技術(shù)特征：

技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明提供了一種測量痕量金屬離子濃度的方法和裝置，該方法包括：S1，根據(jù)包含痕量金屬離子的溶液在全波段的吸光度，使用預(yù)測均方根誤差獲取所述全波段內(nèi)的最優(yōu)波長區(qū)間；S2，通過相關(guān)系數(shù)法獲取所述最優(yōu)波長區(qū)間內(nèi)測量所述痕量金屬離子濃度的有效波長點(diǎn)。通過采用間隔?相關(guān)系數(shù)偏最小二乘法，快速高效地去除高濃度基體離子的敏感區(qū)域和空白信息區(qū)域，剔除非線性強(qiáng)、信息量少、被基體離子掩蔽的波長點(diǎn)，最大程度地保留痕量待測離子完整可用的信息，減小高濃度基體離子對痕量待測離子的干擾，同時保持待測離子的靈敏度，減少變量個數(shù)，提高模型的精度和實(shí)時性。

技術(shù)研發(fā)人員：陽春華;龔娟;吳書君;朱紅求;李勇剛;陳俊名
受保護(hù)的技術(shù)使用者：中南大學(xué)
技術(shù)研發(fā)日：2017.03.27
技術(shù)公布日：2017.07.04