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一種確定疊前時(shí)間偏移速度場(chǎng)的方法及裝置與流程

文檔序號(hào):12457424閱讀:276來源:國(guó)知局
一種確定疊前時(shí)間偏移速度場(chǎng)的方法及裝置與流程
本申請(qǐng)涉及地震資料處理
技術(shù)領(lǐng)域
,特別涉及一種確定疊前時(shí)間偏移速度場(chǎng)的方法及裝置。
背景技術(shù)
:隨著對(duì)地震勘探精度的要求越來越高,疊前時(shí)間偏移處理已經(jīng)成為實(shí)現(xiàn)復(fù)雜隱蔽構(gòu)造區(qū)精確成像的重要手段。而通過疊前時(shí)間偏移處理得到的成像結(jié)果的質(zhì)量又主要依賴于所建立的疊前時(shí)間偏移速度場(chǎng)的準(zhǔn)確性,因此,在進(jìn)行疊前時(shí)間偏移處理前,建立準(zhǔn)確度較高的疊前時(shí)間偏移速度場(chǎng)是亟待解決的問題?,F(xiàn)有技術(shù)中確定疊前時(shí)間偏移速度場(chǎng)的方法的主要過程為:獲取目的工區(qū)的地震數(shù)據(jù),根據(jù)目的工區(qū)的地震數(shù)據(jù)確定目的工區(qū)上的疊加速度譜,對(duì)疊加速度譜進(jìn)行插值處理和平滑處理,得到目的工區(qū)上的初始均方根速度場(chǎng);利用初始均方根速度場(chǎng)對(duì)地震數(shù)據(jù)進(jìn)行疊前時(shí)間偏移處理,得到共反射點(diǎn)道集地震數(shù)據(jù);對(duì)共反射點(diǎn)道集地震數(shù)據(jù)進(jìn)行剩余速度分析處理,得到目的工區(qū)上的目標(biāo)均方根速度場(chǎng),即目的工區(qū)上的疊前時(shí)間偏移速度場(chǎng)。發(fā)明人發(fā)現(xiàn)現(xiàn)有技術(shù)中至少存在如下問題:極淺層通常是指地震數(shù)據(jù)中0~200毫秒之間的采樣時(shí)間對(duì)應(yīng)的層位。圖1示出了現(xiàn)有技術(shù)中目的工區(qū)中極淺層的地震數(shù)據(jù)中反射點(diǎn)的覆蓋次數(shù),參照?qǐng)D1,圖中目的工區(qū)中極淺層上的地震數(shù)據(jù)中反射點(diǎn)的覆蓋次數(shù)較少,那么,可能會(huì)導(dǎo)致得到的該層上的疊前時(shí)間偏移速度場(chǎng)的準(zhǔn)確度較低。從而可能導(dǎo)致得到的整個(gè)目的工區(qū)上的疊前時(shí)間偏移速度場(chǎng)的準(zhǔn)確度較低。技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:本申請(qǐng)實(shí)施例的目的是提供一種確定疊前時(shí)間偏移速度場(chǎng)的方法及裝置,以提高所確定的疊前時(shí)間偏移速度場(chǎng)的準(zhǔn)確度。為解決上述技術(shù)問題,本申請(qǐng)實(shí)施例提供一種確定疊前時(shí)間偏移速度場(chǎng)的方法及裝置是這樣實(shí)現(xiàn)的:一種確定疊前時(shí)間偏移速度場(chǎng)的方法,包括:獲取目的工區(qū)的地震數(shù)據(jù)、初至波數(shù)據(jù)和垂直地震剖面數(shù)據(jù),以及所述目的工區(qū)中極淺層的近地表采集信息;所述目的工區(qū)包括:極淺層、中淺層和中深層;根據(jù)所述初至波數(shù)據(jù)或所述近地表采集信息,確定所述極淺層上的初始均方根速度場(chǎng);根據(jù)所述垂直地震剖面數(shù)據(jù),確定所述中淺層上的初始均方根速度場(chǎng);基于所述中淺層上的初始均方根速度場(chǎng),確定所述中深層上的初始均方根速度場(chǎng);獲取所述目的工區(qū)中標(biāo)志層上的井分層數(shù)據(jù),基于所述極淺層、中淺層和中深層上的初始均方根速度場(chǎng)和所述井分層數(shù)據(jù),確定所述目的工區(qū)上的目標(biāo)均方根速度場(chǎng),即所述目的工區(qū)的疊前時(shí)間偏移速度場(chǎng)。優(yōu)選方案中,所述根據(jù)初至波數(shù)據(jù)或近地表采集信息,確定所述極淺層上的初始均方根速度場(chǎng),包括:根據(jù)所述初至波數(shù)據(jù)或所述近地表采集信息,對(duì)所述地震數(shù)據(jù)進(jìn)行層析反演靜校正處理,確定所述極淺層上的初始層速度場(chǎng);根據(jù)所述初始層速度場(chǎng),確定所述極淺層上的初始均方根速度場(chǎng)。優(yōu)選方案中,采用下述公式確定所述極淺層上的初始均方根速度場(chǎng):公式中,表示第i個(gè)采樣點(diǎn)對(duì)應(yīng)的地層位置處的初始均方根速度,表示第1個(gè)采樣點(diǎn)至第k個(gè)采樣點(diǎn)之間對(duì)應(yīng)地層位置處的層速度,Δtk表示第k個(gè)采樣點(diǎn)和第k-1個(gè)采樣點(diǎn)之間對(duì)應(yīng)的采樣時(shí)間間隔。優(yōu)選方案中,所述中淺層包括:第一區(qū)域、第二區(qū)域和第三區(qū)域。優(yōu)選方案中,所述根據(jù)垂直地震剖面數(shù)據(jù),確定所述中淺層上的初始均方根速度場(chǎng),包括:獲取所述中淺層上的測(cè)井信息;針對(duì)所述中淺層上的第一區(qū)域,利用所述垂直地震剖面數(shù)據(jù)確定第一區(qū)域的初始均方根速度場(chǎng);針對(duì)所述中淺層上的第二區(qū)域,利用所述測(cè)井信息中第二區(qū)域的聲波速度確定第二區(qū)域的初始均方根速度場(chǎng);針對(duì)所述中淺層上的第三區(qū)域,基于第一區(qū)域和第二區(qū)域的初始均方根速度場(chǎng),確定第三區(qū)域的初始均方根速度場(chǎng);根據(jù)第一區(qū)域、第二區(qū)域和第三區(qū)域的初始均方根速度場(chǎng),確定所述中淺層上的均方根速度場(chǎng)。