臺(tái)4進(jìn)行操作時(shí)，將連接部51旋轉(zhuǎn)，從而帶動(dòng)支撐桿52旋轉(zhuǎn)至第一位置，再將支撐桿52進(jìn)行旋轉(zhuǎn)伸縮調(diào)整，使X光機(jī)22的X光出射位置、附加濾波片中心和探測(cè)器中心在同一直線上；當(dāng)使用放射源平臺(tái)3和探測(cè)器平臺(tái)4進(jìn)行操作時(shí)，連接部51旋轉(zhuǎn)帶動(dòng)支撐桿52旋轉(zhuǎn)至第二位置，再將支撐桿52進(jìn)行旋轉(zhuǎn)伸縮調(diào)整，使放射源射線的出射位置、附加濾波片中心和探測(cè)器中心在同一直線上。

為了實(shí)現(xiàn)能夠精確的控制X光機(jī)22出射X光的方向以及放射源出射放射源射線的方向，在X光機(jī)平臺(tái)2上還設(shè)有俯仰臺(tái)217，設(shè)置在運(yùn)動(dòng)臺(tái)216上，所述俯仰臺(tái)217包括第一臺(tái)面、第二臺(tái)面和俯仰調(diào)節(jié)螺栓；其中，第二臺(tái)面與運(yùn)動(dòng)臺(tái)相接，并固定在運(yùn)動(dòng)臺(tái)216上；第一臺(tái)面通過(guò)俯仰調(diào)節(jié)螺栓架設(shè)于第二臺(tái)面的上方；具體的，第一臺(tái)面設(shè)有多個(gè)第四通孔，第四通孔為螺紋結(jié)構(gòu)；第二臺(tái)面設(shè)有與第四通孔數(shù)量相同的螺栓插槽，且螺栓插槽的位置與第四通孔一一對(duì)應(yīng)；在本例中，第一臺(tái)面和第二臺(tái)面均為長(zhǎng)方形，第四通孔的數(shù)量為兩個(gè)，分別設(shè)置在第一臺(tái)面的兩個(gè)對(duì)角處。當(dāng)X射線束和放射源射線的出射方向需要調(diào)節(jié)時(shí)，可以旋轉(zhuǎn)其中一個(gè)俯仰調(diào)節(jié)螺栓，第一臺(tái)面根據(jù)俯仰調(diào)節(jié)螺栓轉(zhuǎn)動(dòng)產(chǎn)生相應(yīng)傾斜，使第一臺(tái)面和第二臺(tái)面之間的角度發(fā)生相應(yīng)變化，從而調(diào)節(jié)X射線束和放射源射線的出射方向。

由于X光機(jī)平臺(tái)2、放射源平臺(tái)3與探測(cè)器平臺(tái)4之間的距離較遠(yuǎn)，因此在X光機(jī)平臺(tái)2還設(shè)有激光校準(zhǔn)器218，具體的，激光校準(zhǔn)器218包括夾設(shè)部和激光發(fā)射器，激光校準(zhǔn)器218安裝在第一臺(tái)面上，其中，激光發(fā)射器固定在夾設(shè)部的一端，夾設(shè)部的另一端具有夾爪，夾爪夾持第一臺(tái)面的邊緣，使激光發(fā)射器的激光出射方向平行第一臺(tái)面所在平面，這樣可以保證激光發(fā)射器的激光與X射線束和放射源射線的方向平行。在探測(cè)器平臺(tái)4上設(shè)有激光接收器(圖中未示出)，以X光機(jī)平臺(tái)2為例，激光接收器的安裝位置是根據(jù)X光機(jī)22、探測(cè)器和激光發(fā)射器的位置設(shè)置的，當(dāng)激光接收器接收到激光發(fā)射器發(fā)射的激光時(shí)，說(shuō)明X光機(jī)的X光出射位置、附加濾波片中心和探測(cè)器中心在同一直線上。

此外，為了更加靈活的調(diào)整X光機(jī)22出射X射線束的方向，X光機(jī)平臺(tái)2還包括旋轉(zhuǎn)臺(tái)219，設(shè)置在所述運(yùn)動(dòng)臺(tái)216和俯仰臺(tái)217之間，旋轉(zhuǎn)臺(tái)219包括旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)電機(jī)、固定部和旋轉(zhuǎn)盤(pán)；旋轉(zhuǎn)盤(pán)設(shè)置在固定部上，旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)電機(jī)驅(qū)動(dòng)旋轉(zhuǎn)盤(pán)在固定部上旋轉(zhuǎn)，帶動(dòng)俯仰臺(tái)217上的X光機(jī)22旋轉(zhuǎn)，從而調(diào)節(jié)X射線束的方向。

