本實(shí)用新型涉及了一種玻片染色板。

背景技術(shù)：

現(xiàn)有的裝載有待檢測(cè)物的玻片，在涂抹待檢測(cè)物后，都需要對(duì)其進(jìn)行染色，以便在顯微鏡下面觀察被檢測(cè)物里面所含有的成分物質(zhì)，現(xiàn)有的針對(duì)玻片的染色都是一片片單獨(dú)進(jìn)行的，當(dāng)待檢測(cè)的玻片數(shù)量較少時(shí)一般不會(huì)出現(xiàn)任何問題。但是，當(dāng)玻片數(shù)量較多時(shí)，一個(gè)個(gè)對(duì)其進(jìn)行染色的效率就會(huì)非常麻煩，染色效率也是非常低下；在染色過程中，往往還會(huì)出現(xiàn)染液濺出從而污染衣物、手套以及周邊環(huán)境；而且玻片也容易被誤觸碰到掉落，此外取放染片也非常麻煩，造成了工作中的很多不便。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)的不足，本實(shí)用新型提供了一種玻片染色板，能夠同時(shí)對(duì)多個(gè)玻片進(jìn)行染色，結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，染色效率更高。

為實(shí)現(xiàn)上述目的，本實(shí)用新型提供了一種玻片染色板，包括板體，板體由A板、B板以及C板之間通過連接裝置相互拼接而成，A板、B板和C板均設(shè)置有條形的染色槽，A板染色槽的首端為染液注入端，A板染色槽的尾端與B板染色槽的首端相連通，B板染色槽的尾端與C板染色槽的首端相連通，C板染色槽的尾端開有與C板側(cè)壁相導(dǎo)通的流出槽，流出槽上設(shè)有排液閥，A板、B板和C板的染色槽的兩側(cè)側(cè)壁上均開有多個(gè)供玻片兩端嵌裝的凹槽。

采用上述技術(shù)方案的優(yōu)點(diǎn)是：使用時(shí)將染色液加入至A板染色槽的染液注入端，染液會(huì)隨著A板染色槽、B板染色槽以及C板染色槽的首尾端依次蔓延，將嵌裝于A板、B板以及C板的玻片依次進(jìn)行染色，最終通過C板的流出槽流出；而排液閥的設(shè)置使得其在關(guān)閉時(shí)，能夠阻擋染液從流出槽中流出，避免染色過程中造成對(duì)周邊環(huán)境的污染；而在排液閥開啟的同時(shí)也為染液提供了流出口，便于染液的回收；其中染色槽兩側(cè)凹槽的設(shè)置便于將玻片兩端進(jìn)行定位，防止染色或者搬移過程中掉落。

作為本實(shí)用新型的進(jìn)一步改進(jìn)，所述A板、B板以及C板的染色槽的深度均自首端向尾端漸深。

采用上述技術(shù)方案的優(yōu)點(diǎn)是：使得染液能夠在染色槽中自行流走，提高了染液的流速，使得玻片的染色過程更加快速，提高了染色效率。同時(shí)，經(jīng)過使用的染液也更加容易從流出槽中排出，因此也增加了染液的回收率。

作為本實(shí)用新型的進(jìn)一步改進(jìn)，所述排液閥包括有擋板，所述板體于流出槽及流出槽兩側(cè)側(cè)壁設(shè)有供擋板滑移的滑槽。

采用上述技術(shù)方案的優(yōu)點(diǎn)是：由于染色板整體厚度較小，采用擋板于滑槽中滑動(dòng)的這種啟閉方式，結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，省力，同時(shí)也降低了成本。

作為本實(shí)用新型的進(jìn)一步改進(jìn)，所述連接裝置為設(shè)置于A板和B板之間連接處、以及B板和C板之間連接處的用于相互吸附的磁石，A板染色槽和B板染色槽之間、B板染色槽和C板染色槽之間的連接處均設(shè)置有U型密封條。

