本發(fā)明涉及鍍膜機(jī)技術(shù)領(lǐng)域，更具體地說(shuō)，涉及一種鍍膜機(jī)質(zhì)控系統(tǒng)中心波長(zhǎng)校準(zhǔn)方法，還涉及一種鍍膜機(jī)質(zhì)控系統(tǒng)中心波長(zhǎng)校準(zhǔn)系統(tǒng)。

背景技術(shù)：

在光學(xué)濾光片生產(chǎn)制造過(guò)程中，需要在鍍膜機(jī)光控系統(tǒng)設(shè)定的中心波長(zhǎng)與濾光片波長(zhǎng)保持一致。然而，現(xiàn)有技術(shù)中的鍍膜機(jī)光控系統(tǒng)所設(shè)波長(zhǎng)總會(huì)有誤差，重復(fù)性不夠理想，在生產(chǎn)過(guò)程中存在極大的品質(zhì)隱患。因此，在每次生產(chǎn)前對(duì)鍍膜機(jī)光控系統(tǒng)中心波長(zhǎng)進(jìn)行校準(zhǔn)就尤為重要。

然而，現(xiàn)有技術(shù)中對(duì)鍍膜機(jī)光控系統(tǒng)中心波長(zhǎng)的校準(zhǔn)僅僅憑借工作人員長(zhǎng)期工作的經(jīng)驗(yàn)來(lái)進(jìn)行校準(zhǔn)，或者在正式實(shí)驗(yàn)之前，先通過(guò)一組對(duì)比實(shí)現(xiàn)來(lái)實(shí)現(xiàn)校準(zhǔn)，因?yàn)闆](méi)有一種有效的校準(zhǔn)方法，導(dǎo)致校準(zhǔn)不準(zhǔn)確，校準(zhǔn)速度慢，工作效率低下。

因此，如何有效校準(zhǔn)鍍膜機(jī)光控系統(tǒng)中心波長(zhǎng)是本領(lǐng)域技術(shù)人員急需要解決的技術(shù)問(wèn)題。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

為解決上述技術(shù)問(wèn)題，本發(fā)明提供一種鍍膜機(jī)光控系統(tǒng)中心波長(zhǎng)校準(zhǔn)方法，有效校準(zhǔn)鍍膜機(jī)光控系統(tǒng)中心波長(zhǎng)，提高校準(zhǔn)速度和準(zhǔn)確率，從而提高工作效率。

為實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明提供如下技術(shù)方案：

一種鍍膜機(jī)光控系統(tǒng)中心波長(zhǎng)校準(zhǔn)方法，包括：

利用高精度光譜檢測(cè)儀對(duì)校準(zhǔn)基片的中心波長(zhǎng)進(jìn)行檢測(cè)，測(cè)量結(jié)果作為標(biāo)準(zhǔn)波長(zhǎng)；

利用鍍膜機(jī)光控系統(tǒng)對(duì)所述校準(zhǔn)基片的中心波長(zhǎng)進(jìn)行檢測(cè)，測(cè)量結(jié)果作為待校準(zhǔn)波長(zhǎng)；

根據(jù)所述標(biāo)準(zhǔn)波長(zhǎng)對(duì)所述待校準(zhǔn)波長(zhǎng)進(jìn)行補(bǔ)償，得到校準(zhǔn)中心波長(zhǎng)。

優(yōu)選的，在上的鍍膜機(jī)光控系統(tǒng)中心波長(zhǎng)校準(zhǔn)方法中，所述校準(zhǔn)基片為窄帶濾光片。

優(yōu)選的，在上的鍍膜機(jī)光控系統(tǒng)中心波長(zhǎng)校準(zhǔn)方法中，所述窄帶濾光片的中心波長(zhǎng)范圍為所述校準(zhǔn)中心波長(zhǎng)增加或者減去50nm形成的數(shù)值范圍，通帶半寬度范圍3nm-5nm。

優(yōu)選的，在上的鍍膜機(jī)光控系統(tǒng)中心波長(zhǎng)校準(zhǔn)方法中，所述利用鍍膜機(jī)光控系統(tǒng)對(duì)所述校準(zhǔn)基片的中心波長(zhǎng)進(jìn)行檢測(cè)，包括：

調(diào)整所述鍍膜機(jī)光控系統(tǒng)中的光源、透鏡、單色儀三者之間的距離，使得所述光源的發(fā)射光通過(guò)光強(qiáng)度最大的入射狹縫照射至所述校準(zhǔn)基片表面；