下面基于上述平臺(tái)系統(tǒng)，介紹本發(fā)明實(shí)施例的平臺(tái)系統(tǒng)的檢測(cè)方法，圖3為本發(fā)明實(shí)施例提供的平臺(tái)系統(tǒng)的檢測(cè)方法的流程圖。如圖所示，本發(fā)明實(shí)施例的平臺(tái)系統(tǒng)的檢測(cè)方法包括如下步驟：

步驟110，將X光機(jī)平臺(tái)設(shè)置在平臺(tái)系統(tǒng)的系統(tǒng)底板的第一導(dǎo)軌上。

具體的，將X光機(jī)平臺(tái)的第一底座的底部與第一導(dǎo)軌的第一滑塊進(jìn)行固定連接，可以用螺栓與螺母將兩者固定，也可以采用焊接的方式，從而將X光機(jī)平臺(tái)安裝在第一導(dǎo)軌上。其中，X光機(jī)平臺(tái)上架設(shè)有X光機(jī)。

當(dāng)然在步驟110之前，要將系統(tǒng)底板放置在屏蔽箱內(nèi),屏蔽箱優(yōu)選采用鉛、鎘、不銹鋼、聚乙烯材料制成，可以實(shí)現(xiàn)一個(gè)較低本底的實(shí)驗(yàn)環(huán)境，屏蔽宇宙射線的軟成分和環(huán)境中⁴⁰K、²³⁸U和²³²Th衰變鏈中各元素的放射性，從而提高平臺(tái)系統(tǒng)的測(cè)量精度。

步驟120，將探測(cè)器平臺(tái)設(shè)置在系統(tǒng)底板的第二導(dǎo)軌上。

具體的，將探測(cè)器平臺(tái)的第一底座的底部與第二導(dǎo)軌的第一滑塊進(jìn)行固定連接，可以用螺栓與螺母將兩者固定，也可以采用焊接的方式，從而將探測(cè)器平臺(tái)安裝在第二導(dǎo)軌上。其中，探測(cè)器平臺(tái)上架設(shè)有探測(cè)器。

步驟130，將濾波架設(shè)置于X光機(jī)平臺(tái)和探測(cè)器平臺(tái)之間，濾波架上插接有附加濾波片。

具體的，將濾波架的連接部安裝在系統(tǒng)底板上，可以用螺栓與螺母將兩者固定，也可以采用焊接的方式，從而將濾波架固定在系統(tǒng)底板上，連接部的安裝位置是根據(jù)X光機(jī)平臺(tái)和探測(cè)器平臺(tái)的位置進(jìn)行選取的，使濾波架能夠旋轉(zhuǎn)至X光機(jī)平臺(tái)和探測(cè)器平臺(tái)之間。

步驟140，控制第一電機(jī)驅(qū)動(dòng)X光機(jī)平臺(tái)在第一導(dǎo)軌上運(yùn)動(dòng)至工作位置；并且，控制第二電機(jī)驅(qū)動(dòng)探測(cè)器平臺(tái)在第二導(dǎo)軌上運(yùn)動(dòng)至工作位置。

在X光機(jī)平臺(tái)、探測(cè)器平臺(tái)和濾波架安裝后，需要先將X光機(jī)平臺(tái)和探測(cè)器平臺(tái)調(diào)節(jié)至工作位置。具體的，第一電機(jī)接收第一位移信號(hào)，驅(qū)動(dòng)第一導(dǎo)軌上的絲杠轉(zhuǎn)動(dòng)，帶動(dòng)絲杠上第一滑塊沿絲杠運(yùn)動(dòng)至工作位置，從而帶動(dòng)X光機(jī)平臺(tái)在第一導(dǎo)軌上運(yùn)動(dòng)至工作位置；接著，第二電機(jī)接收第二位移信號(hào)，驅(qū)動(dòng)第二導(dǎo)軌上的絲杠轉(zhuǎn)動(dòng)，帶動(dòng)絲杠上第一滑塊沿絲杠運(yùn)動(dòng)至工作位置，從而帶動(dòng)探測(cè)器平臺(tái)在第二導(dǎo)軌上運(yùn)動(dòng)至工作位置。其中，第一位移信號(hào)和第二位移信號(hào)可以是由操作人員通過(guò)計(jì)算機(jī)控制系統(tǒng)發(fā)出的。

步驟150，調(diào)節(jié)X光機(jī)平臺(tái)的位置，調(diào)整濾波架，使X光機(jī)的X光出射位置、濾波架上插接的附加濾波片中心和探測(cè)器的接收X射線位置在同一直線上。