采用上述技術(shù)方案的優(yōu)點(diǎn)是：使得本實(shí)用新型能夠進(jìn)行組合拆裝，在使用時(shí)先分別將A板和B板、B板和C板之間兩兩拼接，板與板之間通過磁石進(jìn)行吸附，結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，而且容易對(duì)準(zhǔn)位置；由于A板和B板、以及B板和C板之間拼接結(jié)構(gòu)容易造成染液從拼接處滲漏，U型密封條的設(shè)置可以阻擋滲漏的染液，防止對(duì)桌面的污染。本實(shí)用新型在不使用時(shí)可以將A板、B板以及C板重疊收納，在一定程度上減少了桌面空間的占用。

作為本實(shí)用新型的進(jìn)一步改進(jìn)，所述凹槽的邊緣處開有供手指嵌入的半月形淺槽。

采用上述技術(shù)方案的優(yōu)點(diǎn)是：供手指插入至玻片側(cè)端，從而便于從凹槽中取出玻片。

附圖說明

圖1為本實(shí)用新型實(shí)施例的結(jié)構(gòu)圖；

圖2為本實(shí)用新型實(shí)施例的爆炸圖；

圖3為圖1中A部分的局部放大圖；

圖4為圖3中排液閥的另一種使用狀態(tài)的示意圖；

圖5為圖2中B部分的局部放大圖；

圖6為圖2中C部分的局部放大圖；

圖7為圖1中D部分的局部放大圖。

具體實(shí)施方式

本實(shí)用新型的玻片染色板的實(shí)施例如圖1-7所示：包括板體1，板體1由A板11、B板12以及C板13之間通過連接裝置相互拼接而成，A板11、B板12和C板13均設(shè)置有條形的染色槽(11a，12a，13a)，A板染色槽11a的首端為染液注入端11b，A板染色槽11a的尾端與B板染色槽12a的首端相連通，B板染色槽12a的尾端與C板染色槽13a的首端相連通，C板染色槽13a的尾端開有與C板13側(cè)壁相導(dǎo)通的流出槽13b，流出槽13b上設(shè)有排液閥131，A板11、B板12和C板13的染色槽(11a，12a，13a)的兩側(cè)側(cè)壁上均開有多個(gè)供玻片2兩端嵌裝的凹槽14，所述凹槽14的深度應(yīng)當(dāng)略小于凹槽14處染色槽的深度，使得玻片2嵌裝于凹槽14中時(shí)，玻片2于染色槽底部之間仍然保留供染液流過的間隙。當(dāng)然，這個(gè)間隙以恰好能夠使流經(jīng)的染液充分接觸到玻片2下表面為宜。

在本實(shí)施例中，所述A板11、B板12以及C板13的染色槽的深度均自首端向尾端漸深。染色槽(11a，12a，13a)底部具有供染液順著注入端向流出槽方向流動(dòng)的坡度。

在本實(shí)施例中，所述排液閥131包括有擋板131a，所述板體1于流出槽131及流出槽131兩側(cè)側(cè)壁設(shè)有供擋板131a滑移的滑槽131b?；?31b和擋板131a之間通常還會(huì)設(shè)置有密封條（圖中未示出），防止染液從滑槽131b和擋板131a之間滲出。

在本實(shí)施例中，所述連接裝置為設(shè)置于A板11和B板12之間連接處、以及B板12和C板13之間連接處的用于相互吸附的磁石15，A板染色槽11a和B板染色槽12a之間、B板染色槽12a和C板染色槽13a之間的連接處均設(shè)置有U型密封條16。

在本實(shí)施例中，所述凹槽14的邊緣處開有便于玻片2取出的半月形淺槽141。半月形淺槽141的深度以等于或略小于凹槽14深度為宜。

以上實(shí)施例，只是本實(shí)用新型優(yōu)選地具體實(shí)施例的一種，本領(lǐng)域技術(shù)人員在本實(shí)用新型技術(shù)方案范圍內(nèi)進(jìn)行的通常變化和替換都包含在本實(shí)用新型的保護(hù)范圍內(nèi)。