本實(shí)用新型涉及一種支架,特別涉及在鹽霧箱內(nèi)使用的腐蝕試驗(yàn)試片支架。
背景技術(shù):
實(shí)際工程中,鋼材的腐蝕是指鋼材表面和周?chē)橘|(zhì)發(fā)生化學(xué)作用或電化學(xué)作用,而使鋼材受到損壞的現(xiàn)象。鋼材腐蝕現(xiàn)象普遍存在于鋼結(jié)構(gòu)工程以及混凝土工程中,不僅會(huì)耗損大量鋼材,消耗了寶貴的資源和能源,造成巨大的直接經(jīng)濟(jì)損失,而且可使結(jié)構(gòu)構(gòu)件過(guò)早失效,承載力下降,影響結(jié)構(gòu)的使用性能,并可能會(huì)造成突發(fā)的災(zāi)難性事故、危及社會(huì)與人身安全。鋼材腐蝕現(xiàn)象已經(jīng)成為影響國(guó)民經(jīng)濟(jì)和社會(huì)可持續(xù)發(fā)展的一個(gè)重要因素,因此,選用耐腐蝕鋼材成為一種有效的抑制腐蝕的新方法,而金屬材料耐蝕性的評(píng)價(jià)則變得十分迫切。
鋼材的耐蝕性,取決于材料本身性質(zhì)的同時(shí),還取決于鋼材所處的環(huán)境條件。目前,大部分的腐蝕試驗(yàn)的實(shí)際任務(wù)是測(cè)定某種材料在特定條件下的耐蝕性,為材料的生產(chǎn)以及實(shí)際的使用提供合理、科學(xué)的依據(jù),同時(shí)也為耐蝕鋼材的開(kāi)發(fā)提供相對(duì)可靠的評(píng)價(jià)方法。
鹽霧試驗(yàn)是常見(jiàn)的腐蝕試驗(yàn)。在鹽霧試驗(yàn)中,根據(jù)國(guó)內(nèi)規(guī)范《人造氣氛腐蝕試驗(yàn)鹽霧試驗(yàn)》(GB/T 10125-2012),試件被試表面盡可能與垂直方向成15°~25°,并盡可能成 20°。試件不能接觸箱體,也不能互相接觸。但很多情況下,鹽霧箱內(nèi)沒(méi)有提供試件放置的支架或者在支架上定位、放置試件較為不方便,從而影響試驗(yàn)效率。
因此,制備一種專(zhuān)門(mén)用于鹽霧試驗(yàn)的試片支架,不但能進(jìn)行多個(gè)平行試片的評(píng)價(jià),并可保證腐蝕試驗(yàn)的平穩(wěn)運(yùn)行。在符合規(guī)范要求的前提下,方便試件的放置,提高試驗(yàn)效率,充分利用鹽霧箱內(nèi)空間,就具有十分重大的價(jià)值和意義了。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:
本實(shí)用新型要解決的技術(shù)問(wèn)題是,克服現(xiàn)有技術(shù)中的不足,提供一種在鹽霧箱內(nèi)使用的腐蝕試驗(yàn)試片支架。
為了解決技術(shù)問(wèn)題,本實(shí)用新型的解決方案是:
提供一種在鹽霧箱內(nèi)使用的腐蝕試驗(yàn)試片支架,包括相互垂直的底板和豎板;所述底板和豎板具有相同的長(zhǎng)度,豎板垂直安裝在底板表面上的中部位置,將底板分為兩部分;在其中一側(cè)的底板長(zhǎng)邊與豎板上緣之間設(shè)置用于固定支承的支撐桿,在另一側(cè)的底板表面或底板側(cè)面上沿著垂直于豎板的方向設(shè)置刻度尺;
所述刻度尺以豎板表面與底板表面相接處為0刻度起點(diǎn),以待測(cè)試件傾斜擱置時(shí)的斜向長(zhǎng)度m為刻度標(biāo)記,刻度標(biāo)記取整數(shù)值均勻間隔布置;假設(shè)每一個(gè)刻度標(biāo)記與0 刻度起點(diǎn)之間的實(shí)際距離為n,則n/m的數(shù)值為sin20°。
作為改進(jìn),在與所述刻度標(biāo)記對(duì)應(yīng)的底板表面上,沿底板長(zhǎng)度方向設(shè)置貫通的凹槽或均布的支撐件,用于固定支承待測(cè)試件。
作為改進(jìn),所述底板包括底板框架和覆蓋于底板框架上的底板蓋板;所述豎板包括豎板框架和覆蓋于豎板框架上的豎板蓋板。
作為改進(jìn),所述底板上均勻布置若干貫通的開(kāi)孔。
作為改進(jìn),所述支撐桿有多根,且沿底板的長(zhǎng)度方向間隔布置。
與現(xiàn)有技術(shù)相比,本實(shí)用新型的有益效果是:
1、試片支架的底板和豎板垂直連接,用于擱置傾斜的試件;支撐桿連接底板與豎板,起到支撐的效果、加固支架。
2、設(shè)置在底板表面或底板側(cè)面上的刻度尺,以待測(cè)試件傾斜擱置時(shí)的斜向長(zhǎng)度m 為刻度標(biāo)記,在使用時(shí)可以根據(jù)待測(cè)試件的尺寸直接選擇底部擺放位置,同時(shí)保證傾斜角符合國(guó)標(biāo)要求。給使用者帶來(lái)極大方便,簡(jiǎn)單、直觀、易操作。
