本發(fā)明涉及一種地質(zhì)測繪儀的角位移復(fù)位裝置。
背景技術(shù):
地質(zhì)測繪是為進(jìn)行地質(zhì)調(diào)查和礦產(chǎn)勘查及其成果圖件的編制所涉及的全部測繪工作的總稱。主要包括地質(zhì)點(diǎn)測量、地質(zhì)剖面測量、物化探測量、礦區(qū)控制測量、礦區(qū)地形測量、勘探網(wǎng)布測、勘探工程定位測量、坑探工程測量、井探工程測量、貫通測量、露天礦測、地質(zhì)剖面測量、地表移動(dòng)觀測以及有關(guān)圖件的繪制、坑探工程測量、坑探工程測量、印制和地質(zhì)礦產(chǎn)信息系統(tǒng)的建立。而工程地質(zhì)測繪是工程地質(zhì)勘察中一項(xiàng)最重要最基本的勘察方法,也是諸勘察工作中走在前面的一項(xiàng)勘察工作。它是運(yùn)用地質(zhì)、工程地質(zhì)理論對與工程建設(shè)有關(guān)的各種地質(zhì)現(xiàn)象進(jìn)行詳細(xì)觀察和描述,以查明擬定建筑區(qū)內(nèi)工程地質(zhì)條件的空間分布和各要素之間的內(nèi)在聯(lián)系,并按照精度要求將它們?nèi)鐚?shí)地反映在一定比例尺的地形設(shè)計(jì)圖上。配合工程地質(zhì)勘探、試驗(yàn)等所取得的資料編制成工程地質(zhì)圖。在切割強(qiáng)烈的基巖裸露山區(qū),很好地進(jìn)行工程地質(zhì)測繪,就有可能較全面地闡明該區(qū)的工程地質(zhì)條件,得到巖土工程地質(zhì)性質(zhì)的形成和空間變化的初步概念,判明物理地質(zhì)現(xiàn)象和工程地質(zhì)現(xiàn)象的空間分布、形成條件和發(fā)育規(guī)律。即使在為第四系覆蓋的平原區(qū),工程地質(zhì)測繪也仍然有著不可忽視的作用,只不過這時(shí)的測繪工作重點(diǎn)應(yīng)放在研究地貌和松軟土上。由于工程地質(zhì)測繪能夠在較短時(shí)間內(nèi)查明廣大地區(qū)的工程地質(zhì)條件而費(fèi)資不多,在區(qū)域性預(yù)測和對比評價(jià)中能夠發(fā)揮重大作用,在其它工作配合下能夠順利地解決建筑區(qū)的選擇和建筑物的合理配置等問題。
因此地質(zhì)測繪會使用到多種儀器,但是這些儀器都存在著一個(gè)使用校準(zhǔn)的問題,尤其是對角位移的偏量每次使用的誤差均比較大,目前來講,都是采用人工修正或者采用計(jì)算值補(bǔ)差的方式進(jìn)行復(fù)位,這兩種方式都是費(fèi)時(shí)費(fèi)力的。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:
本發(fā)明的目的是提供一種地質(zhì)測繪儀的角位移復(fù)位裝置。
本發(fā)明解決其上述的技術(shù)問題所采用以下的技術(shù)方案:一種地質(zhì)測繪儀的角位移復(fù)位裝置,其主要構(gòu)造有:轉(zhuǎn)軸棒、校位盤、上角位盤、下角位盤、軸位孔、弧道、v形支架、軸穿孔、架槽、套環(huán)、銷釘、連桿、卡槽、孔位、套帽、電子游標(biāo)卡尺、尺桿、固定件、彈簧座,所述的v形支架中心位置開有軸穿孔,軸穿孔內(nèi)嵌有套環(huán),在v形支架內(nèi)凹處設(shè)有架槽;
