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一種有利儲層的表征方法及裝置與流程

文檔序號:12659483閱讀:263來源:國知局
一種有利儲層的表征方法及裝置與流程

本申請涉及地球物理勘探技術(shù)領(lǐng)域,特別涉及一種有利儲層的表征方法及裝置。



背景技術(shù):

有利儲層通常是指孔隙度高、物性好的儲層。通過確定有利儲層可以確定目的工區(qū)開采的油井位置。通過疊前反演可以直接或間接獲得的各種對有利儲層敏感的彈性參數(shù),例如波阻抗、橫波阻抗、縱橫波速度比、泊松比、楊氏模量、體積模量等,利用所述獲得的各種彈性參數(shù)可以用于表征有利儲層。

現(xiàn)有的利用彈性參數(shù)表征有利儲層的方法有兩種。

一種是利用上述各種對有利儲層敏感的彈性參數(shù)中的一種參數(shù)來表征目的工區(qū)的有利儲層。但是該方法只利用一種彈性參數(shù)來表征有利儲層,得到結(jié)果的可靠性較差。

另一種是利用多個彈性參數(shù)進行交匯分析得到交匯圖,利用巖石物理模板在所述交匯圖上人工圈出有利儲層的區(qū)域,并將所述圈出的區(qū)域映射至一種彈性參數(shù)的數(shù)據(jù)體上,并對所述映射后的數(shù)據(jù)體進行透視濾波處理,從而實現(xiàn)對所述有利儲層的表征。但是該方法需要人工圈出有利儲層的區(qū)域,認為因素對最終的結(jié)果影響較大,人工圈出有利儲層區(qū)域的范圍發(fā)生變化后,最終結(jié)果可能導(dǎo)致較大差異。同時,經(jīng)透視濾波處理后的數(shù)據(jù)體剖面顯示較刻板,導(dǎo)致表征的有利儲層的顯效果較差。



技術(shù)實現(xiàn)要素:

本申請實施例的目的是提供一種有利儲層的表征方法及裝置,以提高有利儲層表征的準(zhǔn)確性。

為解決上述技術(shù)問題,本申請實施例提供一種有利儲層的表征方法及裝置是這樣實現(xiàn)的:

一種有利儲層的表征方法,包括:

獲取多種彈性參數(shù);

確定所述彈性參數(shù)與有利儲層的關(guān)系;

選取所述多種彈性參數(shù)中的第一彈性參數(shù)和第二彈性參數(shù),獲取目的層段中所述第一彈性參數(shù)的最大值和最小值,以及第二彈性參數(shù)的最大值和最小值;

根據(jù)所述彈性參數(shù)與有利儲層的關(guān)系、所述第一彈性參數(shù)的最大值和最小值,以及第二彈性參數(shù)的最大值和最小值,計算所述目的層段的物性指示因子;

利用所述目的層段的物性指示因子,對所述有利儲層進行表征。

優(yōu)選方案中,所述多種彈性參數(shù)包括下述中的至少兩種:波阻抗、橫波阻抗、縱橫波速度比、泊松比、楊氏模量、體積模量。

優(yōu)選方案中,所述利用目的層段的物性指示因子對所述有利儲層進行表征,包括:所述物性指示因子的值越大,表征有理儲層的能力越強。

優(yōu)選方案中,所述彈性參數(shù)與有利儲層的關(guān)系通過對所述獲取的彈性參數(shù)進行交匯分析來得到。

優(yōu)選方案中,所述彈性參數(shù)與有利儲層的關(guān)系包括:彈性參數(shù)與有利儲層為正相關(guān);或者,彈性參數(shù)與有利儲層為負相關(guān)。

優(yōu)選方案中,所述根據(jù)彈性參數(shù)與有利儲層的關(guān)系、所述第一彈性參數(shù)的最大值和最小值,以及第二彈性參數(shù)的最大值和最小值,計算所述目的層段的物性指示因子,具體包括:

當(dāng)所述第一彈性參數(shù)和第二彈性參數(shù)均與有利儲層為負相關(guān)時,利用第一方式計算所述目的層段的物性指示因子;或者,

當(dāng)所述第一彈性參數(shù)和第二彈性參數(shù)均與有利儲層為正相關(guān)時,利用第二方式計算所述目的層段的物性指示因子;或者,

當(dāng)所述第一彈性參數(shù)與有利儲層負相關(guān)、且第二彈性參數(shù)與有利儲層正相關(guān)時,利用第三方式計算所述目的層段的物性指示因子。

優(yōu)選方案中,所述第一方式采用下述公式實現(xiàn):

上述公式中,EP1為第一彈性參數(shù),EP1max為第一彈性參數(shù)在目的層段的最大值,EP1min為第一彈性參數(shù)在目的層段的最小值,EP2為第二彈性參數(shù),EP2max為第二彈性參數(shù)在目的層段的最大值,EP2min為第二彈性參數(shù)在目的層段的最小值。

優(yōu)選方案中,所述第二方式采用下述公式實現(xiàn):

上述公式中,EP1為第一彈性參數(shù),EP1max為第一彈性參數(shù)在目的層段的最大值,EP1min為第一彈性參數(shù)在目的層段的最小值,EP2為第二彈性參數(shù),EP2max為第二彈性參數(shù)在目的層段的最大值,EP2min為第二彈性參數(shù)在目的層段的最小值。

優(yōu)選方案中,所述第三方式采用下述公式實現(xiàn):

上述公式中,EP1為第一彈性參數(shù),EP1max為第一彈性參數(shù)在目的層段的最大值,EP1min為第一彈性參數(shù)在目的層段的最小值,EP2為第二彈性參數(shù),EP2max為第二彈性參數(shù)在目的層段的最大值,EP2min為第二彈性參數(shù)在目的層段的最小值。

一種有利儲層的表征裝置,包括:彈性參數(shù)獲取模塊、關(guān)系確定模塊、彈性參數(shù)選取模塊、物性指示因子計算模塊和表征模塊;其中,

所述彈性參數(shù)獲取模塊,用于獲取多種彈性參數(shù);

所述關(guān)系確定模塊,用于確定所述彈性參數(shù)與有利儲層的關(guān)系;

所述彈性參數(shù)選取模塊,用于選取所述多種彈性參數(shù)中的第一彈性參數(shù)和第二彈性參數(shù),獲取目的層段中所述第一彈性參數(shù)的最大值和最小值,以及第二彈性參數(shù)的最大值和最小值;

所述物性指示因子計算模塊,用于根據(jù)所述彈性參數(shù)與有利儲層的關(guān)系、所述第一彈性參數(shù)的最大值和最小值,以及第二彈性參數(shù)的最大值和最小值,計算所述目的層段的物性指示因子;

所述表征模塊,用于利用所述目的層段的物性指示因子,對所述有利儲層進行表征。

由以上本申請實施例提供的技術(shù)方案可見,本申請實施例提供的有利儲層的表征方法及裝置,利用兩個彈性參數(shù)計算得到的物性指示因子來對有利儲層進行表征,同時減少了人為因素對最終表征結(jié)果的影響,可以提高有利儲層表征的準(zhǔn)確性。同時,本申請實施例提供的有利儲層的表征方法及裝置得到的表征結(jié)果的顯示剖面不刻板,提高了有利儲層的表征顯示效果。

附圖說明

為了更清楚地說明本申請實施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案,下面將對實施例或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹,顯而易見地,下面描述中的附圖僅僅是本申請中記載的一些實施例,對于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講,在不付出創(chuàng)造性勞動性的前提下,還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。

圖1是本申請有利儲層表征方法一個實施例的流程圖;

圖2是本申請方法實施例中各彈性參數(shù)的交匯圖的一個示例;