其中，步驟150分成兩部分進(jìn)行調(diào)節(jié)，第一部分是調(diào)節(jié)X光機(jī)平臺(tái)的位置，使X光機(jī)的X光出射位置和探測(cè)器的接收X射線位置在同一直線上；第二部分是調(diào)整濾波架，使X光機(jī)的X光出射位置和濾波架上插接的附加濾波片中心在同一直線上，從而使X光機(jī)的X光出射位置、濾波架上插接的附加濾波片中心和探測(cè)器的接收X射線位置在同一直線上。

下面介紹第一部分：

首先，開(kāi)啟X光機(jī)平臺(tái)上的激光校準(zhǔn)器，發(fā)射激光；其中，激光校準(zhǔn)器設(shè)置在X光機(jī)平臺(tái)的俯仰臺(tái)上，激光的出射方向與X光機(jī)出射X射線束的方向相同。

其次，調(diào)節(jié)所述X光機(jī)平臺(tái)的升降裝置，使激光校準(zhǔn)器發(fā)射的激光射向探測(cè)器平臺(tái)的激光接收器。

探測(cè)器平臺(tái)上設(shè)有激光接收器，激光接收器的位置是根據(jù)X光機(jī)、激光校準(zhǔn)器和探測(cè)器的的接收X射線位置進(jìn)行設(shè)計(jì)的。當(dāng)激光校準(zhǔn)器出射的激光射在激光接收器的中心時(shí)，X光機(jī)的X光出射位置與探測(cè)器的接收X射線位置在同一直線上。

具體的，升降驅(qū)動(dòng)電機(jī)接收升降驅(qū)動(dòng)信號(hào)，驅(qū)動(dòng)升降驅(qū)動(dòng)桿轉(zhuǎn)動(dòng)，帶動(dòng)升降驅(qū)動(dòng)桿上升降平臺(tái)在垂直所述第一導(dǎo)軌和滑軌所在平面運(yùn)動(dòng)，從而使激光校準(zhǔn)器發(fā)射的激光射向探測(cè)器平臺(tái)的激光接收器。其中，升降驅(qū)動(dòng)信號(hào)可以是由操作人員通過(guò)計(jì)算機(jī)控制系統(tǒng)發(fā)出的。

接著，調(diào)節(jié)X光機(jī)平臺(tái)的俯仰臺(tái)和旋轉(zhuǎn)臺(tái)，使激光校準(zhǔn)器發(fā)射的激光射至激光接收器的中心。

具體的，旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)電機(jī)接收旋轉(zhuǎn)信號(hào)，控制旋轉(zhuǎn)盤(pán)在固定部上旋轉(zhuǎn)，從帶動(dòng)激光發(fā)射器旋轉(zhuǎn)，其中，旋轉(zhuǎn)信號(hào)可以是由操作人員通過(guò)計(jì)算機(jī)控制系統(tǒng)發(fā)出的；旋轉(zhuǎn)俯仰調(diào)節(jié)螺栓，使第一臺(tái)面根據(jù)俯仰調(diào)節(jié)螺栓轉(zhuǎn)動(dòng)產(chǎn)生相應(yīng)傾斜，使第一臺(tái)面和第二臺(tái)面之間的角度發(fā)生相應(yīng)變化，從而調(diào)節(jié)激光出射角度，使激光射至激光接收器的中心，此時(shí)X光機(jī)的X光出射位置與探測(cè)器的接收X射線位置在同一直線上。

下面介紹第二部分：

首先，轉(zhuǎn)動(dòng)濾波架的連接部，使激光校準(zhǔn)器發(fā)射的激光射向?yàn)V波架。

接著，調(diào)節(jié)支撐桿的高度，旋轉(zhuǎn)支撐桿的角度，使激光校準(zhǔn)器發(fā)射的激光射向?yàn)V波架的預(yù)定位置，其中預(yù)定位置是根據(jù)激光校準(zhǔn)器、X光機(jī)的X光出射位置和附加濾波片進(jìn)行設(shè)計(jì)的，當(dāng)激光校準(zhǔn)器發(fā)射的激光射至濾波架的預(yù)定位置時(shí)，附加濾波片的中心與X光機(jī)的X光出射位置在同一直線上。

通過(guò)上述兩部分調(diào)節(jié)，實(shí)現(xiàn)使X光機(jī)的X光出射位置、濾波架上插接的附加濾波片中心和探測(cè)器的接收X射線位置在同一直線上。

步驟160，X光機(jī)產(chǎn)生初始X射線束。

具體的，打開(kāi)X光機(jī)的X射線光管，出射初始X射線束。

步驟170，初始X射線束經(jīng)過(guò)附加濾波片過(guò)濾處理，對(duì)低于第一閾值能量的射線進(jìn)行濾除。

其中，第一閾值是由所選附加濾波片決定的，不同附加濾波片所對(duì)應(yīng)的第一閾值不同。

具體的，附加濾波片對(duì)初始X射線束的低于第一閾值能量的射線進(jìn)行濾除，濾掉初始射線的低能部分，而對(duì)高能部分的光子分布影響不明顯，能譜被硬化，提高了X射線穿透能力，但是降低了光子強(qiáng)度。