獲取所述發(fā)射光被所述校準(zhǔn)基片透射光量最大值；

根據(jù)所述透射光量最大值計(jì)算所述待校準(zhǔn)波長(zhǎng)。

本發(fā)明還提供一種鍍膜機(jī)光控系統(tǒng)中心波長(zhǎng)校準(zhǔn)系統(tǒng)，包括：

高精度光譜檢測(cè)儀，用于對(duì)校準(zhǔn)基片的中心波長(zhǎng)進(jìn)行檢測(cè)，測(cè)量結(jié)果作為標(biāo)準(zhǔn)波長(zhǎng)；

鍍膜機(jī)光控系統(tǒng)，用于對(duì)所述校準(zhǔn)基片的中心波長(zhǎng)進(jìn)行檢測(cè)，測(cè)量結(jié)果作為待校準(zhǔn)波長(zhǎng)；

數(shù)據(jù)處理器，用于根據(jù)所述標(biāo)準(zhǔn)波長(zhǎng)對(duì)所述待校準(zhǔn)波長(zhǎng)進(jìn)行補(bǔ)償，得到校準(zhǔn)中心波長(zhǎng)。

優(yōu)選的，在上述鍍膜機(jī)光控系統(tǒng)中心波長(zhǎng)校準(zhǔn)系統(tǒng)中，所述鍍膜機(jī)光控系統(tǒng)包括：依次放置的光源、透鏡以及單色儀。

優(yōu)選的，在上述鍍膜機(jī)光控系統(tǒng)中心波長(zhǎng)校準(zhǔn)系統(tǒng)中，所述鍍膜機(jī)光控系統(tǒng)還包括：

光量值處理裝置，用于獲取所述發(fā)射光被所述校準(zhǔn)基片透射光量最大值。

優(yōu)選的，在上述鍍膜機(jī)光控系統(tǒng)中心波長(zhǎng)校準(zhǔn)系統(tǒng)中，所述數(shù)據(jù)處理器還用于根據(jù)所述透射光量最大值計(jì)算所述待校準(zhǔn)波長(zhǎng)。

從上述技術(shù)方案可以看出，本發(fā)明所提供的一種鍍膜機(jī)光控系統(tǒng)中心波長(zhǎng)校準(zhǔn)方法，包括：利用高精度光譜檢測(cè)儀對(duì)校準(zhǔn)基片的中心波長(zhǎng)進(jìn)行檢測(cè)，測(cè)量結(jié)果作為標(biāo)準(zhǔn)波長(zhǎng)；利用鍍膜機(jī)光控系統(tǒng)對(duì)所述校準(zhǔn)基片的中心波長(zhǎng)進(jìn)行檢測(cè)，測(cè)量結(jié)果作為待校準(zhǔn)波長(zhǎng)；根據(jù)所述標(biāo)準(zhǔn)波長(zhǎng)對(duì)所述待校準(zhǔn)波長(zhǎng)進(jìn)行補(bǔ)償，得到校準(zhǔn)中心波長(zhǎng)。

通過(guò)高精度光譜檢測(cè)儀對(duì)校準(zhǔn)基片的中心波長(zhǎng)進(jìn)行一次檢測(cè)，將測(cè)量結(jié)果作為標(biāo)準(zhǔn)波長(zhǎng)，將標(biāo)準(zhǔn)波長(zhǎng)作為參考來(lái)進(jìn)行每次的校準(zhǔn)，利用鍍膜機(jī)光控系統(tǒng)對(duì)所述校準(zhǔn)基片的中心波長(zhǎng)進(jìn)行檢測(cè)，由于測(cè)量結(jié)果不一定準(zhǔn)確，因此將其作為待校準(zhǔn)波長(zhǎng)，根據(jù)所述標(biāo)準(zhǔn)波長(zhǎng)對(duì)所述待校準(zhǔn)波長(zhǎng)進(jìn)行補(bǔ)償，得到校準(zhǔn)中心波長(zhǎng)。實(shí)驗(yàn)人員將校準(zhǔn)后的校準(zhǔn)中心波長(zhǎng)輸入至鍍膜機(jī)光控系統(tǒng)中，校準(zhǔn)準(zhǔn)確，避免了因中心波長(zhǎng)未校準(zhǔn)導(dǎo)致的多次重復(fù)試驗(yàn)的，此外，還提高了校準(zhǔn)速度，提高了工作效率。

