本發(fā)明涉及工程材料技術(shù)領(lǐng)域,具體涉及一種高溫風(fēng)洞中材料氧化燒蝕測(cè)量裝置及其測(cè)量方法。
背景技術(shù):
高溫合金及復(fù)合材料由于其良好的力學(xué)特性和抗高溫性能,廣泛應(yīng)用于航天航空、核能等領(lǐng)域。特別在航空高超聲速飛行器結(jié)構(gòu)材料中,飛行器外形承受的氣動(dòng)熱隨著飛行器速度的增加而增大,在超高聲速飛行情況下,飛行器表面的結(jié)構(gòu)材料被由于氣動(dòng)燒蝕發(fā)生氧化。通常為了模擬飛行器高空高超速飛行環(huán)境,采用高溫模擬實(shí)驗(yàn)對(duì)飛行器結(jié)構(gòu)材料的耐高溫性能進(jìn)行測(cè)試,其中一類重要的模擬手段即是通過(guò)高溫風(fēng)洞對(duì)材料結(jié)構(gòu)進(jìn)行考核。對(duì)于高溫合金及復(fù)合材料高溫風(fēng)洞中的燒蝕氧化,現(xiàn)有方法大多是通過(guò)對(duì)比材料燒蝕前和燒蝕后形態(tài),記錄材料最終經(jīng)過(guò)高溫風(fēng)洞燒蝕之后的狀態(tài),獲得燒蝕量和材料組分變化情況。對(duì)于材料在燒蝕過(guò)程中的變化情況,無(wú)法實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)獲取整個(gè)燒蝕過(guò)程中的材料組分動(dòng)態(tài)變化信息。
高溫風(fēng)洞模擬高超聲速飛行器飛行服役環(huán)境為飛行器結(jié)構(gòu)及材料提供了理想的測(cè)試環(huán)境,現(xiàn)有高溫風(fēng)洞通常為燃?xì)怙L(fēng)洞和電弧風(fēng)洞。高光譜成像技術(shù)是一種將光譜分析與光學(xué)成像技術(shù)結(jié)合的新型成像技術(shù),可通過(guò)物體不同組分對(duì)不同光譜的吸收特性實(shí)現(xiàn)材料組分分析。但材料在高溫風(fēng)洞的燒蝕過(guò)程中,材料表面高溫輻射光對(duì)輻射光譜會(huì)有影響,使得不能準(zhǔn)確測(cè)量材料在高溫風(fēng)洞中燒蝕過(guò)程化學(xué)組分變化。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:
針對(duì)以上現(xiàn)有技術(shù)中存在的問(wèn)題,本發(fā)明提出了一種高溫風(fēng)洞中材料氧化燒蝕測(cè)量裝置及其測(cè)量方法,對(duì)被測(cè)材料在燒蝕過(guò)程中生成氧化進(jìn)行實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè),同時(shí)可以測(cè)得被測(cè)材料表面的全場(chǎng)溫度分布,再利用高光譜技術(shù)測(cè)定材料組分變化時(shí)去除被測(cè)材料本身燒蝕過(guò)程中輻射光的干擾。
本發(fā)明的一個(gè)目的在于提出一種高溫風(fēng)洞中材料氧化燒蝕測(cè)量裝置。
本發(fā)明的高溫風(fēng)洞中材料氧化燒蝕測(cè)量裝置包括:高溫風(fēng)洞、高光譜相機(jī)、紅外測(cè)溫儀和圖像處理單元;其中,被測(cè)材料置于高溫風(fēng)洞中進(jìn)行高溫?zé)g;高溫風(fēng)洞的側(cè)壁上設(shè)置有密封的透明的觀察窗口;高光譜相機(jī)和紅外測(cè)溫儀通過(guò)同步線連接,并且二者連接至圖像處理單元;高光譜相機(jī)透過(guò)高溫風(fēng)洞側(cè)壁上的觀察窗口對(duì)被測(cè)材料的表面進(jìn)行拍攝,得到高光譜圖像,高