本發(fā)明涉及一種光學(xué)系統(tǒng)標(biāo)校用圖像靶標(biāo)，特別是涉及一種適用于光學(xué)測量系統(tǒng)的外標(biāo)校用靶標(biāo)及其使用方法。

背景技術(shù)：

隨著科技和裝備制造能力的提高，具有大平面或大曲面的裝備得到快速的發(fā)展，如大飛機(jī)、航空母艦和大型相控陣?yán)走_(dá)等。這些大平面和大曲面裝備在風(fēng)阻、海浪等外界條件下的物理變形不可避免地影響著裝備設(shè)計。為測量出大面積裝備在外載荷條件下的形變，分析出該裝備的受力情況，為裝備設(shè)計提供實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)支撐，從而優(yōu)化設(shè)計。一種光學(xué)測量系統(tǒng)-全視角高精度三維測量儀采用高速高分辨率線陣相機(jī)和掃描擺鏡(包括平面反射鏡和高精度轉(zhuǎn)臺)實(shí)現(xiàn)大視場掃描，通過數(shù)據(jù)處理可以得出靶標(biāo)的三維坐標(biāo)值，進(jìn)而完成控制點(diǎn)的測量，其中靶標(biāo)是關(guān)鍵部件，然而現(xiàn)有的靶標(biāo)中心定位點(diǎn)采用反光材料制作，通過光學(xué)測量系統(tǒng)掃描定位點(diǎn)來確定靶標(biāo)編號，這種靶標(biāo)安裝精確度較差，且不易被光學(xué)測量系統(tǒng)識別。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本發(fā)明的目的是為了解決現(xiàn)有技術(shù)中靶標(biāo)安裝精確度較差，且不易被光學(xué)測量系統(tǒng)識別的缺陷，提供一種適用于光學(xué)測量系統(tǒng)的外標(biāo)校用靶標(biāo)來解決上述問題。

為了實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明的技術(shù)方案如下：

一種適用于光學(xué)測量系統(tǒng)的外標(biāo)校用靶標(biāo)，包括靶標(biāo)基體；在所述標(biāo)靶基體上設(shè)置有錐窩、標(biāo)示圖、標(biāo)示圖定位孔；所述標(biāo)示圖設(shè)置在靶標(biāo)基體正中，以標(biāo)識圖定位孔為中心定位點(diǎn)；激光跟蹤儀靶球放置在錐窩內(nèi)。

優(yōu)選的，在所述基體上設(shè)置有4個錐窩，并相對標(biāo)示圖定位孔對稱設(shè)置在基體的四周。

優(yōu)選的，所述錐窩的開口為90°。

優(yōu)選的，在所述基體的各邊沿還均布有安裝孔(6)，用于靶標(biāo)的安裝固定。

本發(fā)明還提供一種適用于光學(xué)測量系統(tǒng)的外標(biāo)校用靶標(biāo)的使用方法，所述靶標(biāo)為上述的靶標(biāo)；使用方法包括以下步驟：

采用精密儀器精確測量出靶標(biāo)上各錐窩中心點(diǎn)A1、A2、A3、A4的坐標(biāo)值(x1,y1,z1)、(x2,y2,z2)、(x3,y3,z3)和(x4,y4,z4)，再根據(jù)下式推算獲得靶標(biāo)上標(biāo)示圖中心點(diǎn)的空間坐標(biāo)值(x,y,z)：

x＝(x1+x2+x3+x4)/4

y＝(y1+y2+y3+y4)/4

z＝(z1+z2+z3+z4)/4

將得到的靶標(biāo)坐標(biāo)值輸入至全視角高精度三維測量儀系統(tǒng)中，通過空間交會測量原理進(jìn)行三維坐標(biāo)解算，得到一系列靶標(biāo)測量點(diǎn)相對測量儀的坐標(biāo)值，從而完成大面積裝備上控制點(diǎn)的測量。

本發(fā)明與現(xiàn)有技術(shù)相比，具有以下有益效果：

本發(fā)明外標(biāo)校用靶標(biāo)可以更加精確地安裝在被測裝備上；在使用本發(fā)明時，可以通過精確測量出靶標(biāo)上各錐窩中心點(diǎn)的坐標(biāo)值，再推算獲得靶標(biāo)上標(biāo)示圖中心點(diǎn)的空間坐標(biāo)，識別準(zhǔn)確性高。本發(fā)明設(shè)計新穎，系統(tǒng)使用方便，便于推廣使用。

