技術特征：

技術總結
本發(fā)明公開了一種微區(qū)可見光譜儀及光譜測量方法，該微區(qū)可見光譜儀包括：兩個光路支架：水平光路支架與豎直光路支架；以及設置于兩個光學支架上的透射輸出模塊、反射輸出模塊、顯微模塊、成像觀測模塊、光譜測量模塊、可調光闌和樣品三維調節(jié)臺；其中，水平光路支架與豎直光路支架通過反射鏡使光路連通；透射輸出模塊、反射輸出模塊和顯微模塊固定在豎直光路支架上，成像觀測模塊、可調光闌和光譜測量模塊固定在水平光路支架上。本發(fā)明能夠實現對樣品的顯微觀測，能夠對有效通光區(qū)域在5微米×5微米以上的樣品進行透射式和反射式的可見光譜測量，具有結構簡單、穩(wěn)定性好、調節(jié)方便、定位精準和便于擴展的優(yōu)點。

技術研發(fā)人員：張冬仙;賈昊;吳青峻;蔣建中;丁少慶
受保護的技術使用者：浙江大學
技術研發(fā)日：2017.07.28
技術公布日：2017.11.03