本發(fā)明涉及一種釹鐵硼磁體或半成品的制備方法。更具體地說，本發(fā)明涉及一種釹鐵硼金相的制備方法。

背景技術(shù)：

在燒結(jié)釹鐵硼生產(chǎn)和研究中，控制磁體或甩帶片的金相組織至關(guān)重要。因此制備金相是一項(xiàng)常見的操作。通常的金相制備過程為：1)對(duì)尺寸較大的樣品，一般用激光切割機(jī)制備10mm*10mm*10mm的立方體，并用金相砂紙打磨、拋光膏拋光。2)對(duì)尺寸較小或形狀不規(guī)則的樣品，打磨拋光過程較為困難，一般對(duì)樣品進(jìn)行鑲樣，鑲樣后再進(jìn)行打磨拋光。對(duì)于甩帶片，其厚度很薄，且材料較脆，觀察厚度方向的截面金相需要進(jìn)行鑲樣，對(duì)于甩帶片的自由面和貼輥面的金相，也是如此。對(duì)于紐扣狀的成品片，其厚度約為3mm，直徑約為8mm，通常的做法也是鑲樣處理。

對(duì)于厚度很薄的紐扣狀或環(huán)形成品片以及甩帶片的金相制備，鑲樣處理存在的問題是：1)增加測(cè)試成本。首先需要消耗價(jià)格昂貴的鑲嵌粉，且這些鑲嵌粉使用后不能回收，其次對(duì)于熱鑲樣，需要專門的鑲樣機(jī)。2)制樣耗時(shí)長(zhǎng)，對(duì)于熱鑲樣，整個(gè)鑲樣過程需要1.5-2h。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本發(fā)明的一個(gè)目的是解決至少上述問題，并提供至少后面將說明的優(yōu)點(diǎn)。

本發(fā)明還有一個(gè)目的是提供一種釹鐵硼金相的制備方法，其能夠簡(jiǎn)化厚度小于4mm的紐扣狀或環(huán)形成品片以及甩帶片的金相制備過程。合理利用釹鐵硼測(cè)試產(chǎn)生的邊角料，降低輔料成本。

為了實(shí)現(xiàn)根據(jù)本發(fā)明的這些目的和其它優(yōu)點(diǎn)，提供了一種釹鐵硼金相的制備方法，其特征在于，包括：將待觀察樣品固定基座上進(jìn)行打磨和拋光，所述基座由釹鐵硼磁體測(cè)試產(chǎn)生的邊角料制成。

優(yōu)選的是，所述基座選取直徑為8-12mm，高度為8-15mm的樣柱或邊角料。

優(yōu)選的是，所述釹鐵硼金相的制備方法還包括：用除油劑清洗基座，并烘干備用；之后對(duì)所述基座進(jìn)行退磁處理，退磁溫度為380℃，退磁時(shí)間為1h。

優(yōu)選的是，所述釹鐵硼金相的制備方法還包括：樣品預(yù)處理，具體為：將樣品進(jìn)行退磁處理，退磁溫度為380℃，退磁時(shí)間為1h；之后剪裁樣品，使其磨削面尺寸基本與基座的截面相同。

優(yōu)選的是，所述釹鐵硼金相的制備方法還包括：裁剪后樣品的待磨削面的背面涂抹502膠水，并快速粘貼在基座的中心，晾干備用。粘貼樣品的基座放在通風(fēng)處晾30-60s，直至膠水凝固。

優(yōu)選的是，所述打磨具體為：1)將樣品輕微傾斜，使樣品的銳利角部與旋轉(zhuǎn)的400目砂紙接觸；

2)分別用400目砂紙、800目砂紙、1200目砂紙和2000目砂紙對(duì)樣品進(jìn)行打磨，直至樣品表面看不到劃痕。每換下一號(hào)砂紙，樣品的打磨方向要旋轉(zhuǎn)90°，以便去除上一號(hào)砂紙留下的劃痕。

優(yōu)選的是，所述釹鐵硼金相的制備方法還包括：用酒精棉對(duì)拋光后的樣品表面進(jìn)行清洗，清洗后用烘干機(jī)或電吹風(fēng)將樣品烘干備用。