光譜圖像包括一系列多張不同光譜波段的被測(cè)材料的圖像,并傳輸至圖像處理單元;紅外測(cè)溫儀透過(guò)觀察窗口對(duì)準(zhǔn)被測(cè)材料的表面,得到被測(cè)材料表面的一個(gè)點(diǎn)的溫度,作為基準(zhǔn)溫度,并傳輸至圖像處理單元;圖像處理單元選取兩張不同光譜波段的被測(cè)材料的圖像,計(jì)算對(duì)應(yīng)的相同點(diǎn)的亮度比色值,基于紅外測(cè)溫儀標(biāo)定的基準(zhǔn)溫度,計(jì)算得到被測(cè)材料表面的全場(chǎng)溫度;圖像處理單元利用被測(cè)材料表面的全場(chǎng)溫度對(duì)高光譜圖像進(jìn)行溫度補(bǔ)償修正,利用溫度補(bǔ)償修正后的被測(cè)材料光譜對(duì)被測(cè)材料表面進(jìn)行化學(xué)成分分析,實(shí)現(xiàn)對(duì)被測(cè)材料燒蝕過(guò)程中氧化實(shí)時(shí)狀況的準(zhǔn)確監(jiān)測(cè)。
高光譜成像技術(shù)是一種將光譜分析與光學(xué)成像技術(shù)結(jié)合的新型成像技術(shù),可通過(guò)物體不同組分對(duì)不同光譜的吸收特性實(shí)現(xiàn)材料組分分析。根據(jù)普朗克輻射定律,隨著物體溫度的升高,其表面熱輻射也隨之增加,而且不同波段的輻射相對(duì)值也發(fā)生變化,所以在高溫下根據(jù)物體的光譜圖像分析化學(xué)組分變化,需要去除溫度變化引起的輻射變化。因此,本發(fā)明利用高光譜圖像定量分析材料化學(xué)組分變化,同步獲取材料表面溫度分布,利用被測(cè)材料表面的全場(chǎng)溫度對(duì)高光譜圖像進(jìn)行溫度補(bǔ)償修正,去除溫度變化引起的輻射變化,實(shí)現(xiàn)對(duì)材料在高溫風(fēng)洞中燒蝕過(guò)程中生成氧化物進(jìn)行準(zhǔn)確實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)。
高溫風(fēng)洞采用燃?xì)怙L(fēng)洞或電弧風(fēng)洞。
高光譜相機(jī)拍攝得到高光譜圖像傳輸至圖像處理單元,高光譜圖像包括一系列多張不同光譜波段的被測(cè)材料的圖像,光譜范圍在400nm~1700nm之間。
本發(fā)明的另一個(gè)目的在于提供一種高溫風(fēng)洞中材料氧化燒蝕的測(cè)量方法。
本發(fā)明的高溫風(fēng)洞中材料氧化燒蝕的測(cè)量方法,包括以下步驟:
1)被測(cè)材料置于高溫風(fēng)洞中,開(kāi)啟高溫風(fēng)洞對(duì)被測(cè)材料進(jìn)行燒蝕;
2)將高光譜相機(jī)透過(guò)高溫風(fēng)洞側(cè)壁上的觀察窗口對(duì)準(zhǔn)被測(cè)材料的表面進(jìn)行拍攝,得到高光譜圖像,高光譜圖像包括一系列多張不同光譜波段的被測(cè)材料的圖像,并傳輸至圖像處理單元;
3)紅外測(cè)溫儀對(duì)準(zhǔn)被測(cè)材料的表面,得到被測(cè)材料表面的一個(gè)點(diǎn)的溫度,作為基準(zhǔn)溫度,并傳輸至圖像處理單元;
4)圖像處理單元選取兩張不同光譜波段的被測(cè)材料的圖像,計(jì)算對(duì)應(yīng)的相同點(diǎn)的亮度比色值,基于紅外測(cè)溫儀標(biāo)定的基準(zhǔn)溫度,計(jì)算得到被測(cè)材料表面的全場(chǎng)溫度;
5)通過(guò)高光譜圖像得到被測(cè)材料光譜,通過(guò)被測(cè)材料表面的全場(chǎng)溫度得到被測(cè)材料的高溫輻射光譜,圖像處理單元利用被測(cè)材料的高溫輻射光譜對(duì)被測(cè)材料光譜進(jìn)行溫度補(bǔ)償修正,利用溫度補(bǔ)償修正后的被測(cè)材料光譜對(duì)被測(cè)材料表面進(jìn)行化學(xué)成分分析,實(shí)現(xiàn)對(duì)被測(cè)材料燒蝕過(guò)程中氧化實(shí)時(shí)狀況的準(zhǔn)確監(jiān)測(cè)。
其中,在步驟4)中,計(jì)算得到被測(cè)材料表面的全場(chǎng)溫度,公式為:
其中,為被測(cè)材料的紅外測(cè)溫儀標(biāo)定點(diǎn)的圖像像素點(diǎn)在兩個(gè)不同光譜波段的亮度比色值,為高光譜相機(jī)的拍攝的被測(cè)材料上一點(diǎn)的圖像像素點(diǎn)在兩個(gè)不同光譜波段的亮度比色值,λ1和λ2分別為選取的兩個(gè)不同光譜波段的被測(cè)物體加熱時(shí)發(fā)射的波長(zhǎng),To為紅外測(cè)溫儀標(biāo)定點(diǎn)溫度,通過(guò)公式逐點(diǎn)遍歷計(jì)算被測(cè)材料的圖像像素點(diǎn),即可得到被測(cè)材料的表面溫度T,獲得被測(cè)材料表面的全場(chǎng)溫度分布。
在步驟5)中,圖像處理單元利用被測(cè)材料的高溫輻射光譜對(duì)被測(cè)材料光譜進(jìn)行溫度補(bǔ)償修正,采用如下公式:
ρ'(λ)=ρ(λ)-ρT(λ)
其中,ρ(λ)為通過(guò)高光譜相機(jī)測(cè)得的被測(cè)材料光譜,ρT(λ)為被測(cè)材料的高溫輻射光譜,ρ'(λ)為進(jìn)行溫度補(bǔ)償修正后的被測(cè)材料光譜,λ為輻射光波長(zhǎng)。
在步驟5)中,利用溫度補(bǔ)償修正后的被測(cè)材料光譜對(duì)被測(cè)材料表面進(jìn)行化學(xué)成分分析具體包括:采用溫度補(bǔ)償修正后的被測(cè)材料光譜,根據(jù)不同化學(xué)組分的材料的光譜特性,與得到的被測(cè)材料光譜進(jìn)行比對(duì),得到被測(cè)材料的化學(xué)組分及隨時(shí)間的變化,分析得到被測(cè)材料的表面氧化情況。
本發(fā)明的優(yōu)點(diǎn):
本發(fā)明采用高光譜相機(jī)拍攝得到被測(cè)材料的高光譜圖像,紅外測(cè)溫儀得到被測(cè)材料表面的一個(gè)基準(zhǔn)溫度;選取兩張不同光譜波段的被測(cè)材料的圖像,計(jì)算對(duì)應(yīng)的相同點(diǎn)的亮度比色值,基于紅外測(cè)溫儀標(biāo)定的基準(zhǔn)溫度,計(jì)算得到被測(cè)材料表面的全場(chǎng)溫度,對(duì)高光譜圖像進(jìn)行溫度補(bǔ)償修正,然后對(duì)被測(cè)材料表面進(jìn)行化學(xué)成分分析,實(shí)現(xiàn)對(duì)被測(cè)材料燒蝕過(guò)程中氧化實(shí)時(shí)狀況的準(zhǔn)確監(jiān)測(cè);本發(fā)明在高溫風(fēng)洞環(huán)境下燒蝕過(guò)程中氧化等化學(xué)組分變化實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè),并且同步得到被測(cè)材料表面的全場(chǎng)溫度分布,再利用高光譜技術(shù)測(cè)量被測(cè)材料氧化時(shí)去除溫度變化帶來(lái)的輻射影響。
附圖說(shuō)明
圖1為本發(fā)明的高溫風(fēng)洞中材料氧化燒蝕測(cè)量裝置的一個(gè)實(shí)施例的示意圖。
具體實(shí)施方式
下面結(jié)合附圖,通過(guò)具體實(shí)施例,進(jìn)一步闡述本發(fā)明。
