本申請(qǐng)屬于檢測(cè),具體涉及一種成像系統(tǒng)及其控制方法、平板探測(cè)器。
背景技術(shù):
1、射線成像(x,γ等電磁輻射和其他粒子)是利用射線束通過被測(cè)對(duì)象(例如不同形狀的工件﹑人體的器官等)投影在探測(cè)器的陣列上,通過電子學(xué)讀出和計(jì)算機(jī)數(shù)據(jù)采集和分析系統(tǒng),使被測(cè)對(duì)象的內(nèi)部結(jié)構(gòu)的圖像重現(xiàn)在計(jì)算機(jī)屏幕上的一項(xiàng)綜合性高新技術(shù),目前在醫(yī)學(xué)檢測(cè)和工業(yè)檢測(cè)領(lǐng)域均被廣泛應(yīng)用。
2、在射線成像技術(shù)中,射線傳感器為成像系統(tǒng)的核心部件。在低成本的條件下,射線傳感器分為大尺寸的射線傳感器和小尺寸的射線傳感器,其中大尺寸的射線傳感器具有單次拍攝成像區(qū)域大的特點(diǎn),但圖像的質(zhì)量差,細(xì)節(jié)不夠清晰;而小尺寸的射線傳感器具有拍攝成像效果好的特點(diǎn),但一次拍攝區(qū)域小,無法獲取整個(gè)物體的影像。實(shí)際應(yīng)用中,對(duì)于拍攝成像效果好,一次拍攝區(qū)域大的攝像傳感器,其成本較高。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路
1、本申請(qǐng)實(shí)施例的目的是提供一種成像系統(tǒng)及其控制方法、平板探測(cè)器,能夠解決目前成像系統(tǒng)無法兼顧低成本、一次拍攝區(qū)域大和成像效果好的問題。
2、為了解決上述技術(shù)問題,本申請(qǐng)是這樣實(shí)現(xiàn)的:
3、本申請(qǐng)實(shí)施例提供了一種成像系統(tǒng),包括發(fā)射件、第一檢測(cè)件、第二檢測(cè)件和驅(qū)動(dòng)件,所述發(fā)射件、所述第一檢測(cè)件和所述第二檢測(cè)件均可朝向被檢測(cè)物體,所述發(fā)射件用于發(fā)射射線,所述第一檢測(cè)件的檢測(cè)面積大于所述第二檢測(cè)件的檢測(cè)面積,所述驅(qū)動(dòng)件與所述第二檢測(cè)件相連,所述驅(qū)動(dòng)件可驅(qū)動(dòng)所述第二檢測(cè)件運(yùn)動(dòng)至目標(biāo)位置。
4、第二方面,本申請(qǐng)實(shí)施例還提供了一種平板探測(cè)器,包括設(shè)備主體和上述的成像系統(tǒng),所述成像系統(tǒng)設(shè)置于所述設(shè)備主體。
5、第三方面,本申請(qǐng)實(shí)施例還提供了一種成像系統(tǒng)的控制方法,應(yīng)用于上述的成像系統(tǒng),包括:
6、控制所述發(fā)射件朝向所述被檢測(cè)物體發(fā)射射線;
7、通過所述第一檢測(cè)件檢測(cè)透過所述被檢測(cè)物體的第一射線,以形成第一圖像;
8、根據(jù)所述第一圖像判斷是否需要二次成像;
9、當(dāng)需要二次成像時(shí),驅(qū)動(dòng)所述第二檢測(cè)件運(yùn)動(dòng)至目標(biāo)位置,并通過所述第二檢測(cè)件檢測(cè)透過所述被檢測(cè)物體的第二射線,以形成第二圖像。
10、本申請(qǐng)實(shí)施例中,成像系統(tǒng)包括發(fā)射件、第一檢測(cè)件、第二檢測(cè)件和驅(qū)動(dòng)件,發(fā)射件、第一檢測(cè)件和第二檢測(cè)件均可朝向被檢測(cè)物體,發(fā)射件用于發(fā)射射線,第二檢測(cè)件的檢測(cè)面積小于第一檢測(cè)件的檢測(cè)面積,當(dāng)對(duì)成像質(zhì)量要求較低時(shí),此時(shí)僅第一檢測(cè)件拍攝檢測(cè)即可;當(dāng)對(duì)成像質(zhì)量要求較高時(shí),當(dāng)?shù)谝粰z測(cè)件拍攝完成后,驅(qū)動(dòng)件驅(qū)動(dòng)第二檢測(cè)件運(yùn)動(dòng)至目標(biāo)位置,第二檢測(cè)件針對(duì)被檢測(cè)物體的局部進(jìn)行拍攝檢測(cè),從而形成尺寸較大、成像效果好的清晰圖像。由此可知,本申請(qǐng)通過同時(shí)設(shè)置檢測(cè)面積不同的第一檢測(cè)件和第二檢測(cè)件,以根據(jù)實(shí)際檢測(cè)需要進(jìn)行靈活選擇,在滿足一次拍攝區(qū)域大且成像效果好的基礎(chǔ)上,有利于降低成像系統(tǒng)的成本。因此,本申請(qǐng)實(shí)施能夠解決目前成像系統(tǒng)無法兼顧低成本、一次拍攝區(qū)域大和成像效果好的問題。