本申請(qǐng)還公開(kāi)了一種鍍膜機(jī)光控系統(tǒng)中心波長(zhǎng)校準(zhǔn)系統(tǒng)，具有上述效果。

附圖說(shuō)明

為了更清楚地說(shuō)明本發(fā)明實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案，下面將對(duì)實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡(jiǎn)單地介紹，顯而易見(jiàn)地，下面描述中的附圖僅僅是本發(fā)明的實(shí)施例，對(duì)于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來(lái)講，在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下，還可以根據(jù)提供的附圖獲得其他的附圖。

圖1為本發(fā)明實(shí)施例提供的一種鍍膜機(jī)光控系統(tǒng)中心波長(zhǎng)校準(zhǔn)方法示意圖；

圖2為本發(fā)明實(shí)施例提供的一種鍍膜機(jī)光控系統(tǒng)中心波長(zhǎng)校準(zhǔn)系統(tǒng)局部結(jié)構(gòu)示意圖。

具體實(shí)施方式

下面將結(jié)合本發(fā)明實(shí)施例中的附圖，對(duì)本發(fā)明實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實(shí)施例僅僅是本發(fā)明一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例?；诒景l(fā)明中的實(shí)施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒(méi)有做出創(chuàng)造性勞動(dòng)前提下所獲得的所有其他實(shí)施例，都屬于本發(fā)明保護(hù)的范圍。

請(qǐng)參閱圖1，圖1為本發(fā)明實(shí)施例提供的一種鍍膜機(jī)光控系統(tǒng)中心波長(zhǎng)校準(zhǔn)方法示意圖。

在一種具體實(shí)施方式中，提供了一種鍍膜機(jī)光控系統(tǒng)中心波長(zhǎng)校準(zhǔn)方法，包括：

步驟S1：利用高精度光譜檢測(cè)儀對(duì)校準(zhǔn)基片的中心波長(zhǎng)進(jìn)行檢測(cè)，測(cè)量結(jié)果作為標(biāo)準(zhǔn)波長(zhǎng)；

其中，利用高精度光譜檢測(cè)儀對(duì)校準(zhǔn)基片的中心波長(zhǎng)進(jìn)行檢測(cè)與現(xiàn)有技術(shù)中對(duì)基片的中心波長(zhǎng)檢測(cè)過(guò)程相同，在此不再贅述。

在帶通濾光片里，是透過(guò)率最高的波段波長(zhǎng)，叫中心波長(zhǎng)，在長(zhǎng)波通或者短波通濾光片里，是半波中心波長(zhǎng)，就是透過(guò)率和截止透過(guò)率一半的位置的波長(zhǎng)。

步驟S2：利用鍍膜機(jī)光控系統(tǒng)對(duì)所述校準(zhǔn)基片的中心波長(zhǎng)進(jìn)行檢測(cè)，測(cè)量結(jié)果作為待校準(zhǔn)波長(zhǎng)；

其中，將基片放置在鍍膜機(jī)光控系統(tǒng)中監(jiān)控基板玻璃位置，調(diào)整光源、透鏡、單色儀三者之間的距離，保證照到入射狹縫上的光強(qiáng)度最大，否則影響入射光強(qiáng)，導(dǎo)致很難觀察到清晰的光譜線。為了充分利用進(jìn)入單色儀的光能，光源應(yīng)放置在入射準(zhǔn)直系統(tǒng)的光軸上。入射狹縫開(kāi)的過(guò)大可以增加入射光能，入射狹縫過(guò)窄，則進(jìn)入單色儀的光能較小，導(dǎo)致目標(biāo)光譜線較弱而不易觀察，所以選擇合適入射狹縫寬度，通過(guò)多次觀察實(shí)驗(yàn)，最后確定入射狹縫寬度。當(dāng)光源發(fā)光通過(guò)放置好的基片上，通過(guò)單色測(cè)試檢測(cè)電腦接收，找到基片光強(qiáng)最大值，記錄單色儀中顯示的中心波長(zhǎng)值，此時(shí)，中心波長(zhǎng)值為待校準(zhǔn)波長(zhǎng)。

步驟S3：根據(jù)所述標(biāo)準(zhǔn)波長(zhǎng)對(duì)所述待校準(zhǔn)波長(zhǎng)進(jìn)行補(bǔ)償，得到校準(zhǔn)中心波長(zhǎng)。