所述的上角位盤、下角位盤內(nèi)均開有軸位孔,在上角位盤、下角位盤的弧形邊內(nèi)側(cè)均開有弧道;
所述的v形支架上設(shè)有上角位盤,v形支架下設(shè)有下角位盤,并且上角位盤、v形支架、下角位盤三者依次被轉(zhuǎn)軸棒所貫通,所述的轉(zhuǎn)軸棒底部套接有校位盤;
所述的連桿一端設(shè)有螺紋,另外一端開有卡槽,卡槽與架槽相插合;所述的卡槽上開有孔位,孔位外套有套帽,所述的銷釘依次貫通上角位盤的弧道、孔位、套帽、下角位盤的弧道;
所述的連桿一端設(shè)有的螺紋與電子游標(biāo)卡尺的尺桿相擰接;所述的電子游標(biāo)卡尺底端兩側(cè)均通過彈簧座與v形支架兩端相拉結(jié);
所述的電子游標(biāo)卡尺頂端固定有固定件。
進(jìn)一步地,所述的校位盤上下表面一圈上均設(shè)有弧度刻度標(biāo)識。
進(jìn)一步地,所述的上角位盤、下角位盤構(gòu)造及尺寸相同。
進(jìn)一步地,所述的上角位盤、下角位盤的弧道上均設(shè)有弧度刻度標(biāo)識。
進(jìn)一步地,所述的軸穿孔與套環(huán)之間灌注有潤滑油。
進(jìn)一步地,所述的上角位盤、下角位盤的軸位孔內(nèi)設(shè)有卡住轉(zhuǎn)軸棒的螺母件。
進(jìn)一步地,所述的尺桿的測量長度范圍內(nèi)2.3-5.5厘米。
進(jìn)一步地,所述的校位盤上擱置有氣泡水準(zhǔn)器。
進(jìn)一步地,所述的轉(zhuǎn)軸棒上端套接有角位移測量設(shè)備。
進(jìn)一步地,所述的固定件固定于角位移測量設(shè)備的參考腳架上。
本發(fā)明的有益效果:采用電子游標(biāo)卡尺組合本套結(jié)構(gòu)設(shè)施,實(shí)現(xiàn)了一個(gè)自動(dòng)修復(fù)角位移的機(jī)制,從而解決了測繪設(shè)備每次使用后都需要人為修正的問題。此外本產(chǎn)品設(shè)計(jì)結(jié)構(gòu)簡單,但是配件的集成度高,因此耐用性強(qiáng)且穩(wěn)定可靠。
附圖說明
圖1為本發(fā)明一種地質(zhì)測繪儀的角位移復(fù)位裝置整體結(jié)構(gòu)圖。
圖2為本發(fā)明一種地質(zhì)測繪儀的角位移復(fù)位裝置核心件整體結(jié)構(gòu)圖。
圖3為本發(fā)明一種地質(zhì)測繪儀的角位移復(fù)位裝置核心件爆炸結(jié)構(gòu)圖。
圖中1-轉(zhuǎn)軸棒,2-校位盤,3-上角位盤,4-下角位盤,41-軸位孔,42-弧道,5-v形支架,51-軸穿孔,52-架槽,6-套環(huán),7-銷釘,8-連桿,81-卡槽,82-孔位,9-套帽,10-電子游標(biāo)卡尺,101-尺桿,11-固定件,12-彈簧座。
具體實(shí)施方式
下面結(jié)合附圖1-3對本發(fā)明的具體實(shí)施方式做一個(gè)詳細(xì)的說明。
實(shí)施例:一種地質(zhì)測繪儀的角位移復(fù)位裝置,其主要構(gòu)造有:轉(zhuǎn)軸棒1、校位盤2、上角位盤3、下角位盤4、軸位孔41、弧道42、v形支架5、軸穿孔51、架槽52、套環(huán)6、銷釘7、連桿8、卡槽81、孔位82、套帽9、電子游標(biāo)卡尺10、尺桿101、固定件11、彈簧座12,所述的v形支架5中心位置開有軸穿孔51,軸穿孔51內(nèi)嵌有套環(huán)6,在v形支架5內(nèi)凹處設(shè)有架槽52;