1.一種成像系統(tǒng),其特征在于,包括發(fā)射件(100)、第一檢測(cè)件(200)、第二檢測(cè)件(300)和驅(qū)動(dòng)件(400),所述發(fā)射件(100)、所述第一檢測(cè)件(200)和所述第二檢測(cè)件(300)均可朝向被檢測(cè)物體(500),所述發(fā)射件(100)用于發(fā)射射線,所述驅(qū)動(dòng)件(400)與所述第二檢測(cè)件(300)相連,所述驅(qū)動(dòng)件(400)可驅(qū)動(dòng)所述第二檢測(cè)件(300)運(yùn)動(dòng)至目標(biāo)位置,所述第二檢測(cè)件(300)的檢測(cè)面積小于所述第一檢測(cè)件(200)的檢測(cè)面積。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的成像系統(tǒng),其特征在于,所述驅(qū)動(dòng)件(400)的數(shù)量為至少兩個(gè),所述驅(qū)動(dòng)件(400)包括第一驅(qū)動(dòng)件(410)和第二驅(qū)動(dòng)件(420),所述第一驅(qū)動(dòng)件(410)和所述第二驅(qū)動(dòng)件(420)均與所述第二檢測(cè)件(300)連接,所述第一驅(qū)動(dòng)件(410)可驅(qū)動(dòng)所述第二檢測(cè)件(300)沿第一方向移動(dòng),所述第二驅(qū)動(dòng)件(420)可驅(qū)動(dòng)所述第二檢測(cè)件(300)沿第二方向移動(dòng),以使所述第二檢測(cè)件(300)移動(dòng)至所述目標(biāo)位置,
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的成像系統(tǒng),其特征在于,所述驅(qū)動(dòng)件(400)還包括第三驅(qū)動(dòng)件(430),所述第三驅(qū)動(dòng)件(430)與所述第二檢測(cè)件(300)連接,所述第三驅(qū)動(dòng)件(430)可驅(qū)動(dòng)所述第二檢測(cè)件(300)沿第三方向移動(dòng),以使所述第二檢測(cè)件(300)移動(dòng)至所述目標(biāo)位置,
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的成像系統(tǒng),其特征在于,所述第一檢測(cè)件(200)的數(shù)量為至少兩個(gè),各所述第一檢測(cè)件(200)可位于所述被檢測(cè)物體(500)的不同側(cè)。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的成像系統(tǒng),其特征在于,所述第二檢測(cè)件(300)的數(shù)量為至少兩個(gè),所述驅(qū)動(dòng)件(400)與所述第二檢測(cè)件(300)一一對(duì)應(yīng)設(shè)置,各所述第二檢測(cè)件(300)可位于所述被檢測(cè)物體(500)的不同側(cè);或,
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的成像系統(tǒng),其特征在于,所述發(fā)射件(100)用于發(fā)射x射線;
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的成像系統(tǒng),其特征在于,所述第一檢測(cè)件(200)可位于所述被檢測(cè)物體(500)背離所述發(fā)射件(100)的一側(cè),所述第二檢測(cè)件(300)可位于所述被檢測(cè)物體(500)與所述第一檢測(cè)件(200)之間,或者,所述第二檢測(cè)件(300)可位于所述第一檢測(cè)件(200)背離所述被檢測(cè)物體(500)的一側(cè)。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的成像系統(tǒng),其特征在于,所述成像系統(tǒng)還包括控制裝置(600),所述控制裝置(600)分別與所述發(fā)射件(100)、所述第一檢測(cè)件(200)、所述第二檢測(cè)件(300)和所述驅(qū)動(dòng)件(400)電連接。
9.一種平板探測(cè)器,其特征在于,包括設(shè)備主體和權(quán)利要求1至8中任一項(xiàng)所述的成像系統(tǒng),所述成像系統(tǒng)設(shè)置于所述設(shè)備主體。
10.一種成像系統(tǒng)的控制方法,應(yīng)用于權(quán)利要求1至8中任一項(xiàng)所述的成像系統(tǒng),其特征在于,包括:
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的控制方法,其特征在于,所述驅(qū)動(dòng)所述第二檢測(cè)件運(yùn)動(dòng)至目標(biāo)位置,具體包括:
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的控制方法,其特征在于,所述控制方法還包括:
13.根據(jù)權(quán)利要求10所述的控制方法,其特征在于,所述控制所述發(fā)射件朝向所述被檢測(cè)物體發(fā)射射線之前,所述控制方法還包括: