技術(shù)特征：

1.一種基于光譜干涉裝置的測(cè)量方法，其特征在于：

(1)打開(kāi)光源(101)，旋轉(zhuǎn)起偏器(103)調(diào)整夾角θ，觀察光譜儀接收到的光譜條紋，使其干涉對(duì)比度最佳，獲得最佳干涉條紋，干涉條紋為：

$I\left(\mathrm{\ω}\right)=I_0\left(\mathrm{\ω}\right)+2\sqrt{{\sin }^2\mathrm{\θ}-{\sin }^4\mathrm{\θ}}{I}_0\left(\mathrm{\ω}\right)cos\[\mathrm{\φ}\left(\mathrm{\ω}\right)\];$

(2)使用光譜儀采集步驟(1)所述最佳光譜干涉條紋，數(shù)據(jù)處理單元(108)對(duì)步驟(1)中最佳干涉條紋進(jìn)行傅里葉變換，得到交流項(xiàng)及直流項(xiàng)；

(3)根據(jù)步驟(2)交流項(xiàng)及直流項(xiàng)的時(shí)間間隔，計(jì)算出待測(cè)雙折射晶體(104)的延遲量t；

(4)根據(jù)步驟(3)所述延遲量t及待測(cè)雙折射晶體(104)的折射率n，計(jì)算出待測(cè)雙折射晶體(104)的厚度h：

h＝ct/n；

測(cè)試靈敏度d為：

$d=\frac{{\mathrm{\λ}}_0^2}{\mathrm{\Δ}\mathrm{\λ}};$

其中，λ₀為光源的中心波長(zhǎng)，Δλ為光源譜寬，c為光速，t為待測(cè)雙折射晶體(104)的延遲量。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于光譜干涉裝置的測(cè)量系統(tǒng)的使用方法，其特征在于：所述步驟(2)中傅里葉變換為快速傅里葉變換。