圖3是本申請實施例中根據(jù)圖2所示的彈性參數(shù)計算得到的物性指示因子剖面圖;

圖4為本申請方法實施例中利用物性指示因子表征有利儲層的一個示例圖;

圖5是本申請有利儲層表征裝置一個實施例的模塊圖。

具體實施方式

本申請實施例提供一種有利儲層的表征方法及裝置。

為了使本技術(shù)領(lǐng)域的人員更好地理解本申請中的技術(shù)方案,下面將結(jié)合本申請實施例中的附圖,對本申請實施例中的技術(shù)方案進行清楚、完整地描述,顯然,所描述的實施例僅僅是本申請一部分實施例,而不是全部的實施例?;诒旧暾堉械膶嵤├?,本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有作出創(chuàng)造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例,都應(yīng)當(dāng)屬于本申請保護的范圍。

本申請?zhí)峁┮环N有利儲層的表征方法。

圖1是本申請有利儲層表征方法一個實施例的流程圖。參照圖1,所述有理儲層表征方法可以包括以下步驟。

S101:獲取多種彈性參數(shù)。

所述獲取多種彈性參數(shù)可以通過疊前反演來獲取。

在一種實施方式中,所述多種彈性參數(shù)可以包括下述中的至少兩種:波阻抗、橫波阻抗、縱橫波速度比、泊松比、楊氏模量、體積模量。

S102:確定所述彈性參數(shù)與有利儲層的關(guān)系。

所述彈性參數(shù)與有利儲層的關(guān)系通過對所述獲取的彈性參數(shù)進行交匯分析來得到。

所述彈性參數(shù)與有利儲層的關(guān)系包括:彈性參數(shù)與有利儲層為正相關(guān);或者,彈性參數(shù)與有利儲層為負相關(guān)。

圖2是本申請方法實施例中各彈性參數(shù)的交匯圖的一個示例。圖中黑色區(qū)域表示孔隙度較大的有利儲層,灰色區(qū)域表示孔隙度較小的非有利儲層。根據(jù)圖2,可知該有利儲層與縱波阻抗為負相關(guān),與縱橫波速度比為負相關(guān)。

S103:選取所述多種彈性參數(shù)中的第一彈性參數(shù)和第二彈性參數(shù),獲取目的層段中所述第一彈性參數(shù)的最大值和最小值,以及第二彈性參數(shù)的最大值和最小值。

S104:根據(jù)所述彈性參數(shù)與有利儲層的關(guān)系、所述第一彈性參數(shù)的最大值和最小值,以及第二彈性參數(shù)的最大值和最小值,計算所述目的層段的物性指示因子。

所述根據(jù)彈性參數(shù)與有利儲層的關(guān)系、所述第一彈性參數(shù)的最大值和最小值,以及第二彈性參數(shù)的最大值和最小值,計算所述目的層段的物性指示因子,具體包括:

當(dāng)所述第一彈性參數(shù)和第二彈性參數(shù)均與有利儲層為負相關(guān)時,利用第一方式計算所述目的層段的物性指示因子;或者,

當(dāng)所述第一彈性參數(shù)和第二彈性參數(shù)均與有利儲層為正相關(guān)時,利用第二方式計算所述目的層段的物性指示因子;或者,

當(dāng)所述第一彈性參數(shù)與有利儲層負相關(guān)、且第二彈性參數(shù)與有利儲層正相關(guān)時,利用第三方式計算所述目的層段的物性指示因子。

所述第一方式采用下述公式實現(xiàn):

上述公式中,EP1為第一彈性參數(shù),EP1max為第一彈性參數(shù)在目的層段的最大值,EP1min為第一彈性參數(shù)在目的層段的最小值,EP2為第二彈性參數(shù),EP2max為第二彈性參數(shù)在目的層段的最大值,EP2min為第二彈性參數(shù)在目的層段的最小值。

所述第二方式采用下述公式實現(xiàn):