附圖說明

圖1為本發(fā)明實(shí)施例1的軸側(cè)結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2為本發(fā)明實(shí)施例1的豎向剖面結(jié)構(gòu)示意圖；

圖3為本發(fā)明實(shí)施例1的俯視結(jié)構(gòu)示意圖。

其中：

1-靶標(biāo)基體、2-90度錐窩、3-標(biāo)識圖

4-激光跟蹤儀靶球、5-標(biāo)示圖定位孔、6-安裝孔

具體實(shí)施方式

為使對本發(fā)明的結(jié)構(gòu)特征及所達(dá)成的功效有更進(jìn)一步的了解與認(rèn)識，用以較佳的實(shí)施例及附圖配合詳細(xì)的說明，說明如下：

實(shí)施例1

如圖1、圖2、圖3所示，一種適用于光學(xué)測量系統(tǒng)的外標(biāo)校用靶標(biāo)，包括靶標(biāo)基體1；本實(shí)施例提供的基體1為方形板狀結(jié)構(gòu)，在標(biāo)靶基體1的四個拐角處上設(shè)置有錐窩2，4個錐窩2相對標(biāo)示圖定位孔對稱，錐窩2的開口為90°，激光跟蹤儀靶球4放置在錐窩2內(nèi)。在基體1上還設(shè)置有標(biāo)示圖3、標(biāo)示圖定位孔5；標(biāo)示圖3設(shè)置在靶標(biāo)基體1正中，以標(biāo)識圖定位孔5為中心定位點(diǎn)。在基體1的各邊沿還均布有安裝孔6，用于靶標(biāo)的安裝固定。

實(shí)施例2

一種適用于光學(xué)測量系統(tǒng)的外標(biāo)校用靶標(biāo)的使用方法，包括以下步驟：

采用精密儀器精確測量出靶標(biāo)上各錐窩中心點(diǎn)A1、A2、A3、A4的坐標(biāo)值x1,y1,z1、x2,y2,z2、x3,y3,z3和x4,y4,z4，再根據(jù)下式推算獲得靶標(biāo)上標(biāo)示圖中心點(diǎn)的空間坐標(biāo)值(x,y,z)：

x＝(x1+x2+x3+x4)/4

y＝(y1+y2+y3+y4)/4

z＝(z1+z2+z3+z4)/4

將得到的靶標(biāo)坐標(biāo)值輸入至全視角高精度三維測量儀系統(tǒng)中，通過空間交會測量原理進(jìn)行三維坐標(biāo)解算，得到一系列靶標(biāo)測量點(diǎn)相對測量儀的坐標(biāo)值，從而完成大面積裝備上控制點(diǎn)的測量。

本發(fā)明提供一種適用于光學(xué)測量系統(tǒng)的外標(biāo)校用靶標(biāo)，通過安裝孔來精確定位靶標(biāo)位置，通過測量放置在90度錐窩中的激光跟蹤儀靶球來推算出靶標(biāo)中心點(diǎn)相對坐標(biāo)值，在使用該靶標(biāo)標(biāo)校光學(xué)測量系統(tǒng)時，方便快捷，且準(zhǔn)確度高?？刹捎镁軆x器如高精度激光跟蹤儀精確測量出靶標(biāo)上各錐窩中心點(diǎn)的坐標(biāo)值，再推算獲得靶標(biāo)上標(biāo)示圖中心點(diǎn)的相對坐標(biāo)值，將靶標(biāo)的坐標(biāo)值輸入至全視角高精度三維測量儀系統(tǒng)中，通過空間交會測量原理進(jìn)行三維坐標(biāo)解算，得到一系列靶標(biāo)測量點(diǎn)相對測量儀的坐標(biāo)值，從而完成大面積裝備上控制點(diǎn)的測量。

以上顯示和描述了本發(fā)明的基本原理、主要特征和本發(fā)明的優(yōu)點(diǎn)。本行業(yè)的技術(shù)人員應(yīng)該了解，本發(fā)明不受上述實(shí)施例的限制，上述實(shí)施例和說明書中描述的只是本發(fā)明的原理，在不脫離本發(fā)明精神和范圍的前提下本發(fā)明還會有各種變化和改進(jìn)，這些變化和改進(jìn)都落入要求保護(hù)的本發(fā)明的范圍內(nèi)。本發(fā)明要求的保護(hù)范圍由所附的權(quán)利要求書及其等同物界定。