優(yōu)選的是，所述釹鐵硼金相的制備方法還包括：將拋光后的樣品表面浸入3％的硝酸酒精中進(jìn)行腐蝕，腐蝕時(shí)間為1-3s，然后快速取出樣品。

優(yōu)選的是，所述樣品的厚度小于4mm。

優(yōu)選的是，所述磨削面的面積不小于所述基座截面積的三分之二。

優(yōu)選的是，本發(fā)明主要用于簡(jiǎn)化厚度小于4mm的釹鐵硼磁體以及甩帶片的金相制備過程，具體步驟為：

1)選取基座。選取直徑為8-12mm，高度為8-15mm的樣柱或邊角料，作為制備金相的基座；

2)清洗基座。用除油劑清洗基座，并烘干備用。

3)退磁處理。如果基座有磁，需要進(jìn)行退磁處理，其工藝為退磁溫度為380℃，退磁時(shí)間為1h；

4)樣品預(yù)處理。如果待觀察金相的樣品有磁，則需要進(jìn)行退磁處理，其工藝為退磁溫度為380℃，退磁時(shí)間為1h；待觀察的樣品厚度小于4mm。

5)樣品裁剪。根據(jù)基座的大小，裁剪樣品，使樣品的磨削面尺寸基本與基座的截面相同。

6)粘膠。將裁剪后樣品的待磨削面的背面涂抹502膠水，并快速粘貼在基座的中心。

7)晾干。將粘貼樣品的基座放在通風(fēng)處晾30-60s，直至膠水凝固。

8)砂紙打磨。該步驟可細(xì)分為以下幾個(gè)子步驟。

(1)倒角去毛刺。對(duì)于角部較銳利的樣品，需要進(jìn)行倒角，具體為：將樣品輕微傾斜，使樣品的銳利角部與旋轉(zhuǎn)的400目砂紙接觸。

(2)打磨。分別用400目砂紙、800目砂紙、1200目砂紙和2000目砂紙對(duì)樣品進(jìn)行打磨。直至樣品表面看不到劃痕。

9)拋光。用拋光膏和拋光布對(duì)樣品進(jìn)行拋光，直至樣品表面呈明亮的鏡面。

10)清洗烘干。用酒精棉對(duì)拋光后的樣品表面進(jìn)行清洗，清洗后用烘干機(jī)或電吹風(fēng)將樣品烘干備用。

11)腐蝕。將拋光的樣品表面浸入3％的硝酸酒精中進(jìn)行腐蝕，腐蝕時(shí)間為1-3s。然后快速取出樣品。

12)清洗烘干。用酒精或去離子水對(duì)腐蝕后的樣品表面進(jìn)行清洗，然后烘干。

13)金相觀察。將樣品放置在光學(xué)顯微鏡或電子顯微鏡的物鏡下觀察金相和組織結(jié)構(gòu)。

本發(fā)明至少包括以下有益效果：實(shí)際生產(chǎn)中，發(fā)現(xiàn)釹鐵硼磁性能測(cè)試的過程中會(huì)產(chǎn)生大量的測(cè)試樣柱和邊角料，其高度約為8-20mm，直徑為8-12mm。這些樣柱和邊角料形狀很規(guī)則，且表面非常光滑，在測(cè)試完成后，都作為廢料進(jìn)行回收。本發(fā)明所述釹鐵硼金相的制備方法利用這些樣柱和邊角料從而簡(jiǎn)化了釹鐵硼金相制備過程。對(duì)于厚度較小的樣品，傳統(tǒng)的熱鑲樣過程耗時(shí)為1.5-2h，本方法的制樣過程只需5-10min。對(duì)于傳統(tǒng)的鑲樣方法，每一個(gè)樣品都需要鑲樣，需要消耗大量的電木粉，且測(cè)試完成后這些電木粉不能回收再利用。而本發(fā)明所述釹鐵硼金相的制備方法中制樣過程不需要鑲樣，只需少量的膠水。同時(shí)基座采用磁性能測(cè)試所產(chǎn)生的廢料，實(shí)現(xiàn)了變廢為寶的效果，大大降低制樣成本。傳統(tǒng)鑲樣處理的輔料不能回收，而本發(fā)明所述釹鐵硼金相所用基座回收方便快捷。測(cè)試后的、沾有樣品的基座經(jīng)熱水簡(jiǎn)單處理，就可以實(shí)現(xiàn)樣品和基座的分離，從而實(shí)現(xiàn)基座的重復(fù)利用。