上述公式中,EP1為第一彈性參數(shù),EP1max為第一彈性參數(shù)在目的層段的最大值,EP1min為第一彈性參數(shù)在目的層段的最小值,EP2為第二彈性參數(shù),EP2max為第二彈性參數(shù)在目的層段的最大值,EP2min為第二彈性參數(shù)在目的層段的最小值。

所述第三方式采用下述公式實現(xiàn):

上述公式中,EP1為第一彈性參數(shù),EP1max為第一彈性參數(shù)在目的層段的最大值,EP1min為第一彈性參數(shù)在目的層段的最小值,EP2為第二彈性參數(shù),EP2max為第二彈性參數(shù)在目的層段的最大值,EP2min為第二彈性參數(shù)在目的層段的最小值。

圖3是本申請實施例中根據(jù)圖2所示的彈性參數(shù)計算得到的物性指示因子剖面圖。參照圖3,圖3中物性指示因子的值大于60的區(qū)域為有利儲層。

S105:利用所述目的層段的物性指示因子,對所述有利儲層進行表征。

所述利用目的層段的物性指示因子對所述有利儲層進行表征,包括:所述物性指示因子的值越大,表征有理儲層的能力越強。

圖4為本申請方法實施例中利用物性指示因子表征有利儲層的一個示例圖。參照圖4,圖4中的深灰色區(qū)域為表征出的有利儲層區(qū)域。

上述實施例提供的有利儲層的表征方法,利用兩個彈性參數(shù)計算得到的物性指示因子來對有利儲層進行表征,同時減少了人為因素對最終表征結(jié)果的影響,可以提高有利儲層表征的準(zhǔn)確性。同時,本申請實施例提供的有利儲層的表征方法得到的表征結(jié)果的顯示剖面不刻板,提高了有利儲層的表征顯示效果。

本申請實施例還提供一種有利儲層的表征裝置。

圖5是本申請有利儲層表征裝置一個實施例的模塊圖。參照圖5,所述有利儲層的表征裝置,可以包括:彈性參數(shù)獲取模塊501、關(guān)系確定模塊502、彈性參數(shù)選取模塊503、物性指示因子計算模塊504和表征模塊505;其中,

所述彈性參數(shù)獲取模塊501,可以用于獲取多種彈性參數(shù)。

所述關(guān)系確定模塊502,可以用于確定所述彈性參數(shù)與有利儲層的關(guān)系。

所述彈性參數(shù)選取模塊503,可以用于選取所述多種彈性參數(shù)中的第一彈性參數(shù)和第二彈性參數(shù),獲取目的層段中所述第一彈性參數(shù)的最大值和最小值,以及第二彈性參數(shù)的最大值和最小值。

所述物性指示因子計算模塊504,可以用于根據(jù)所述彈性參數(shù)與有利儲層的關(guān)系、所述第一彈性參數(shù)的最大值和最小值,以及第二彈性參數(shù)的最大值和最小值,計算所述目的層段的物性指示因子。

所述表征模塊505,用于利用所述目的層段的物性指示因子,對所述有利儲層進行表征。

本申請中的有利儲層的表征的裝置實施例與本申請實施例提供的有利儲層的表征方法相對應(yīng),可以實現(xiàn)本申請中的方法實施例,并取得方法實施例的技術(shù)效果。

