本實用新型涉及一種定位裝置,尤其是一種激光測距儀的多位置移行機定位裝置,屬于移行機定位的技術領域。
背景技術:
在自動化輸送設備中,移行機是一重要的機構,通過移行機實現物流輸送線路的變換。
一般移行機都是兩位置、三位置或多位置。通常的應用中,移行機的定位都是采用行程開關或接近開關來實現的。但隨著物流輸送線的自動化程度的提高,從而對多位置移行機定位精度要求的提高,傳統的傳感器已不能滿足要求。同時,傳統的傳感器組合,不但安裝、檢修工作量大,而且故障隱含點也多;另外,在多位置的移行機設備中,若采用傳統的行程開關或接近開關的方式,不但傳感器的安裝繁瑣困難,而且大量的傳感器及傳感器發(fā)號器影響設備的整潔度及美觀。
技術實現要素:
本實用新型的目的是克服現有技術中存在的不足,提供一種利用激光測距儀的多位置移行機定位裝置,其結構緊湊,能實現對移行機的移行過程精確有效地定位,安裝使用方便,自動化程度高,安全可靠。
為實現以上技術目的,本實用新型采用的技術方案是:激光測距儀的多位置移行機定位裝置,包括移行機導軌及在移行機導軌上運動的移行機,其特征在于:所述移行機導軌的外側設置有與移行機導軌平行分布的激光測距儀,所述激光測距儀通過PN網絡交換機與控制器掛接,所述移行機上設有與激光測距儀相匹配的反射鏡面和驅動移行機在移行機導軌上運動的移行機驅動機構,所述移行機驅動機構與控制器信號連接。
進一步地,還包括從站模塊,所述從站模塊通過PN總線與PN網絡交換機連接。
進一步地,所述激光測距儀與反射鏡面配合,其定位精度為0.1mm。
進一步地,所述控制器為PLC,所述PLC能直接讀取激光測距儀測量的位置信息以及激光測距儀的工作狀態(tài)。
從以上描述可以看出,本實用新型的技術效果在于:
(1)本實用新型采用激光測距儀和激光測距儀反射鏡面配合,能夠實現對移行機的移行過程精確有效地定位;
(2)控制器讀取激光測距儀測量的位置信息確定移行機的移行狀態(tài),確保移行機工作狀態(tài)的穩(wěn)定性和可靠性;
(3)該定位裝置結構緊湊,安裝使用方便,自動化程度高,且安全可靠。
附圖說明
圖1是本實用新型的結構示意圖。
圖2是本實用新型的控制單元的結構框圖
附圖標記說明:1-移行機、2-移行機驅動機構、3-移行機導軌、4-激光測距儀、5-反射鏡面、6-控制器、7-PN網絡交換機、8-從站模塊。
具體實施方式
下面結合具體附圖和實施例對本實用新型作進一步說明。
根據附圖1和附圖2所示,激光測距儀的多位置移行機定位裝置,包括移行機導軌3及在移行機導軌3上運動的移行機1,其特征在于:所述移行機導軌3的外側設置有與移行機導軌3平行分布的激光測距儀4,所述激光測距儀4通過PN網絡交換機7與控制器6掛接,所述移行機1上設有與激光測距儀4相匹配的反射鏡面5和驅動移行機1在移行機導軌3上運動的移行機驅動機構2,所述移行機驅動機構2與控制器6信號連接。移行機1、移行機導軌3以及移行機驅動機構2的配合形式均為本技術領域人員所熟知,此處不再贅述。
還包括從站模塊8,所述從站模塊8通過PN總線與PN網絡交換機7連接。
所述激光測距儀4與反射鏡面5配合,其定位精度為0.1mm。
所述控制器6包括PLC,控制器6能直接讀取激光測距儀4測量的位置信息以及激光測距儀4的工作狀態(tài)。
本實用新型實施例中,控制器6可以采用常用的微處理設備,控制器6可以選擇西門子S7 3172PN,PN網絡交換機7選用西門子X200系列,掛接在PN網絡上的從站模塊8可以選擇西門子ET200S,激光測距儀4選擇SICK DL100系列,激光測距儀4作為一個遠程設備站,控制器6可直接從分配的地址中讀出其距離值及激光測距儀4的狀態(tài)信息。
本實用新型的工作原理是,移行機1在移行機導軌3上運動時,通過反射鏡面5與激光測距儀4的配合,能確定移行機1的位置。激光測距儀4與反射鏡面5的配合,其定位精度達到0.1mm,能實時精確獲取移行機1的位置,避免移行機1具體位置丟失而無法移動移行機1的情況。將移行機1的位置信息通過PN網絡交換機7傳輸給控制器6,控制器6能根據分配地址直接讀取激光測距儀4測量的位置信息以及激光測距儀4的工作狀態(tài),實現對移行機1的移行過程精確有效地定位,控制器6能根據讀取激光測距儀4測量的位置信息確定移行機1的移行狀態(tài)及控制移行機驅動機構2對驅動移行機1運動,確保移行機1工作狀態(tài)的穩(wěn)定性以及可靠性,該裝置安裝使用方便,自動化程度高,安全可靠。
以上對本實用新型及其實施方式進行了描述,該描述沒有限制性,附圖中所示的也只是本實用新型的實施方式之一,實際的結構并不局限于此。如果本領域的普通技術人員受其啟示,在不脫離本實用新型創(chuàng)造宗旨的情況下,不經創(chuàng)造性的設計出與該技術方案相似的結構方式及實施例,均應屬于本實用新型的保護范圍。