優(yōu)選方案中,所述利用垂直地震剖面數(shù)據(jù)確定第一區(qū)域的初始均方根速度場(chǎng),包括:根據(jù)所述目的工區(qū)的地震數(shù)據(jù),確定所述目的工區(qū)上的疊加速度譜;利用所述垂直地震剖面數(shù)據(jù),在所述疊加速度譜上拾取第一區(qū)域的初始均方根速度,確定第一區(qū)域的均方根速度場(chǎng)。優(yōu)選方案中,所述基于第一區(qū)域和第二區(qū)域的初始均方根速度場(chǎng),確定第三區(qū)域的初始均方根速度場(chǎng),包括:基于第一區(qū)域和第二區(qū)域的初始均方根速度場(chǎng),確定第一區(qū)域和第二區(qū)域中標(biāo)志層上的均方根速度場(chǎng);對(duì)所述標(biāo)志層上的均方根速度場(chǎng)進(jìn)行插值處理和外推處理,確定第三區(qū)域的均方根速度場(chǎng)。優(yōu)選方案中,所述基于中淺層上的初始均方根速度場(chǎng),確定所述中深層上的初始均方根速度場(chǎng),包括:基于所述中淺層上的初始均方根速度場(chǎng),確定所述中淺層上的初始均方根速度與采樣時(shí)間的對(duì)應(yīng)關(guān)系;基于所述對(duì)應(yīng)關(guān)系,對(duì)所述中淺層上的初始均方根速度場(chǎng)進(jìn)行中均方根速度線性插值處理,確定所述中深層上的初始均方根速度場(chǎng)。優(yōu)選方案中,所述基于極淺層、中淺層和中深層上的初始均方根速度場(chǎng)和井分層數(shù)據(jù),確定所述目的工區(qū)上的目標(biāo)均方根速度場(chǎng),包括:基于所述極淺層、中淺層和中深層上的初始均方根速度場(chǎng),確定所述目的工區(qū)上的初始均方根速度場(chǎng);基于所述目的工區(qū)上的初始均方根速度場(chǎng)和所述目的工區(qū)的地震數(shù)據(jù)進(jìn)行剩余速度分析處理,確定所述目的工區(qū)上的第一均方根速度場(chǎng);對(duì)第一均方根速度場(chǎng)進(jìn)行百分比掃描處理,確定所述目的工區(qū)上的標(biāo)準(zhǔn)均方根速度場(chǎng);根據(jù)所述井分層數(shù)據(jù)和所述標(biāo)準(zhǔn)均方根速度場(chǎng),確定所述目的工區(qū)上的目標(biāo)均方根速度場(chǎng)。一種確定疊前時(shí)間偏移速度場(chǎng)的裝置,所述裝置包括:數(shù)據(jù)獲取模塊、極淺層速度場(chǎng)確定模塊、中淺層速度場(chǎng)確定模塊、中深層速度場(chǎng)確定模塊和目標(biāo)速度場(chǎng)確定模塊;其中,所述數(shù)據(jù)獲取模塊,用于獲取目的工區(qū)的地震數(shù)據(jù)和初至波數(shù)據(jù)、所述目的工區(qū)中極淺層對(duì)應(yīng)的近地表采集信息,以及所述目的工區(qū)的垂直地震剖面數(shù)據(jù);所述目的工區(qū)包括:極淺層、中淺層和中深層;所述極淺層速度場(chǎng)確定模塊,用于根據(jù)所述初至波數(shù)據(jù)或所述近地表采集信息,確定所述極淺層上的初始均方根速度場(chǎng);所述中淺層速度場(chǎng)確定模塊,用于根據(jù)所述垂直地震剖面數(shù)據(jù),確定所述中淺層上的初始均方根速度場(chǎng);所述中深層速度場(chǎng)確定模塊,用于基于所述中淺層上的初始均方根速度場(chǎng),確定所述中深層上的初始均方根速度場(chǎng);所述目標(biāo)速度場(chǎng)確定模塊,用于獲取所述目的工區(qū)中標(biāo)志層上的井分層數(shù)據(jù),基于所述極淺層、中淺層和中深層上的初始均方根速度場(chǎng)和所述井分層數(shù)據(jù),確定所述目的工區(qū)上的目標(biāo)均方根速度場(chǎng)。優(yōu)選方案中,所述極淺層速度場(chǎng)確定模塊,包括:初始層速度場(chǎng)確定模塊和極淺層均方根速度場(chǎng)確定模塊;其中,所述初始層速度場(chǎng)確定模塊,用于根據(jù)所述初至波數(shù)據(jù)或所述近地表采集信息,對(duì)所述地震數(shù)據(jù)進(jìn)行層析反演靜校正處理,確定所述極淺層上的初始層速度場(chǎng);所述極淺層均方根速度場(chǎng)確定模塊,用于根據(jù)所述初始層速度場(chǎng),確定所述極淺層上的初始均方根速度場(chǎng)。優(yōu)選方案中,所述目標(biāo)速度場(chǎng)確定模塊,包括:初始均方根速度場(chǎng)確定模塊、第一均方根速度場(chǎng)確定模塊、標(biāo)準(zhǔn)均方根速度場(chǎng)確定模塊和目標(biāo)均方根速度場(chǎng)確定模塊;其中,所述初始均方根速度場(chǎng)確定模塊,用于基于所述極淺層、中淺層和中深層上的初始均方根速度場(chǎng),確定所述目的工區(qū)上的初始均方根速度場(chǎng);所述第一均方根速度場(chǎng)確定模塊,用于基于所述目的工區(qū)上的初始均方根速度場(chǎng)和所述目的工區(qū)的地震數(shù)據(jù)進(jìn)行剩余速度分析處理,確定所述目的工區(qū)上的第一均方根速度場(chǎng);所述標(biāo)準(zhǔn)均方根速度場(chǎng)確定模塊,用于對(duì)第一均方根速度場(chǎng)進(jìn)行百分比掃描處理,確定所述目的工區(qū)上的標(biāo)準(zhǔn)均方根速度場(chǎng);所述目標(biāo)均方根速度場(chǎng)確定模塊,用于根據(jù)所述井分層數(shù)據(jù)和所述標(biāo)準(zhǔn)均方根速度場(chǎng),確定所述目的工區(qū)上的目標(biāo)均方根速度場(chǎng)。本申請(qǐng)實(shí)施例提供了一種確定疊前時(shí)間偏移速度場(chǎng)的方法及裝置,相比極淺層上的地震數(shù)據(jù),目的工區(qū)的初至波數(shù)據(jù)和近地表采集信息更符合目的工區(qū)中極淺層位置處的地質(zhì)規(guī)律?;谶@些數(shù)據(jù)和信息來確定的極淺層上的疊前時(shí)間偏移速度場(chǎng),其準(zhǔn)確度較高。進(jìn)而可以得到整個(gè)目的工區(qū)上準(zhǔn)確度較高的疊前時(shí)間偏移速度場(chǎng)。附圖說明為了更清楚地說明本申請(qǐng)實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案,下面將對(duì)實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡(jiǎn)單地介紹,顯而易見地,下面描述中的附圖僅僅是本申請(qǐng)中記載的一些實(shí)施例,對(duì)于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講,在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)性的前提下,還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。圖1是現(xiàn)有技術(shù)中目的工區(qū)中極淺層的地震數(shù)據(jù)中反射點(diǎn)的覆蓋次數(shù)的示意圖;圖2是本申請(qǐng)一種確定疊前時(shí)間偏移速度場(chǎng)的方法實(shí)施例的流程圖;圖3是本申請(qǐng)實(shí)施例中極淺層上的初始層速度場(chǎng)的剖面示意圖;圖4是本申請(qǐng)實(shí)施例中在疊加速度譜上拾取中淺層上的初始均方根速度的示意圖;圖5是本申請(qǐng)實(shí)施例中中淺層上的初始均方根速度場(chǎng)的剖面示意圖;圖6是本申請(qǐng)實(shí)施例中在疊加速度譜上拾取中深層上的初始均方根速度的示意圖;圖7是本申請(qǐng)實(shí)施例中目的工區(qū)上的標(biāo)準(zhǔn)均方根速度場(chǎng)同與其相關(guān)聯(lián)的共反射點(diǎn)道集地震數(shù)據(jù)的剖面示意圖;圖8是本申請(qǐng)實(shí)施例中基于校正處理前后的標(biāo)準(zhǔn)均方根速度場(chǎng)得到的疊前時(shí)間偏移處理后的地震數(shù)據(jù)同與其相關(guān)聯(lián)的四口油氣井的層位關(guān)系的示意圖;圖9是本申請(qǐng)確定疊前時(shí)間偏移速度場(chǎng)的裝置實(shí)施例的組成結(jié)構(gòu)圖;圖10是本申請(qǐng)確定疊前時(shí)間偏移速度場(chǎng)的裝置實(shí)施例中極淺層速度場(chǎng)確定模塊的組成結(jié)構(gòu)圖;圖11是本申請(qǐng)確定疊前時(shí)間偏移速度場(chǎng)的裝置實(shí)施例中目標(biāo)速度場(chǎng)確定模塊的組成結(jié)構(gòu)圖。具體實(shí)施方式本申請(qǐng)實(shí)施例提供一種確定疊前時(shí)間偏移速度場(chǎng)方法及裝置。為了使本
技術(shù)領(lǐng)域
的人員更好地理解本申請(qǐng)中的技術(shù)方案,下面將結(jié)合本申請(qǐng)實(shí)施例中的附圖,對(duì)本申請(qǐng)實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述,顯然,所描述的實(shí)施例僅僅是本申請(qǐng)一部分實(shí)施例,而不是全部的實(shí)施例?;诒旧暾?qǐng)中的實(shí)施例,本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有作出創(chuàng)造性勞動(dòng)前提下所獲得的所有其他實(shí)施例,都應(yīng)當(dāng)屬于本申請(qǐng)保護(hù)的范圍。圖2是本申請(qǐng)一種確定疊前時(shí)間偏移速度場(chǎng)的方法實(shí)施例的流程圖。如圖2所示,所述確定疊前時(shí)間偏移速度場(chǎng)的方法,包括以下步驟。步驟S101:獲取目的工區(qū)的地震數(shù)據(jù)、初至波數(shù)據(jù)和垂直地震剖面數(shù)據(jù),以及所述目的工區(qū)中極淺層的近地表采集信息。所述目的工區(qū)可以包括:極淺層、中淺層和中深層。所述目的工區(qū)的地震數(shù)據(jù)可以包括:所述極淺層上的地震數(shù)據(jù)、所述中淺層上的地震數(shù)據(jù)和所述中深層上的地震數(shù)據(jù)。所述極淺層可以表示所述地震數(shù)據(jù)中0~200毫秒之間的采樣時(shí)間對(duì)應(yīng)的層位。所述中淺層可以表示所述地震數(shù)據(jù)中200~1700毫秒之間的采樣時(shí)間對(duì)應(yīng)的層位。所述中深層可以表示所述地震數(shù)據(jù)中1700毫秒以上的采樣時(shí)間對(duì)應(yīng)的層位。對(duì)所述目的工區(qū)進(jìn)行地震勘探和數(shù)據(jù)采集,可以獲取所述目的工區(qū)的地震數(shù)據(jù)、初至波數(shù)據(jù)和垂直地震剖面數(shù)據(jù)。對(duì)所述目的工區(qū)中極淺層進(jìn)行微測(cè)井采集或小折射采集操作,可以獲取所述近地表采集信息。所述近地表采集信息可以包括:低速層上的速度信息和厚度信息,以及降速層上的速度信息和厚度信息。步驟S102:根據(jù)所述初至波數(shù)據(jù)或所述近地表采集信息,確定所述極淺層上的初始均方根速度場(chǎng)。具體地,根據(jù)所述初至波數(shù)據(jù)或所述近地表采集信息,對(duì)所述地震數(shù)據(jù)進(jìn)行層析反演靜校正處理,可以確定所述極淺層上的初始層速度場(chǎng)。根據(jù)所述初始層速度場(chǎng),可以確定所述極淺層上的初始均方根速度場(chǎng)。進(jìn)一步地,所述根據(jù)初始層速度場(chǎng),可以采用下述公式確定所述極淺層上的初始均方根速度場(chǎng):公式中,表示第i個(gè)采樣點(diǎn)對(duì)應(yīng)的地層位置處的初始均方根速度,表示第1個(gè)采樣點(diǎn)至第k個(gè)采樣點(diǎn)對(duì)應(yīng)地層位置處的層速度,Δtk表示第k個(gè)采樣點(diǎn)和第k-1個(gè)采樣點(diǎn)之間的采樣時(shí)間間隔。例如,圖3是本申請(qǐng)實(shí)施例中極淺層上的初始層速度場(chǎng)的剖面示意圖。圖3中的橫坐標(biāo)和縱坐標(biāo)分別表示聯(lián)絡(luò)測(cè)線號(hào)和極淺層對(duì)應(yīng)地層深度,灰度值表示極淺層上的層速度。其中,與聯(lián)絡(luò)測(cè)線號(hào)相對(duì)應(yīng)的主測(cè)線號(hào)為241。表1和表2分別為極淺層上不同地層深度位置處的層速度,以及利用公式(1)計(jì)算的極淺層上不同采樣時(shí)間對(duì)應(yīng)的初始均方根速度。如圖3、表1和表2所示,采用本申請(qǐng)實(shí)施例的方法可以避免極淺層上反射點(diǎn)覆蓋次數(shù)較少的問題?;诔踔敛〝?shù)據(jù)或近地表采集信息,可以得到準(zhǔn)確度較高的均方根速度場(chǎng)。表1極淺層上不同地層深度位置處的層速度主測(cè)線號(hào)共中心點(diǎn)面元深度(米)層速度(米)2414110819241412092124141301037241414011812414150136924141601553241417016972414180178824141901853241411001911241411101960241411201999241411302028表2極淺層上不同采樣時(shí)間對(duì)應(yīng)的初始均方根速度需要說明的是,步驟S102可以同時(shí)在步驟S103和步驟S104之前或之后,本申請(qǐng)對(duì)此并不作出限定。步驟S103:根據(jù)所述垂直地震剖面數(shù)據(jù),確定所述中淺層上的初始均方根速度場(chǎng)。所述中淺層可以根據(jù)是否具有所述垂直地震剖面數(shù)據(jù)和是否具有測(cè)井信息來進(jìn)行區(qū)域劃分。例如,所述中淺層可以包括:第一區(qū)域、第二區(qū)域和第三區(qū)域。第一區(qū)域可以表示所述中淺層上具有所述垂直地震剖面數(shù)據(jù)的地層區(qū)域。第二區(qū)域可以表示所述中淺層上不具有所述垂直地震剖面數(shù)據(jù)但具有測(cè)井信息的地層區(qū)域。第三區(qū)域可以表示所述中淺層上既不具有所述垂直地震剖面數(shù)據(jù)也不具有測(cè)井信息的地層區(qū)域??梢垣@取所述中淺層上的測(cè)井信息。針對(duì)所述中淺層上的第一區(qū)域,可以利用所述垂直地震剖面數(shù)據(jù)確定第一區(qū)域的初始均方根速度場(chǎng)。針對(duì)所述中淺層上的第二區(qū)域,可以利用所述測(cè)井信息中第二區(qū)域的聲波速度確定第二區(qū)域的初始均方根速度場(chǎng)。針對(duì)所述中淺層上的第三區(qū)域,可以基于第一區(qū)域和第二區(qū)域的初始均方根速度場(chǎng),確定第三區(qū)域的初始均方根速度場(chǎng)。根據(jù)第一區(qū)域、第二區(qū)域和第三區(qū)域的初始均方根速度場(chǎng),可以確定所述中淺層上的均方根速度場(chǎng)。進(jìn)一步地,所述基于第一區(qū)域和第二區(qū)域的初始均方根速度場(chǎng),確定第三區(qū)域的初始均方根速度場(chǎng),可以包括:基于第一區(qū)域和第二區(qū)域的初始均方根速度場(chǎng),可以確定第一區(qū)域和第二區(qū)域中標(biāo)志層上的均方根速度場(chǎng);對(duì)所述標(biāo)志層上的均方根速度場(chǎng)進(jìn)行插值處理和外推處理,可以確定第三區(qū)域的均方根速度場(chǎng)。所述外推處理和內(nèi)插處理可以用于基于第一區(qū)域和第二區(qū)域的初始均方根速度場(chǎng),利用所述標(biāo)志層之間中各個(gè)小層間的接觸關(guān)系進(jìn)行外推和內(nèi)插,可以得到第三區(qū)域的均方根速度場(chǎng)。進(jìn)一步地,所述利用垂直地震剖面數(shù)據(jù)確定第一區(qū)域的初始均方根速度場(chǎng),可以包括:根據(jù)所述目的工區(qū)的地震數(shù)據(jù),可以確定所述目的工區(qū)上的疊加速度譜。利用所述垂直地震剖面數(shù)據(jù),在所述疊加速度譜上拾取第一區(qū)域的初始均方根速度,可以確定第一區(qū)域的均方根速度場(chǎng)。例如,圖4是本申請(qǐng)實(shí)施例中在疊加速度譜上拾取中淺層上的初始均方根速度的示意圖。