如圖1所示,本實(shí)施例的高溫風(fēng)洞中材料氧化燒蝕測(cè)量裝置包括:高溫風(fēng)洞1、高光譜相機(jī)3、紅外測(cè)溫儀4和圖像處理單5元;其中,被測(cè)材料6置于高溫風(fēng)洞1中進(jìn)行高溫?zé)g;高溫風(fēng)洞的側(cè)壁上設(shè)置有密封的透明的觀察窗口2;高光譜相機(jī)3和紅外測(cè)溫儀4通過(guò)同步線連接,并且二者連接至圖像處理單元5;高光譜相機(jī)3透過(guò)高溫風(fēng)洞側(cè)壁上的觀察窗口2對(duì)被測(cè)材料6的表面進(jìn)行拍攝;紅外測(cè)溫儀4透過(guò)觀察窗口2對(duì)準(zhǔn)被測(cè)材料6的表面。
在本實(shí)施例中,高溫風(fēng)洞1采用30MW電弧風(fēng)洞,高光譜相機(jī)3光譜范圍在400nm~1700nm之間;被測(cè)材料為C/SiC復(fù)合材料,尺寸為50mm×50mm×10mm。
被測(cè)材料在燒蝕過(guò)程中,發(fā)生氧化等一系列化學(xué)反應(yīng)從而產(chǎn)生化學(xué)組分改變。利用被測(cè)材料的不同組分光譜曲線的差異,采用高光譜相機(jī)來(lái)實(shí)時(shí)探測(cè)被測(cè)材料在燒蝕過(guò)程中氧化生成氧化物的過(guò)程,從而分析得到被測(cè)材料的化學(xué)組分。高光譜成像技術(shù)在從紫外到近紅外的光譜范圍內(nèi),利用高光譜相機(jī)在光譜覆蓋范圍內(nèi)的數(shù)十或數(shù)百條光譜波段對(duì)目標(biāo)物體連續(xù)成像,在獲得被測(cè)材料的空間特征成像同時(shí),也獲得被測(cè)材料的光譜信息。另外,根據(jù)普朗克輻射定律物體向外發(fā)出的熱輻射光強(qiáng)度E:
式(1)中熱輻射光強(qiáng)度E(λ,T)為波長(zhǎng)λ和溫度T的函數(shù),ε(λ,T)為被測(cè)材料的發(fā)射率,C1和C2分別為第一和第二普朗克常數(shù)。式(1)表明物體的輻射光譜隨溫度的變化而改變,所以在利用高光譜成像技術(shù)對(duì)燒蝕材料各組分進(jìn)行探測(cè)時(shí),需要考慮溫度變化對(duì)高光譜成像的影響。在高光譜相機(jī)拍攝得到的各個(gè)光譜波段的圖像中,選擇兩個(gè)光譜波段的圖像,根據(jù)比色法可以得到被測(cè)材料的表面溫度分布:
其中,ε(λR,T)和ε(λG,T)分別為物體紅光波段和綠光波段發(fā)射率,C2為第二輻射常數(shù)C2=1.438833×10-2(m·K),λR為被測(cè)材料加熱時(shí)發(fā)射的紅光波長(zhǎng),λG為被測(cè)材料加熱時(shí)發(fā)射的綠光波長(zhǎng),BRG為高光譜相機(jī)采集的被測(cè)材料上的圖像像素點(diǎn)紅光波段的亮度與綠光波段的亮度比色值,為高光譜相機(jī)可見(jiàn)光譜范圍內(nèi)響應(yīng)函數(shù),AR和AG分別為紅光和綠光的相機(jī)光敏單元輸出電流和圖像灰度值之間的轉(zhuǎn)換系數(shù),UR和UG分別為紅光和綠光的光電轉(zhuǎn)換系數(shù),tR和tG分別為紅光和綠光的曝光時(shí)間,和分別為紅光和綠光的光學(xué)系統(tǒng)的透過(guò)率,AR、AG、UR、UG、tR、tG、和均為常數(shù)。
本發(fā)明基于改進(jìn)的比色法,以紅外測(cè)溫儀測(cè)量被測(cè)材料試件表面一個(gè)點(diǎn)的溫度作為基準(zhǔn)溫度,基于紅外測(cè)溫儀標(biāo)定的基準(zhǔn)溫度,在本實(shí)施例中,選取紅光波段的被測(cè)材料的圖像和綠光波段的被測(cè)材料的圖像計(jì)算亮度比色值,計(jì)算得到被測(cè)材料表面的全場(chǎng)溫度,其測(cè)量公式為:
