1.一種用于監(jiān)測構(gòu)件的系統(tǒng)，所述系統(tǒng)包括：
構(gòu)造在所述構(gòu)件上的應(yīng)變傳感器；
用于分析所述應(yīng)變傳感器的電場掃描器；以及
與所述電場掃描器可操作通信的處理器，所述處理器能夠操作用于：
沿相互正交的X軸和Y軸測量橫跨所述應(yīng)變傳感器的電場值以獲得數(shù)據(jù)點(diǎn)集，以及
基于所述數(shù)據(jù)點(diǎn)集匯編所述應(yīng)變傳感器的場分布圖。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其特征在于，所述電場掃描器包括渦流線圈。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其特征在于，所述電場掃描器包括霍爾效應(yīng)探頭。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其特征在于，所述電場掃描器包括傳導(dǎo)性探頭。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其特征在于，所述電場掃描器包括電容探頭。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其特征在于，所述處理器能夠進(jìn)一步操作用于計(jì)算正交于所述X軸和所述Y軸的Z軸中的一個或更多個Z軸數(shù)據(jù)點(diǎn)，以及基于所述數(shù)據(jù)集和所述一個或更多個Z軸數(shù)據(jù)點(diǎn)匯編所述應(yīng)變傳感器的三維分布圖。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其特征在于，所述構(gòu)件由具有第一傳導(dǎo)值的材料形成，并且其中所述應(yīng)變傳感器包括具有不同于所述第一傳導(dǎo)值的第二傳導(dǎo)值的檢測材料。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的系統(tǒng)，其特征在于，所述檢測材料的所述第二傳導(dǎo)值大于所述構(gòu)件的所述第一傳導(dǎo)值。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其特征在于，所述構(gòu)件包括具有基部和熱障涂層的渦輪構(gòu)件，并且其中所述應(yīng)變傳感器設(shè)置在所述基部與所述熱障涂層之間。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其特征在于，所述處理器能夠進(jìn)一步操作用于比較多個場分布圖。