圖4中的黑實(shí)線為中淺層對(duì)應(yīng)的采樣時(shí)間位置處的初始均方根速度。圖4中velo表示所述目的工區(qū)上的疊加速度,time表示所述目的工區(qū)的地震數(shù)據(jù)中的采樣時(shí)間。圖5是本申請(qǐng)實(shí)施例中中淺層上的初始均方根速度場(chǎng)的剖面示意圖。圖5中CMP表示所述目的工區(qū)的地震數(shù)據(jù)中的共中心點(diǎn),time表示所述目的工區(qū)的地震數(shù)據(jù)中的采樣時(shí)間。如圖5所示,采用本申請(qǐng)實(shí)施例中的方法得到的中淺層上的初始均方根速度場(chǎng)中的初始均方根速度在空間上連續(xù)變化。步驟S104:基于所述中淺層上的初始均方根速度場(chǎng),確定所述中深層上的初始均方根速度場(chǎng)。具體地,基于所述中淺層上的初始均方根速度場(chǎng),可以確定所述中淺層上的初始均方根速度與采樣時(shí)間的對(duì)應(yīng)關(guān)系?;谒鰧?duì)應(yīng)關(guān)系,可以對(duì)所述中淺層上的初始均方根速度場(chǎng)進(jìn)行中均方根速度線性插值處理,可以確定所述中深層上的初始均方根速度場(chǎng)。例如,圖6是本申請(qǐng)實(shí)施例中在疊加速度譜上拾取中深層上的初始均方根速度的示意圖。圖6中采樣時(shí)間在1700毫秒以上對(duì)應(yīng)的黑實(shí)線表示中深層對(duì)應(yīng)的采樣時(shí)間位置處的初始均方根速度。步驟S105:獲取所述目的工區(qū)中標(biāo)志層上的井分層數(shù)據(jù),基于所述極淺層、中淺層和中深層上的初始均方根速度場(chǎng)和所述井分層數(shù)據(jù),確定所述目的工區(qū)上的目標(biāo)均方根速度場(chǎng),即所述目的工區(qū)的疊前時(shí)間偏移速度場(chǎng)。具體地,基于所述極淺層、中淺層和中深層上的初始均方根速度場(chǎng),可以確定所述目的工區(qū)上的初始均方根速度場(chǎng)?;谒瞿康墓^(qū)上的初始均方根速度場(chǎng)和所述目的工區(qū)的地震數(shù)據(jù)進(jìn)行剩余速度分析處理,可以確定所述目的工區(qū)上的第一均方根速度場(chǎng)。對(duì)第一均方根速度場(chǎng)進(jìn)行百分比掃描處理,可以確定所述目的工區(qū)上的標(biāo)準(zhǔn)均方根速度場(chǎng)。根據(jù)所述井分層數(shù)據(jù)和所述標(biāo)準(zhǔn)均方根速度場(chǎng),可以確定所述目的工區(qū)上的目標(biāo)均方根速度場(chǎng)。進(jìn)一步地,所述基于目的工區(qū)上的初始均方根速度場(chǎng)和所述目的工區(qū)的地震數(shù)據(jù)進(jìn)行剩余速度分析處理,確定所述目的工區(qū)上的第一均方根速度場(chǎng),可以包括以下步驟:步驟1)基于所述目的工區(qū)上的初始均方根速度場(chǎng),對(duì)所述目的工區(qū)的地震數(shù)據(jù)進(jìn)行速度控制線的疊前時(shí)間偏移處理,可以得到所述目的工區(qū)上的共反射點(diǎn)道集地震數(shù)據(jù)。步驟2)可以拾取所述共反射點(diǎn)道集地震數(shù)據(jù)對(duì)應(yīng)的剩余速度譜,利用所述剩余速度譜對(duì)所述目的工區(qū)上的初始均方根速度場(chǎng)進(jìn)行修正處理,得到所述目的工區(qū)上的第二均方根速度場(chǎng)。步驟3)當(dāng)所述剩余速度譜中剩余速度值不為零時(shí),基于所述第二均方根速度場(chǎng),可以重新按照步驟1)和步驟2)進(jìn)行處理,直到所述剩余速度譜中剩余速度值為零?;蛘撸?dāng)所述剩余速度譜中剩余速度值為零時(shí),可以將所述第二均方根速度場(chǎng)作為第一均方根速度場(chǎng)。例如,圖7是本申請(qǐng)實(shí)施例中目的工區(qū)上的標(biāo)準(zhǔn)均方根速度場(chǎng)同與其相關(guān)聯(lián)的共反射點(diǎn)道集地震數(shù)據(jù)的剖面示意圖。圖7中(a)和(b)分別為目的工區(qū)上的標(biāo)準(zhǔn)均方根速度場(chǎng)同與其相關(guān)聯(lián)的共反射點(diǎn)道集地震數(shù)據(jù)的剖面示意圖。圖7中(b)中offset為所述共反射道集地震數(shù)據(jù)中的偏移距。圖7中(b)中三組共反射點(diǎn)道集地震數(shù)據(jù)與圖7中(a)中的三條黑實(shí)線處的標(biāo)準(zhǔn)均方根速度一一對(duì)應(yīng)。如圖7所示,基于目的工區(qū)上的標(biāo)準(zhǔn)均方根速度場(chǎng)中三條黑實(shí)線處的標(biāo)準(zhǔn)均方根速度,對(duì)目的工區(qū)的地震數(shù)據(jù)進(jìn)行疊前時(shí)間偏移處理,可以分別得到的三組共反射點(diǎn)道集地震數(shù)據(jù)。所得到的三組共反射點(diǎn)道集地震數(shù)據(jù)均被全部拉平。所述根據(jù)井分層數(shù)據(jù)和標(biāo)準(zhǔn)均方根速度場(chǎng),確定所述目的工區(qū)上的目標(biāo)均方根速度場(chǎng),可以包括:可以利用所述標(biāo)準(zhǔn)均方根速度場(chǎng)對(duì)所述目的工區(qū)的地震數(shù)據(jù)進(jìn)行疊前時(shí)間偏移處理?;谒鼍謱訑?shù)據(jù)和疊前時(shí)間偏移處理后的地震數(shù)據(jù),可以對(duì)所述標(biāo)準(zhǔn)均方根速度場(chǎng)進(jìn)行校正處理,可以得到所述目標(biāo)均方根速度場(chǎng)。