其中，標(biāo)準(zhǔn)波長(zhǎng)與待校準(zhǔn)波長(zhǎng)之間具有一定偏差，對(duì)待校準(zhǔn)波長(zhǎng)加上波長(zhǎng)因子或者減去補(bǔ)償因子等，補(bǔ)償方式不受限定，只要保證待校準(zhǔn)波長(zhǎng)與標(biāo)準(zhǔn)波長(zhǎng)一致即可，均在保護(hù)范圍內(nèi)。

本發(fā)明所提供的一種鍍膜機(jī)光控系統(tǒng)中心波長(zhǎng)校準(zhǔn)方法，包括：利用高精度光譜檢測(cè)儀對(duì)校準(zhǔn)基片的中心波長(zhǎng)進(jìn)行檢測(cè)，測(cè)量結(jié)果作為標(biāo)準(zhǔn)波長(zhǎng)；利用鍍膜機(jī)光控系統(tǒng)對(duì)所述校準(zhǔn)基片的中心波長(zhǎng)進(jìn)行檢測(cè)，測(cè)量結(jié)果作為待校準(zhǔn)波長(zhǎng)；根據(jù)所述標(biāo)準(zhǔn)波長(zhǎng)對(duì)所述待校準(zhǔn)波長(zhǎng)進(jìn)行補(bǔ)償，得到校準(zhǔn)中心波長(zhǎng)。

通過(guò)高精度光譜檢測(cè)儀對(duì)校準(zhǔn)基片的中心波長(zhǎng)進(jìn)行一次檢測(cè)，將測(cè)量結(jié)果作為標(biāo)準(zhǔn)波長(zhǎng)，將標(biāo)準(zhǔn)波長(zhǎng)作為參考來(lái)進(jìn)行每次的校準(zhǔn)，利用鍍膜機(jī)光控系統(tǒng)對(duì)所述校準(zhǔn)基片的中心波長(zhǎng)進(jìn)行檢測(cè)，由于測(cè)量結(jié)果不一定準(zhǔn)確，因此將其作為待校準(zhǔn)波長(zhǎng)，根據(jù)所述標(biāo)準(zhǔn)波長(zhǎng)對(duì)所述待校準(zhǔn)波長(zhǎng)進(jìn)行補(bǔ)償，得到校準(zhǔn)中心波長(zhǎng)。實(shí)驗(yàn)人員將校準(zhǔn)后的校準(zhǔn)中心波長(zhǎng)輸入至鍍膜機(jī)光控系統(tǒng)中，校準(zhǔn)準(zhǔn)確，避免了因中心波長(zhǎng)未校準(zhǔn)導(dǎo)致的多次重復(fù)試驗(yàn)的，此外，還提高了校準(zhǔn)速度，提高了工作效率。

在上述鍍膜機(jī)光控系統(tǒng)中心波長(zhǎng)校準(zhǔn)方法的基礎(chǔ)上，所述校準(zhǔn)基片為窄帶濾光片。

其中，由于窄帶濾光片的通帶相對(duì)來(lái)說(shuō)比較窄，利用窄帶濾光片的中心波長(zhǎng)來(lái)進(jìn)行校準(zhǔn)，使得檢測(cè)結(jié)果更加準(zhǔn)確。需要指出的是包括但不限于窄帶濾光片，還可以為其他類(lèi)型的濾光片，例如，寬帶濾光片等。

在上述的鍍膜機(jī)光控系統(tǒng)中心波長(zhǎng)校準(zhǔn)方法的基礎(chǔ)上，所述窄帶濾光片的中心波長(zhǎng)范圍為所述校準(zhǔn)中心波長(zhǎng)增加或者減去50nm形成的數(shù)值范圍，通帶半寬度范圍3nm-5nm。

其中，窄帶濾光片的中心波長(zhǎng)范圍為大于標(biāo)準(zhǔn)中心波長(zhǎng)減去50nm小于標(biāo)準(zhǔn)中心波長(zhǎng)增加50nm，窄帶濾光片的中心波長(zhǎng)范圍包括但不限于上述范圍，根據(jù)用戶(hù)需求還可以為3nm-5nm以?xún)?nèi)的任意中波長(zhǎng)范圍，均在保護(hù)范圍之內(nèi)。