本發(fā)明的其它優(yōu)點(diǎn)、目標(biāo)和特征將部分通過下面的說明體現(xiàn)，部分還將通過對(duì)本發(fā)明的研究和實(shí)踐而為本領(lǐng)域的技術(shù)人員所理解。

附圖說明

圖1為本發(fā)明所述釹鐵硼金相的制備方法中制備好的甩帶片樣品的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2為本發(fā)明其中一個(gè)實(shí)施例所述釹鐵硼金相的制備方法中制備好的紐扣狀磁體樣品的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖3為本發(fā)明其中一個(gè)實(shí)施例所述釹鐵硼金相的制備方法中制備好的圓環(huán)形磁體樣品的結(jié)構(gòu)示意圖。

具體實(shí)施方式

下面結(jié)合附圖對(duì)本發(fā)明做進(jìn)一步的詳細(xì)說明，以令本領(lǐng)域技術(shù)人員參照說明書文字能夠據(jù)以實(shí)施。

應(yīng)當(dāng)理解，本文所使用的諸如“具有”、“包含”以及“包括”術(shù)語并不排除一個(gè)或多個(gè)其它元件或其組合的存在或添加。

實(shí)施例1

如圖1所示，待觀察樣品1是厚度為0.35mm的甩帶片自由面(與厚度方向垂直的平面)進(jìn)行金相觀察，本發(fā)明提供一種釹鐵硼金相的制備方法，包括：以下步驟：