所述基于井分層數(shù)據(jù)和疊前時(shí)間偏移處理后的地震數(shù)據(jù),對(duì)所述標(biāo)準(zhǔn)均方根速度場(chǎng)進(jìn)行校正處理,可以包括:針對(duì)所述目的工區(qū)中至少一個(gè)標(biāo)志層,可以獲取所述井分層數(shù)據(jù)中第一標(biāo)志層對(duì)應(yīng)的層位時(shí)間與所述疊前時(shí)間偏移處理后的地震數(shù)據(jù)中第一標(biāo)志層對(duì)應(yīng)的層位時(shí)間之間的時(shí)差量?;诘谝粯?biāo)志層對(duì)應(yīng)的時(shí)差量,可以對(duì)所述標(biāo)準(zhǔn)均方根速度場(chǎng)中第一標(biāo)志層上的均方根速度值進(jìn)行校正處理,直到第一標(biāo)志層對(duì)應(yīng)的時(shí)差量為零。例如,圖8是本申請(qǐng)實(shí)施例中基于校正處理前后的標(biāo)準(zhǔn)均方根速度場(chǎng)得到的疊前時(shí)間偏移處理后的地震數(shù)據(jù)同與其相關(guān)聯(lián)的四口油氣井的層位關(guān)系的示意圖。圖8中橢圓虛線標(biāo)注的文字為所述目的工區(qū)的地層層位名稱。如圖8所示,基于校正處理前的標(biāo)準(zhǔn)均方根速度場(chǎng)得到的疊前時(shí)間偏移處理后的地震數(shù)據(jù)中1200毫秒~1300毫秒之間的采樣時(shí)間對(duì)應(yīng)的層位位置分別與W1油氣井的井分層數(shù)據(jù)和W2油氣井的井分層數(shù)據(jù)中的層位位置不一致?;谛U幚砬暗臉?biāo)準(zhǔn)均方根速度場(chǎng)得到的疊前時(shí)間偏移處理后的地震數(shù)據(jù)中900毫秒~1000毫秒之間的采樣時(shí)間對(duì)應(yīng)的層位位置分別與W3油氣井的井分層數(shù)據(jù)和W4油氣井的井分層數(shù)據(jù)中的層位位置不一致。經(jīng)過校正處理后,基于校正處理后的標(biāo)準(zhǔn)均方根速度場(chǎng),即目標(biāo)均方根速度場(chǎng),得到的疊前時(shí)間偏移處理后的地震數(shù)據(jù)的層位位置與各個(gè)油氣井的井分層數(shù)據(jù)的層位位置一致。所述確定疊前時(shí)間偏移速度場(chǎng)的方法實(shí)施例,相比極淺層上的地震數(shù)據(jù),目的工區(qū)的初至波數(shù)據(jù)和近地表采集信息更符合目的工區(qū)中極淺層位置處的地質(zhì)規(guī)律?;谶@些數(shù)據(jù)和信息來確定的極淺層上的疊前時(shí)間偏移速度場(chǎng),其準(zhǔn)確度較高。進(jìn)一步地,利用目的工區(qū)中標(biāo)志層上的井分層數(shù)據(jù)對(duì)目的工區(qū)上的均方根速度場(chǎng)進(jìn)行精細(xì)校正處理??梢杂行У乇WC疊前時(shí)間偏移后的地震數(shù)據(jù)與井分層數(shù)據(jù)的層位關(guān)系的一致性。進(jìn)而可以得到的整個(gè)目的工區(qū)上準(zhǔn)確度較高的疊前時(shí)間偏移速度場(chǎng)。圖9是本申請(qǐng)確定疊前時(shí)間偏移速度場(chǎng)的裝置實(shí)施例的組成結(jié)構(gòu)圖。如圖9所示,所述確定疊前時(shí)間偏移速度場(chǎng)的裝置,可以包括:數(shù)據(jù)獲取模塊100、極淺層速度場(chǎng)確定模塊200、中淺層速度場(chǎng)確定模塊300、中深層速度場(chǎng)確定模塊400和目標(biāo)速度場(chǎng)確定模塊500。所述數(shù)據(jù)獲取模塊100,可以用于獲取目的工區(qū)的地震數(shù)據(jù)、初至波數(shù)據(jù)和垂直地震剖面數(shù)據(jù),以及所述目的工區(qū)中極淺層的近地表采集信息。所述目的工區(qū)包括:極淺層、中淺層和中深層。所述極淺層速度場(chǎng)確定模塊200,可以用于根據(jù)所述初至波數(shù)據(jù)或所述近地表采集信息,確定所述極淺層上的初始均方根速度場(chǎng)。所述中淺層速度場(chǎng)確定模塊300,可以用于根據(jù)所述垂直地震剖面數(shù)據(jù),確定所述中淺層上的初始均方根速度場(chǎng)。所述中深層速度場(chǎng)確定模塊400,可以用于基于所述中淺層上的初始均方根速度場(chǎng),確定所述中深層上的初始均方根速度場(chǎng)。所述目標(biāo)速度場(chǎng)確定模塊500,可以用于獲取所述目的工區(qū)中標(biāo)志層上的井分層數(shù)據(jù)?;谒鰳O淺層、中淺層和中深層上的初始均方根速度場(chǎng)和所述井分層數(shù)據(jù),可以確定所述目的工區(qū)上的目標(biāo)均方根速度場(chǎng)。圖10是本申請(qǐng)確定疊前時(shí)間偏移速度場(chǎng)的裝置實(shí)施例中極淺層速度場(chǎng)確定模塊的組成結(jié)構(gòu)圖。如圖10所示,圖9中極淺層速度場(chǎng)確定模塊200,可以包括:初始層速度場(chǎng)確定模塊210和極淺層均方根速度場(chǎng)確定模塊220。所述初始層速度場(chǎng)確定模塊210,可以用于根據(jù)所述初至波數(shù)據(jù)或所述近地表采集信息,對(duì)所述地震數(shù)據(jù)進(jìn)行層析反演靜校正處理,可以確定所述極淺層上的初始層速度場(chǎng)。所述極淺層均方根速度場(chǎng)確定模塊220,可以用于根據(jù)所述初始層速度場(chǎng),確定所述極淺層上的初始均方根速度場(chǎng)。