在20世紀90年代,對于一個技術(shù)的改進可以很明顯地區(qū)分是硬件上的改進(例如,對二極管、晶體管、開關(guān)等電路結(jié)構(gòu)的改進)還是軟件上的改進(對于方法流程的改進)。然而,隨著技術(shù)的發(fā)展,當(dāng)今的很多方法流程的改進已經(jīng)可以視為硬件電路結(jié)構(gòu)的直接改進。設(shè)計人員幾乎都通過將改進的方法流程編程到硬件電路中來得到相應(yīng)的硬件電路結(jié)構(gòu)。因此,不能說一個方法流程的改進就不能用硬件實體模塊來實現(xiàn)。例如,可編程邏輯器件(Programmable Logic Device,PLD)(例如現(xiàn)場可編程門陣列(Field Programmable Gate Array,F(xiàn)PGA))就是這樣一種集成電路,其邏輯功能由用戶對器件編程來確定。由設(shè)計人員自行編程來把一個數(shù)字系統(tǒng)“集成”在一片PLD上,而不需要請芯片制造廠商來設(shè)計和制作專用的集成電路芯片2。而且,如今,取代手工地制作集成電路芯片,這種編程也多半改用“邏輯編譯器(logic compiler)”軟件來實現(xiàn),它與程序開發(fā)撰寫時所用的軟件編譯器相類似,而要編譯之前的原始代碼也得用特定的編程語言來撰寫,此稱之為硬件描述語言(Hardware Description Language,HDL),而HDL也并非僅有一種,而是有許多種,如ABEL(Advanced Boolean Expression Language)、AHDL(Altera Hardware Description Language)、Confluence、CUPL(Cornell University Programming Language)、HDCal、JHDL(Java Hardware Description Language)、Lava、Lola、MyHDL、PALASM、RHDL(Ruby Hardware Description Language)等,目前最普遍使用的是VHDL(Very-High-Speed Integrated Circuit Hardware Description Language)與Verilog2。本領(lǐng)域技術(shù)人員也應(yīng)該清楚,只需要將方法流程用上述幾種硬件描述語言稍作邏輯編程并編程到集成電路中,就可以很容易得到實現(xiàn)該邏輯方法流程的硬件電路。

控制器可以按任何適當(dāng)?shù)姆绞綄崿F(xiàn),例如,控制器可以采取例如微處理器或處理器以及存儲可由該(微)處理器執(zhí)行的計算機可讀程序代碼(例如軟件或固件)的計算機可讀介質(zhì)、邏輯門、開關(guān)、專用集成電路(Application Specific Integrated Circuit,ASIC)、可編程邏輯控制器和嵌入微控制器的形式,控制器的例子包括但不限于以下微控制器:ARC 625D、Atmel AT91SAM、Microchip PIC18F26K20以及Silicone Labs C8051F320,存儲器控制器還可以被實現(xiàn)為存儲器的控制邏輯的一部分。

本領(lǐng)域技術(shù)人員也知道,除了以純計算機可讀程序代碼方式實現(xiàn)控制器以外,完全可以通過將方法步驟進行邏輯編程來使得控制器以邏輯門、開關(guān)、專用集成電路、可編程邏輯控制器和嵌入微控制器等的形式來實現(xiàn)相同功能。因此這種控制器可以被認為是一種硬件部件,而對其內(nèi)包括的用于實現(xiàn)各種功能的裝置也可以視為硬件部件內(nèi)的結(jié)構(gòu)。或者甚至,可以將用于實現(xiàn)各種功能的裝置視為既可以是實現(xiàn)方法的軟件模塊又可以是硬件部件內(nèi)的結(jié)構(gòu)。