所述的上角位盤3、下角位盤4內(nèi)均開有軸位孔41,在上角位盤3、下角位盤4的弧形邊內(nèi)側(cè)均開有弧道42;
所述的v形支架5上設(shè)有上角位盤3,v形支架5下設(shè)有下角位盤4,并且上角位盤3、v形支架5、下角位盤4三者依次被轉(zhuǎn)軸棒1所貫通,所述的轉(zhuǎn)軸棒1底部套接有校位盤2;
所述的連桿8一端設(shè)有螺紋,另外一端開有卡槽81,卡槽81與架槽52相插合;所述的卡槽81上開有孔位82,孔位82外套有套帽9,所述的銷釘7依次貫通上角位盤3的弧道42、孔位82、套帽9、下角位盤4的弧道42;
所述的連桿8一端設(shè)有的螺紋與電子游標(biāo)卡尺10的尺桿101相擰接;所述的電子游標(biāo)卡尺10底端兩側(cè)均通過彈簧座12與v形支架5兩端相拉結(jié);
所述的電子游標(biāo)卡尺10頂端固定有固定件11。
所述的校位盤2上下表面一圈上均設(shè)有弧度刻度標(biāo)識。
所述的上角位盤3、下角位盤4構(gòu)造及尺寸相同。
所述的上角位盤3、下角位盤4的弧道42上均設(shè)有弧度刻度標(biāo)識。
所述的軸穿孔51與套環(huán)6之間灌注有潤滑油。
所述的上角位盤3、下角位盤4的軸位孔41內(nèi)設(shè)有卡住轉(zhuǎn)軸棒1的螺母件。
所述的尺桿101的測量長度范圍內(nèi)2.3-5.5厘米。
所述的校位盤2上擱置有氣泡水準(zhǔn)器。
所述的轉(zhuǎn)軸棒1上端套接有角位移測量設(shè)備。
所述的固定件11固定于角位移測量設(shè)備的參考腳架上。
本發(fā)明結(jié)構(gòu)簡單,其原理是:當(dāng)擱置于轉(zhuǎn)軸棒1上的角位移測量設(shè)備轉(zhuǎn)動(dòng)時(shí),其上角位盤3、下角位盤4會跟著轉(zhuǎn)動(dòng),由于在上角位盤3、下角位盤4上均設(shè)有弧道42,因此其卡于弧道42內(nèi)的尺桿101會隨著弧道42被拉出,這個(gè)過程中電子游標(biāo)卡尺10會記錄相關(guān)的數(shù)據(jù)。當(dāng)擱置于轉(zhuǎn)軸棒1上的角位移測量設(shè)備轉(zhuǎn)動(dòng)完成,需要復(fù)位時(shí),其當(dāng)轉(zhuǎn)軸棒1恢復(fù)當(dāng)原位時(shí),如果電子游標(biāo)卡尺10電子讀數(shù)為零,說明復(fù)位成功無誤,不然進(jìn)行調(diào)整即可,一般來講由于彈簧座12的定型作用,在本套設(shè)備下,復(fù)位后準(zhǔn)確率高達(dá)99.3%,基本上不需要復(fù)位。
以上顯示和描述了本發(fā)明的基本原理、主要特征和本發(fā)明的優(yōu)點(diǎn)。本行業(yè)的技術(shù)人員應(yīng)該了解,本發(fā)明不受上述實(shí)施例的限制,上述實(shí)施例和說明書中描述的只是說明本發(fā)明的原理,在不脫離本發(fā)明精神和范圍的前提下,本發(fā)明還會有各種變化和改進(jìn),這些變化和改進(jìn)都落入要求保護(hù)的本發(fā)明范圍內(nèi)。本發(fā)明要求保護(hù)范圍由所附的權(quán)利要求書及其等效物界定。