圖11是本申請(qǐng)確定疊前時(shí)間偏移速度場(chǎng)的裝置實(shí)施例中目標(biāo)速度場(chǎng)確定模塊的組成結(jié)構(gòu)圖。如圖11所示,圖9中目標(biāo)速度場(chǎng)確定模塊500,可以包括:初始均方根速度場(chǎng)確定模塊510、第一均方根速度場(chǎng)確定模塊520、標(biāo)準(zhǔn)均方根速度場(chǎng)確定模塊530和目標(biāo)均方根速度場(chǎng)確定模塊540。所述初始均方根速度場(chǎng)確定模塊510,可以用于基于所述極淺層、中淺層和中深層上的初始均方根速度場(chǎng),確定所述目的工區(qū)上的初始均方根速度場(chǎng)。所述第一均方根速度場(chǎng)確定模塊520,可以用于基于所述目的工區(qū)上的初始均方根速度場(chǎng)和所述目的工區(qū)的地震數(shù)據(jù)進(jìn)行剩余速度分析處理,確定所述目的工區(qū)上的第一均方根速度場(chǎng);所述標(biāo)準(zhǔn)均方根速度場(chǎng)確定模塊530,可以用于對(duì)第一均方根速度場(chǎng)進(jìn)行百分比掃描處理,確定所述目的工區(qū)上的標(biāo)準(zhǔn)均方根速度場(chǎng)。所述目標(biāo)均方根速度場(chǎng)確定模塊540,可以用于根據(jù)所述井分層數(shù)據(jù)和所述標(biāo)準(zhǔn)均方根速度場(chǎng),確定所述目的工區(qū)上的目標(biāo)均方根速度場(chǎng)。所述確定疊前時(shí)間偏移速度場(chǎng)的裝置實(shí)施例與所述確定疊前時(shí)間偏移速度場(chǎng)的方法實(shí)施例相對(duì)應(yīng),可以實(shí)現(xiàn)所述確定疊前時(shí)間偏移速度場(chǎng)的方法實(shí)施例的技術(shù)效果。在20世紀(jì)90年代,對(duì)于一個(gè)技術(shù)的改進(jìn)可以很明顯地區(qū)分是硬件上的改進(jìn)(例如,對(duì)二極管、晶體管、開關(guān)等電路結(jié)構(gòu)的改進(jìn))還是軟件上的改進(jìn)(對(duì)于方法流程的改進(jìn))。然而,隨著技術(shù)的發(fā)展,當(dāng)今的很多方法流程的改進(jìn)已經(jīng)可以視為硬件電路結(jié)構(gòu)的直接改進(jìn)。設(shè)計(jì)人員幾乎都通過將改進(jìn)的方法流程編程到硬件電路中來得到相應(yīng)的硬件電路結(jié)構(gòu)。因此,不能說一個(gè)方法流程的改進(jìn)就不能用硬件實(shí)體模塊來實(shí)現(xiàn)。例如,可編程邏輯器件(ProgrammableLogicDevice,PLD)(例如現(xiàn)場(chǎng)可編程門陣列(FieldProgrammableGateArray,F(xiàn)PGA))就是這樣一種集成電路,其邏輯功能由用戶對(duì)器件編程來確定。由設(shè)計(jì)人員自行編程來把一個(gè)數(shù)字系統(tǒng)“集成”在一片PLD上,而不需要請(qǐng)芯片制造廠商來設(shè)計(jì)和制作專用的集成電路芯片2。而且,如今,取代手工地制作集成電路芯片,這種編程也多半改用“邏輯編譯器(logiccompiler)”軟件來實(shí)現(xiàn),它與程序開發(fā)撰寫時(shí)所用的軟件編譯器相類似,而要編譯之前的原始代碼也得用特定的編程語言來撰寫,此稱之為硬件描述語言(HardwareDescriptionLanguage,HDL),而HDL也并非僅有一種,而是有許多種,如ABEL(AdvancedBooleanExpressionLanguage)、AHDL(AlteraHardwareDescriptionLanguage)、Confluence、CUPL(CornellUniversityProgrammingLanguage)、HDCal、JHDL(JavaHardwareDescriptionLanguage)、Lava、Lola、MyHDL、PALASM、RHDL(RubyHardwareDescriptionLanguage)等,目前最普遍使用的是VHDL(Very-High-SpeedIntegratedCircuitHardwareDescriptionLanguage)與Verilog2。本領(lǐng)域技術(shù)人員也應(yīng)該清楚,只需要將方法流程用上述幾種硬件描述語言稍作邏輯編程并編程到集成電路中,就可以很容易得到實(shí)現(xiàn)該邏輯方法流程的硬件電路。控制器可以按任何適當(dāng)?shù)姆绞綄?shí)現(xiàn),例如,控制器可以采取例如微處理器或處理器以及存儲(chǔ)可由該(微)處理器執(zhí)行的計(jì)算機(jī)可讀程序代碼(例如軟件或固件)的計(jì)算機(jī)可讀介質(zhì)、邏輯門、開關(guān)、專用集成電路(ApplicationSpecificIntegratedCircuit,ASIC)、可編程邏輯控制器和嵌入微控制器的形式,控制器的例子包括但不限于以下微控制器:ARC625D、AtmelAT91SAM、MicrochipPIC18F26K20以及SiliconeLabsC8051F320,存儲(chǔ)器控制器還可以被實(shí)現(xiàn)為存儲(chǔ)器的控制邏輯的一部分。本領(lǐng)域技術(shù)人員也知道,除了以純計(jì)算機(jī)可讀程序代碼方式實(shí)現(xiàn)控制器以外,完全可以通過將方法步驟進(jìn)行邏輯編程來使得控制器以邏輯門、開關(guān)、專用集成電路、可編程邏輯控制器和嵌入微控制器等的形式來實(shí)現(xiàn)相同功能。