其中,BRGo為被測(cè)材料上紅外測(cè)溫儀標(biāo)定點(diǎn)的圖像像素點(diǎn)紅光波段的亮度與綠光波段的亮度比色值,To為紅外測(cè)溫儀標(biāo)定的基準(zhǔn)溫度,通過(guò)公式逐點(diǎn)遍歷計(jì)算被測(cè)材料表面圖像像素點(diǎn),即可得到被測(cè)材料的表面溫度T,獲得試件表面全場(chǎng)溫度分布。利用被測(cè)材料表面的全場(chǎng)溫度對(duì)高光譜圖像進(jìn)行溫度補(bǔ)償修正,利用修正后的圖像對(duì)被測(cè)材料表面進(jìn)行化學(xué)成分分析,實(shí)現(xiàn)對(duì)被測(cè)材料燒蝕過(guò)程中氧化實(shí)時(shí)狀況的準(zhǔn)確監(jiān)測(cè)。利用被測(cè)材料的高溫輻射光譜對(duì)被測(cè)材料光譜進(jìn)行溫度補(bǔ)償修正:
ρ'(λ)=ρ(λ)-ρT(λ) (4)
其中,ρ(λ)為高光譜相機(jī)測(cè)得的被測(cè)材料光譜,通過(guò)高光譜圖像得到被測(cè)材料光譜,ρT(λ)為被測(cè)材料的高溫輻射光譜,通過(guò)被測(cè)材料表面的全場(chǎng)溫度得到被測(cè)材料的高溫輻射光譜,ρ'(λ)為進(jìn)行溫度補(bǔ)償修正后的被測(cè)材料光譜,λ為輻射光波長(zhǎng)。根據(jù)不同材料光譜特性,與得到的被測(cè)材料光譜進(jìn)行比對(duì),得到被測(cè)材料的化學(xué)組分及隨時(shí)間的變化。
本實(shí)施例的高溫風(fēng)洞中材料氧化燒蝕的測(cè)量方法,包括以下步驟:
1)被測(cè)材料置于高溫風(fēng)洞中,開(kāi)啟高溫風(fēng)洞對(duì)被測(cè)材料進(jìn)行燒蝕;
2)將高光譜相機(jī)透過(guò)高溫風(fēng)洞側(cè)壁上的觀察窗口對(duì)準(zhǔn)被測(cè)材料的表面進(jìn)行拍攝,得到高光譜圖像,高光譜圖像包括一系列多張不同光譜波段的被測(cè)材料的圖像,并傳輸至圖像處理單元;
3)紅外測(cè)溫儀對(duì)準(zhǔn)被測(cè)材料的表面,得到被測(cè)材料表面的一個(gè)點(diǎn)的溫度,作為基準(zhǔn)溫度,并傳輸至圖像處理單元;
4)圖像處理單元分別選取兩張紅光波段和綠光波段的被測(cè)材料的圖像,計(jì)算對(duì)應(yīng)的相同點(diǎn)的亮度比色值,基于紅外測(cè)溫儀標(biāo)定的基準(zhǔn)溫度,根據(jù)下式計(jì)算得到被測(cè)材料表面的全場(chǎng)溫度:
5)圖像處理單元利用被測(cè)材料的高溫輻射光譜對(duì)被測(cè)材料光譜進(jìn)行溫度補(bǔ)償修正,利用溫度補(bǔ)償修正后的被測(cè)材料光譜對(duì)被測(cè)材料表面進(jìn)行化學(xué)成分分析:
ρ'(λ)=ρ(λ)-ρT(λ)
根據(jù)不同化學(xué)組分的光譜曲線差異,分析得到被測(cè)材料的表面氧化情況,實(shí)現(xiàn)對(duì)被測(cè)材料燒蝕過(guò)程中氧化實(shí)時(shí)狀況的準(zhǔn)確監(jiān)測(cè)。
最后需要注意的是,公布實(shí)施例的目的在于幫助進(jìn)一步理解本發(fā)明,但是本領(lǐng)域的技術(shù)人員可以理解:在不脫離本發(fā)明及所附的權(quán)利要求的精神和范圍內(nèi),各種替換和修改都是可能的。因此,本發(fā)明不應(yīng)局限于實(shí)施例所公開(kāi)的內(nèi)容,本發(fā)明要求保護(hù)的范圍以權(quán)利要求書(shū)界定的范圍為準(zhǔn)。