3、試片支架能夠在同一區(qū)間同時(shí)重疊放置多個(gè)不同斜向尺寸的腐蝕試件,也可以在不同區(qū)間同時(shí)并列擺放相同斜向尺寸的試件。能滿足鹽霧試驗(yàn)中不同尺寸試件的要求,極大地提高了工作效率。
附圖說(shuō)明
圖1是支架的主視圖;
圖2是支架的右視圖;
圖3是支架的俯視圖;
圖4是底板側(cè)邊刻度;
圖5是支架框架,即底板以及豎板沒(méi)有蓋板時(shí)的主視圖;
圖6是支架框架,即底板以及豎板沒(méi)有蓋板時(shí)的右視圖;
圖7是支架框架,即底板以及豎板沒(méi)有蓋板時(shí)的俯視圖;
圖8是腐蝕支架使用狀態(tài)主視圖;
圖9是腐蝕支架使用狀態(tài)右視圖;
圖10是腐蝕支架使用狀態(tài)俯視圖。
圖中所示附圖標(biāo)記為:1底板蓋板;2豎板蓋板;3底板框架;4豎板框架;5支撐桿;6開(kāi)孔;7刻度尺;8試件a;9試件b;10凹槽;11底板;12豎板。
具體實(shí)施方式
需要說(shuō)明的是,在不沖突的情況下,本申請(qǐng)中的實(shí)施例及實(shí)施例中的特征可以相互組合。下面將參考附圖并結(jié)合實(shí)施例來(lái)詳細(xì)說(shuō)明本實(shí)用新型。
在鹽霧箱內(nèi)使用的腐蝕試驗(yàn)試片支架,包括相互垂直的底板和豎板;底板11為長(zhǎng)方形呈水平放置,底板上均勻布置若干貫通的開(kāi)孔6。開(kāi)孔6用于在試驗(yàn)中防止鹽霧凝結(jié)成的鹽水過(guò)多積聚,并方便清洗。
底板11包括底板框架3和覆蓋于底板框架3上的底板蓋板1,底板框架3由縱橫交錯(cuò)的木條形成。豎板12包括豎板框架4和覆蓋于豎板框架4上的豎板蓋板2,豎板框架 4由縱橫交錯(cuò)的木條形成。
底板11為長(zhǎng)方形,與豎板12具有相同的長(zhǎng)度,豎板12垂直安裝在底板11表面上的中部位置,將底板11分為兩部分;在其中一側(cè)的底板11長(zhǎng)邊與豎板12上緣之間設(shè)置用于固定支承的支撐桿5,支撐桿5有多根,且沿底板11的長(zhǎng)度方向間隔布置。在另一側(cè)的底板11表面或底板11側(cè)面(如圖4所示)上沿著垂直于豎板12的方向設(shè)置刻度尺7。底板11與豎板12形成的直角區(qū)域用于擱置試件,能滿足不同尺寸試件放置以及多個(gè)試件同時(shí)放置的要求。支撐桿5由木條組成,沿支架長(zhǎng)度方向間隔布置。
刻度尺7以豎板12表面與底板11表面相接處為0刻度起點(diǎn),以待測(cè)試件傾斜擱置時(shí)的斜向長(zhǎng)度m為刻度標(biāo)記,刻度標(biāo)記取整數(shù)值均勻間隔布置;假設(shè)每一個(gè)刻度標(biāo)記與 0刻度起點(diǎn)之間的實(shí)際距離為n,則n/m的數(shù)值為sin20°。
設(shè)置在底板表面或底板側(cè)面上的刻度尺,以待測(cè)試件傾斜擱置時(shí)的斜向長(zhǎng)度m為刻度標(biāo)記,在使用時(shí)可以根據(jù)待測(cè)試件的尺寸直接選擇底部擺放位置,同時(shí)保證傾斜角符合國(guó)標(biāo)要求。例如,圖4中刻度上的1、2、3和4分別代表傾斜擱置100mm、200mm、 300mm和400mm的長(zhǎng)度的試件時(shí),試件底部應(yīng)擱置在底板的位置??潭壬厦總€(gè)大格間距為100mm×sin20°≈17mm,即刻度尺7上每17mm代表著試件斜向尺寸100mm。
在與刻度標(biāo)記對(duì)應(yīng)的底板11表面上,沿底板11長(zhǎng)度方向設(shè)置貫通的凹槽10或均布的支撐件,用于固定支承待測(cè)試件,也方便試件放置。
由于支架放置在鹽霧環(huán)境中,所以對(duì)用于木條制作的底板11、豎板12和支撐5的表面均涂上兩層清漆,提高防腐蝕性。
使用方法說(shuō)明:
將支架置于鹽霧箱內(nèi),根據(jù)試件a 8或試件b 9的高度尺寸,先將試件底邊擱置在刻度尺7對(duì)應(yīng)的底板11位置,然后試件上部倚靠在豎板12上,這樣就能使試件以接近與垂直方向呈20°傾斜擱置。放置好試件后即可進(jìn)行腐蝕試驗(yàn)。
以上所述,僅為本實(shí)用新型的具體實(shí)施例,不能以其限定實(shí)用新型實(shí)施的范圍,所以其等同組件的置換,或依本實(shí)用新型專(zhuān)利保護(hù)范圍所作的等同變化與修飾,都應(yīng)仍屬于本專(zhuān)利涵蓋的范疇。另外,本實(shí)用新型中的技術(shù)特征與技術(shù)特征之間、技術(shù)特征與技術(shù)方案之間、技術(shù)方案與技術(shù)方案之間均可以自由組合使用。