因此這種控制器可以被認(rèn)為是一種硬件部件,而對(duì)其內(nèi)包括的用于實(shí)現(xiàn)各種功能的裝置也可以視為硬件部件內(nèi)的結(jié)構(gòu)?;蛘呱踔粒梢詫⒂糜趯?shí)現(xiàn)各種功能的裝置視為既可以是實(shí)現(xiàn)方法的軟件模塊又可以是硬件部件內(nèi)的結(jié)構(gòu)。上述實(shí)施例闡明的系統(tǒng)、裝置、模塊或單元,具體可以由計(jì)算機(jī)芯片或?qū)嶓w實(shí)現(xiàn),或者由具有某種功能的產(chǎn)品來實(shí)現(xiàn)。為了描述的方便,描述以上裝置時(shí)以功能分為各種單元分別描述。當(dāng)然,在實(shí)施本申請(qǐng)時(shí)可以把各單元的功能在同一個(gè)或多個(gè)軟件和/或硬件中實(shí)現(xiàn)。通過以上的實(shí)施方式的描述可知,本領(lǐng)域的技術(shù)人員可以清楚地了解到本申請(qǐng)可借助軟件加必需的通用硬件平臺(tái)的方式來實(shí)現(xiàn)?;谶@樣的理解,本申請(qǐng)的技術(shù)方案本質(zhì)上或者說對(duì)現(xiàn)有技術(shù)做出貢獻(xiàn)的部分可以以軟件產(chǎn)品的形式體現(xiàn)出來,在一個(gè)典型的配置中,計(jì)算設(shè)備包括一個(gè)或多個(gè)處理器(CPU)、輸入/輸出接口、網(wǎng)絡(luò)接口和內(nèi)存。該計(jì)算機(jī)軟件產(chǎn)品可以包括若干指令用以使得一臺(tái)計(jì)算機(jī)設(shè)備(可以是個(gè)人計(jì)算機(jī),服務(wù)器,或者網(wǎng)絡(luò)設(shè)備等)執(zhí)行本申請(qǐng)各個(gè)實(shí)施例或者實(shí)施例的某些部分所述的方法。該計(jì)算機(jī)軟件產(chǎn)品可以存儲(chǔ)在內(nèi)存中,內(nèi)存可能包括計(jì)算機(jī)可讀介質(zhì)中的非永久性存儲(chǔ)器,隨機(jī)存取存儲(chǔ)器(RAM)和/或非易失性內(nèi)存等形式,如只讀存儲(chǔ)器(ROM)或閃存(flashRAM)。內(nèi)存是計(jì)算機(jī)可讀介質(zhì)的示例。計(jì)算機(jī)可讀介質(zhì)包括永久性和非永久性、可移動(dòng)和非可移動(dòng)媒體可以由任何方法或技術(shù)來實(shí)現(xiàn)信息存儲(chǔ)。信息可以是計(jì)算機(jī)可讀指令、數(shù)據(jù)結(jié)構(gòu)、程序的模塊或其他數(shù)據(jù)。計(jì)算機(jī)的存儲(chǔ)介質(zhì)的例子包括,但不限于相變內(nèi)存(PRAM)、靜態(tài)隨機(jī)存取存儲(chǔ)器(SRAM)、動(dòng)態(tài)隨機(jī)存取存儲(chǔ)器(DRAM)、其他類型的隨機(jī)存取存儲(chǔ)器(RAM)、只讀存儲(chǔ)器(ROM)、電可擦除可編程只讀存儲(chǔ)器(EEPROM)、快閃記憶體或其他內(nèi)存技術(shù)、只讀光盤只讀存儲(chǔ)器(CD-ROM)、數(shù)字多功能光盤(DVD)或其他光學(xué)存儲(chǔ)、磁盒式磁帶,磁帶磁磁盤存儲(chǔ)或其他磁性存儲(chǔ)設(shè)備或任何其他非傳輸介質(zhì),可用于存儲(chǔ)可以被計(jì)算設(shè)備訪問的信息。按照本文中的界定,計(jì)算機(jī)可讀介質(zhì)不包括短暫電腦可讀媒體(transitorymedia),如調(diào)制的數(shù)據(jù)信號(hào)和載波。本說明書中的各個(gè)實(shí)施例均采用遞進(jìn)的方式描述,各個(gè)實(shí)施例之間相同相似的部分互相參見即可,每個(gè)實(shí)施例重點(diǎn)說明的都是與其他實(shí)施例的不同之處。尤其,對(duì)于系統(tǒng)實(shí)施例而言,由于其基本相似于方法實(shí)施例,所以描述的比較簡(jiǎn)單,相關(guān)之處參見方法實(shí)施例的部分說明即可。本申請(qǐng)可用于眾多通用或?qū)S玫挠?jì)算機(jī)系統(tǒng)環(huán)境或配置中。例如:個(gè)人計(jì)算機(jī)、服務(wù)器計(jì)算機(jī)、手持設(shè)備或便攜式設(shè)備、平板型設(shè)備、多處理器系統(tǒng)、基于微處理器的系統(tǒng)、置頂盒、可編程的消費(fèi)電子設(shè)備、網(wǎng)絡(luò)PC、小型計(jì)算機(jī)、大型計(jì)算機(jī)、包括以上任何系統(tǒng)或設(shè)備的分布式計(jì)算環(huán)境等等。本申請(qǐng)可以在由計(jì)算機(jī)執(zhí)行的計(jì)算機(jī)可執(zhí)行指令的一般上下文中描述,例如程序模塊。一般地,程序模塊包括執(zhí)行特定任務(wù)或?qū)崿F(xiàn)特定抽象數(shù)據(jù)類型的例程、程序、對(duì)象、組件、數(shù)據(jù)結(jié)構(gòu)等等。也可以在分布式計(jì)算環(huán)境中實(shí)踐本申請(qǐng),在這些分布式計(jì)算環(huán)境中,由通過通信網(wǎng)絡(luò)而被連接的遠(yuǎn)程處理設(shè)備來執(zhí)行任務(wù)。在分布式計(jì)算環(huán)境中,程序模塊可以位于包括存儲(chǔ)設(shè)備在內(nèi)的本地和遠(yuǎn)程計(jì)算機(jī)存儲(chǔ)介質(zhì)中。雖然通過實(shí)施例描繪了本申請(qǐng),本領(lǐng)域普通技術(shù)人員知道,本申請(qǐng)有許多變形和變化而不脫離本申請(qǐng)的精神,希望所附的權(quán)利要求包括這些變形和變化而不脫離本申請(qǐng)的精神。當(dāng)前第1頁1 2 3 
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