在上述的鍍膜機(jī)光控系統(tǒng)中心波長(zhǎng)校準(zhǔn)方法的基礎(chǔ)上，所述利用鍍膜機(jī)光控系統(tǒng)對(duì)所述校準(zhǔn)基片的中心波長(zhǎng)進(jìn)行檢測(cè)，包括：

調(diào)整所述鍍膜機(jī)光控系統(tǒng)中的光源、透鏡、單色儀三者之間的距離，使得所述光源的發(fā)射光通過(guò)光強(qiáng)度最大的入射狹縫照射至所述校準(zhǔn)基片表面；

獲取所述發(fā)射光被所述校準(zhǔn)基片反射得到的透射光量最大值；

根據(jù)所述透射光量最大值計(jì)算所述待校準(zhǔn)波長(zhǎng)。

請(qǐng)參閱圖2，圖2為本發(fā)明實(shí)施例提供的一種鍍膜機(jī)光控系統(tǒng)中心波長(zhǎng)校準(zhǔn)系統(tǒng)局部結(jié)構(gòu)示意圖。

在另一種具體實(shí)施方式中，還提供一種鍍膜機(jī)光控系統(tǒng)中心波長(zhǎng)校準(zhǔn)系統(tǒng)，包括：

高精度光譜檢測(cè)儀100，用于對(duì)校準(zhǔn)基片的中心波長(zhǎng)進(jìn)行檢測(cè)，測(cè)量結(jié)果作為標(biāo)準(zhǔn)波長(zhǎng)；

鍍膜機(jī)光控系統(tǒng)200，用于對(duì)所述校準(zhǔn)基片的中心波長(zhǎng)進(jìn)行檢測(cè)，測(cè)量結(jié)果作為待校準(zhǔn)波長(zhǎng)；

數(shù)據(jù)處理器300，用于根據(jù)所述標(biāo)準(zhǔn)波長(zhǎng)對(duì)所述待校準(zhǔn)波長(zhǎng)進(jìn)行補(bǔ)償，得到校準(zhǔn)中心波長(zhǎng)。

進(jìn)一步的，在上述鍍膜機(jī)光控系統(tǒng)中心波長(zhǎng)校準(zhǔn)系統(tǒng)中，所述鍍膜機(jī)光控系統(tǒng)200包括：依次放置的光源、透鏡以及單色儀。

進(jìn)一步的，在上述鍍膜機(jī)光控系統(tǒng)中心波長(zhǎng)校準(zhǔn)系統(tǒng)中，所述鍍膜機(jī)光控系統(tǒng)200還包括圖像獲取裝置。

進(jìn)一步的，在上述鍍膜機(jī)光控系統(tǒng)中心波長(zhǎng)校準(zhǔn)系統(tǒng)中，所述鍍膜機(jī)光控系統(tǒng)200還包括：

光量值處理裝置，用于獲取所述發(fā)射光被所述校準(zhǔn)基片透射光量最大值。

進(jìn)一步的，在上述鍍膜機(jī)光控系統(tǒng)中心波長(zhǎng)校準(zhǔn)系統(tǒng)中，所述數(shù)據(jù)處理器300還用于根據(jù)所述透射光量最大值計(jì)算所述待校準(zhǔn)波長(zhǎng)。

本申請(qǐng)還公開(kāi)了一種鍍膜機(jī)光控系統(tǒng)中心波長(zhǎng)校準(zhǔn)系統(tǒng)，具有上述效果。

本說(shuō)明書(shū)中各個(gè)實(shí)施例采用遞進(jìn)的方式描述，每個(gè)實(shí)施例重點(diǎn)說(shuō)明的都是與其他實(shí)施例的不同之處，各個(gè)實(shí)施例之間相同相似部分互相參見(jiàn)即可。

對(duì)所公開(kāi)的實(shí)施例的上述說(shuō)明，使本領(lǐng)域?qū)I(yè)技術(shù)人員能夠?qū)崿F(xiàn)或使用本發(fā)明。對(duì)這些實(shí)施例的多種修改對(duì)本領(lǐng)域的專(zhuān)業(yè)技術(shù)人員來(lái)說(shuō)將是顯而易見(jiàn)的，本文中所定義的一般原理可以在不脫離本發(fā)明的精神或范圍的情況下，在其它實(shí)施例中實(shí)現(xiàn)。因此，本發(fā)明將不會(huì)被限制于本文所示的這些實(shí)施例，而是要符合與本文所公開(kāi)的原理和新穎特點(diǎn)相一致的最寬的范圍。