1)選取基座2。選取直徑為10mm，高度為10mm的不帶磁樣柱或邊角料，作為制備金相的基座；

2)清洗基座2。用除油劑清洗基座2，并烘干備用。

3)樣品1裁剪。根據(jù)基座2的大小，裁剪甩帶樣品1，使樣品1的磨削面尺寸基本與基座的截面相同。

4)粘膠。將裁剪后樣品1的待磨削面的背面涂抹502膠水，并快速粘貼在基座2的中心。

5)晾干。將粘貼樣品1的基座2放在通風(fēng)處晾30s，直至膠水凝固。

6)砂紙打磨。該步驟可細(xì)分為以下幾個(gè)子步驟。

(1)倒角去毛刺。對(duì)甩帶樣品進(jìn)行倒角，具體為：將樣品輕微傾斜，使樣品的銳利角部與旋轉(zhuǎn)的400目砂紙接觸。

(2)打磨。分別用400目砂紙、800目砂紙、1200目砂紙和2000目砂紙對(duì)樣品進(jìn)行打磨。直至樣品表面看不到劃痕。

7)拋光。用拋光膏和拋光布對(duì)樣品進(jìn)行拋光，直至樣品表面呈明亮的鏡面。

8)清洗烘干。用酒精棉對(duì)拋光后的樣品表面進(jìn)行清洗，清洗后用烘干機(jī)或電吹風(fēng)將樣品烘干備用。

9)腐蝕。將拋光的樣品表面浸入3％的硝酸酒精中進(jìn)行腐蝕，腐蝕時(shí)間為1s。然后快速取出樣品。

10)清洗烘干。用酒精或去離子水對(duì)腐蝕后的樣品表面進(jìn)行清洗，然后烘干。

11)金相觀察。將樣品放置在光學(xué)顯微鏡或電子顯微鏡的物鏡下觀察金相和組織結(jié)構(gòu)。

實(shí)施例2

如圖2所示，本發(fā)明所述待觀察金相的樣品1為帶磁的紐扣狀成品片，其尺寸為本發(fā)明所述釹鐵硼金相的制備方法，包括：以下步驟：

1)選取基座2。選取直徑為12mm，高度為15mm的樣柱或邊角料(帶磁)，作為制備金相的基座；

2)清洗基座2。用除油劑清洗基座2，并烘干備用。

3)退磁處理。對(duì)基座2進(jìn)行退磁處理，其工藝為退磁溫度為380℃，退磁時(shí)間為1h；

4)樣品1預(yù)處理。對(duì)樣品1進(jìn)行退磁處理，其工藝為退磁溫度為380℃，退磁時(shí)間為1h；

5)粘膠。將樣品1的待磨削面的背面涂抹502膠水，并快速粘貼在基座的中心。

6)晾干。將粘貼樣品1的基座2放在通風(fēng)處晾60s，直至膠水凝固。

7)砂紙打磨。分別用400目砂紙、800目砂紙、1200目砂紙和2000目砂紙對(duì)樣品進(jìn)行打磨。直至樣品表面看不到劃痕。

8)拋光。用拋光膏和拋光布對(duì)樣品進(jìn)行拋光，直至樣品1表面呈明亮的鏡面。

9)清洗烘干。用酒精棉對(duì)拋光后的樣品1表面進(jìn)行清洗，清洗后用烘干機(jī)或電吹風(fēng)將樣品1烘干備用。

10)腐蝕。將拋光的樣品1表面浸入3％的硝酸酒精中進(jìn)行腐蝕，腐蝕時(shí)間為3s。然后快速取出樣品。

11)清洗烘干。用酒精或去離子水對(duì)腐蝕后的樣品1表面進(jìn)行清洗，然后烘干。

12)金相觀察。將樣品1放置在光學(xué)顯微鏡或電子顯微鏡的物鏡下觀察金相和組織結(jié)構(gòu)。

實(shí)施例3

如圖3所示，本發(fā)明所述待觀察的樣品1為帶孔的圓環(huán)形成品片，內(nèi)徑為外徑為厚度為2mm。產(chǎn)品不帶磁。本發(fā)明所述釹鐵硼金相的制備方法，包括：以下步驟：

1)選取基座2。選取直徑為11mm，高度為14mm的不帶磁樣柱或邊角料，作為制備金相的基座；

2)清洗基座2。用除油劑清洗基座，并烘干備用。

3)樣品預(yù)處理。對(duì)樣品1進(jìn)行退磁處理，其工藝為退磁溫度為380℃，退磁時(shí)間為1h；

4)粘膠。將樣品1的待磨削面的背面涂抹502膠水，并快速粘貼在基座的中心。

5)晾干。將粘貼樣品1的基座2放在通風(fēng)處晾30s，直至膠水凝固。

6)砂紙打磨。分別用400目砂紙、800目砂紙、1200目砂紙和2000目砂紙對(duì)樣品1進(jìn)行打磨。直至樣品1表面看不到劃痕。

7)拋光。用拋光膏和拋光布對(duì)樣品進(jìn)行拋光，直至樣品1表面呈明亮的鏡面。

8)清洗烘干。用酒精棉對(duì)拋光后的樣品1表面進(jìn)行清洗，清洗后用烘干機(jī)或電吹風(fēng)將樣品烘干備用。

9)腐蝕。將拋光的樣品表面浸入3％的硝酸酒精中進(jìn)行腐蝕，腐蝕時(shí)間為1s。然后快速取出樣品1。

10)清洗烘干。用酒精或去離子水對(duì)腐蝕后的樣品1表面進(jìn)行清洗，然后烘干。

11)金相觀察。將樣品1放置在光學(xué)顯微鏡或電子顯微鏡的物鏡下觀察金相和組織結(jié)構(gòu)。

盡管本發(fā)明的實(shí)施方案已公開如上，但其并不僅僅限于說明書和實(shí)施方式中所列運(yùn)用，它完全可以被適用于各種適合本發(fā)明的領(lǐng)域，對(duì)于熟悉本領(lǐng)域的人員而言，可容易地實(shí)現(xiàn)另外的修改，因此在不背離權(quán)利要求及等同范圍所限定的一般概念下，本發(fā)明并不限于特定的細(xì)節(jié)和這里示出與描述的圖例。