上述實施例闡明的系統(tǒng)、裝置、模塊或單元,具體可以由計算機芯片或?qū)嶓w實現(xiàn),或者由具有某種功能的產(chǎn)品來實現(xiàn)。

為了描述的方便,描述以上裝置時以功能分為各種單元分別描述。當(dāng)然,在實施本申請時可以把各單元的功能在同一個或多個軟件和/或硬件中實現(xiàn)。

通過以上的實施方式的描述可知,本領(lǐng)域的技術(shù)人員可以清楚地了解到本申請可借助軟件加必需的通用硬件平臺的方式來實現(xiàn)?;谶@樣的理解,本申請的技術(shù)方案本質(zhì)上或者說對現(xiàn)有技術(shù)做出貢獻的部分可以以軟件產(chǎn)品的形式體現(xiàn)出來,在一個典型的配置中,計算設(shè)備包括一個或多個處理器(CPU)、輸入/輸出接口、網(wǎng)絡(luò)接口和內(nèi)存。該計算機軟件產(chǎn)品可以包括若干指令用以使得一臺計算機設(shè)備(可以是個人計算機,服務(wù)器,或者網(wǎng)絡(luò)設(shè)備等)執(zhí)行本申請各個實施例或者實施例的某些部分所述的方法。該計算機軟件產(chǎn)品可以存儲在內(nèi)存中,內(nèi)存可能包括計算機可讀介質(zhì)中的非永久性存儲器,隨機存取存儲器(RAM)和/或非易失性內(nèi)存等形式,如只讀存儲器(ROM)或閃存(flash RAM)。內(nèi)存是計算機可讀介質(zhì)的示例。計算機可讀介質(zhì)包括永久性和非永久性、可移動和非可移動媒體可以由任何方法或技術(shù)來實現(xiàn)信息存儲。信息可以是計算機可讀指令、數(shù)據(jù)結(jié)構(gòu)、程序的模塊或其他數(shù)據(jù)。計算機的存儲介質(zhì)的例子包括,但不限于相變內(nèi)存(PRAM)、靜態(tài)隨機存取存儲器(SRAM)、動態(tài)隨機存取存儲器(DRAM)、其他類型的隨機存取存儲器(RAM)、只讀存儲器(ROM)、電可擦除可編程只讀存儲器(EEPROM)、快閃記憶體或其他內(nèi)存技術(shù)、只讀光盤只讀存儲器(CD-ROM)、數(shù)字多功能光盤(DVD)或其他光學(xué)存儲、磁盒式磁帶,磁帶磁磁盤存儲或其他磁性存儲設(shè)備或任何其他非傳輸介質(zhì),可用于存儲可以被計算設(shè)備訪問的信息。按照本文中的界定,計算機可讀介質(zhì)不包括短暫電腦可讀媒體(transitory media),如調(diào)制的數(shù)據(jù)信號和載波。

本說明書中的各個實施例均采用遞進的方式描述,各個實施例之間相同相似的部分互相參見即可,每個實施例重點說明的都是與其他實施例的不同之處。尤其,對于系統(tǒng)實施例而言,由于其基本相似于方法實施例,所以描述的比較簡單,相關(guān)之處參見方法實施例的部分說明即可。

本申請可用于眾多通用或?qū)S玫挠嬎銠C系統(tǒng)環(huán)境或配置中。例如:個人計算機、服務(wù)器計算機、手持設(shè)備或便攜式設(shè)備、平板型設(shè)備、多處理器系統(tǒng)、基于微處理器的系統(tǒng)、置頂盒、可編程的消費電子設(shè)備、網(wǎng)絡(luò)PC、小型計算機、大型計算機、包括以上任何系統(tǒng)或設(shè)備的分布式計算環(huán)境等等。

本申請可以在由計算機執(zhí)行的計算機可執(zhí)行指令的一般上下文中描述,例如程序模塊。一般地,程序模塊包括執(zhí)行特定任務(wù)或?qū)崿F(xiàn)特定抽象數(shù)據(jù)類型的例程、程序、對象、組件、數(shù)據(jù)結(jié)構(gòu)等等。也可以在分布式計算環(huán)境中實踐本申請,在這些分布式計算環(huán)境中,由通過通信網(wǎng)絡(luò)而被連接的遠程處理設(shè)備來執(zhí)行任務(wù)。在分布式計算環(huán)境中,程序模塊可以位于包括存儲設(shè)備在內(nèi)的本地和遠程計算機存儲介質(zhì)中。

雖然通過實施例描繪了本申請,本領(lǐng)域普通技術(shù)人員知道,本申請有許多變形和變化而不脫離本申請的精神,希望所附的權(quán)利要求包括這些變形和變化而不脫離本申請的精神。

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