步驟180，探測(cè)器接收過(guò)濾后X射線束，光子沉積在探測(cè)器晶體中，通過(guò)電子學(xué)器件生成電信號(hào)，得到能譜數(shù)據(jù)。

其中，所述能譜數(shù)據(jù)可以為光子能量與光子數(shù)的對(duì)應(yīng)關(guān)系曲線。

具體的，過(guò)濾后的X射線束射入探測(cè)器，探測(cè)器對(duì)射入的X射線束進(jìn)行接收，在探測(cè)器內(nèi)，光子在探測(cè)器晶體中進(jìn)行沉積，然后通過(guò)電子學(xué)器件生成電信號(hào)，從而得到光子能量與光子數(shù)的對(duì)應(yīng)關(guān)系曲線。

步驟190，調(diào)節(jié)管電壓和附加過(guò)濾獲得不同的輻射質(zhì)。

其中，所述輻射質(zhì)包括平均能量、譜分辨率、第一半值層和同質(zhì)系數(shù)。

具體的，改變加載在X射線光管的電壓，使初始X射線束的強(qiáng)度和平均能量發(fā)生改變，再重復(fù)上述步驟110至步驟180。直至完成所有所需參數(shù)的測(cè)量，得到不同的平均能量、譜分辨率、第一半值層和同質(zhì)系數(shù)。

更換不同厚度的附加濾波片，附加濾波片的厚度能夠改變對(duì)X射線低能部分的過(guò)濾程度，附加濾波片的厚度越厚相對(duì)于X射線高能部分過(guò)濾掉的低能部分越多，再重復(fù)上述步驟110至步驟180。直至完成所有所需參數(shù)的測(cè)量，得到不同的平均能量、譜分辨率、第一半值層和同質(zhì)系數(shù)。

放射源平臺(tái)的檢測(cè)方法與上述X光機(jī)平臺(tái)的檢測(cè)方法相同，不再贅述了。

本發(fā)明實(shí)施例提供的基于平臺(tái)系統(tǒng)的檢測(cè)方法，操作簡(jiǎn)單，能夠達(dá)到平臺(tái)系統(tǒng)要求的精度，從而提高測(cè)量結(jié)果的準(zhǔn)確度。

專(zhuān)業(yè)人員應(yīng)該還可以進(jìn)一步意識(shí)到，結(jié)合本文中所公開(kāi)的實(shí)施例描述的各示例的單元及算法步驟，能夠以電子硬件、計(jì)算機(jī)軟件或者二者的結(jié)合來(lái)實(shí)現(xiàn)，為了清楚地說(shuō)明硬件和軟件的可互換性，在上述說(shuō)明中已經(jīng)按照功能一般性地描述了各示例的組成及步驟。這些功能究竟以硬件還是軟件方式來(lái)執(zhí)行，取決于技術(shù)方案的特定應(yīng)用和設(shè)計(jì)約束條件。專(zhuān)業(yè)技術(shù)人員可以對(duì)每個(gè)特定的應(yīng)用來(lái)使用不同方法來(lái)實(shí)現(xiàn)所描述的功能，但是這種實(shí)現(xiàn)不應(yīng)認(rèn)為超出本發(fā)明的范圍。

結(jié)合本文中所公開(kāi)的實(shí)施例描述的方法或算法的步驟可以用硬件、處理器執(zhí)行的軟件模塊，或者二者的結(jié)合來(lái)實(shí)施。軟件模塊可以置于隨機(jī)存儲(chǔ)器(RAM)、內(nèi)存、只讀存儲(chǔ)器(ROM)、電可編程ROM、電可擦除可編程ROM、寄存器、硬盤(pán)、可移動(dòng)磁盤(pán)、CD-ROM、或技術(shù)領(lǐng)域內(nèi)所公知的任意其它形式的存儲(chǔ)介質(zhì)中。

以上所述的具體實(shí)施方式，對(duì)本發(fā)明的目的、技術(shù)方案和有益效果進(jìn)行了進(jìn)一步詳細(xì)說(shuō)明，所應(yīng)理解的是，以上所述僅為本發(fā)明的具體實(shí)施方式而已，并不用于限定本發(fā)明的保護(hù)范圍，凡在本發(fā)明的精神和原則之內(nèi)，所做的任何修改、等同替換、改進(jìn)等，均應(yīng)包含在本發(fā)明的保護(hù)范圍之內(nèi)。