1.一種成像系統(tǒng)(500；700；800)，用于基于光三角測量對物體(520)進(jìn)行三維成像，所述成像系統(tǒng)包括相機(jī)(530)和光源(510)，光源被配置為提供物體(520)的照明，照明包括結(jié)構(gòu)化光(511)，相機(jī)(530)相對于所提供的結(jié)構(gòu)化光(511)被布置為使得相機(jī)(530)能夠作為所述光三角測量的一部分在圖像中捕獲來自物體(520)的反射的結(jié)構(gòu)化光(511)，從而根據(jù)光三角測量，捕獲的反射的結(jié)構(gòu)化光在圖像中的位置映射到結(jié)構(gòu)化光(511)被物體(520)反射的真實世界位置，結(jié)構(gòu)化光(511)與包括物體(520)的虛擬體積(524)相交，并且所述虛擬體積與成像期間成像系統(tǒng)被配置為成像的一個或多個物體所在的體積對應(yīng)，所述一個或多個物體包括所述物體(520)，
2.如權(quán)利要求1所述的成像系統(tǒng)，其中遮光罩(550；750；850)具有一個或多個遮光主表面，所述遮光主表面在垂直于結(jié)構(gòu)化光(511)的照明方向的一個或多個方向上延伸。
3.如權(quán)利要求1至2中的任一項所述的成像系統(tǒng)，其中遮光罩(550；750；850)在光源(511)與虛擬體積(524)之間的結(jié)構(gòu)化光(511)的外部延伸，并且與結(jié)構(gòu)化光(511)的距離在虛擬體積(524；724；824)的方向上減小。
4.如權(quán)利要求1至3中的任一項所述的成像系統(tǒng)，其中遮光罩(550；750；850)布置在結(jié)構(gòu)化光(511)的外部，與結(jié)構(gòu)化光(511)有一定距離，使得遮光罩(550；750；850)由此避免屏蔽比照明降低到其最大強(qiáng)度的5％之處更靠近結(jié)構(gòu)化光(511)的照明的光。
5.如權(quán)利要求1至4中的任一項所述的成像系統(tǒng)，其中遮光罩(550；750；850)布置在結(jié)構(gòu)化光(511)的外部，與結(jié)構(gòu)化光(511)有一定距離但又足夠靠近，使得遮光罩(550；750；850)至少屏蔽在照明降低到其最大強(qiáng)度的1％處的照明的光。
6.如權(quán)利要求1至5中的任一項所述的成像系統(tǒng)，其中遮光罩包括：
7.如權(quán)利要求6所述的成像系統(tǒng)，其中第一遮光罩部件(550a；750a；850a)被布置在覆蓋虛擬體積(524)中的結(jié)構(gòu)化光(511)的相機(jī)(530)的視場(532；732；832)的至少一部分(532'；732'；832')的外部。
8.如權(quán)利要求1-7中的任一項所述的成像系統(tǒng)，其中遮光罩(550；750；850)在遮光罩(550；750；850)最靠近虛擬體積(524)和/或遮光罩(550；750；850)最靠近照明具有焦點的位置之處最靠近結(jié)構(gòu)化光。
9.一種用于支持在基于光三角測量的三維成像中減少失真的方法，所述三維成像由成像系統(tǒng)(500；700；800)執(zhí)行，該成像系統(tǒng)包括相機(jī)(530)和用于提供要成像的物體(520)的照明的光源(510)，其中照明包括用于光三角測量的結(jié)構(gòu)化光(511)，相機(jī)(530)相對于所提供的結(jié)構(gòu)化光(511)被布置為使得相機(jī)(530)在成像期間作為所述光三角測量的一部分在圖像中捕獲來自物體(520)的反射的結(jié)構(gòu)化光(511)，從而根據(jù)光三角測量，捕獲的反射的結(jié)構(gòu)化光在圖像中的位置映射到結(jié)構(gòu)化光(511)被物體(520)反射的真實世界位置，結(jié)構(gòu)化光(511)與包括物體(520)的虛擬體積(524)相交，并且所述虛擬體積與成像期間成像系統(tǒng)被配置為成像的一個或多個物體所在的體積對應(yīng)，所述一個或多個物體包括所述物體(520)，其中該方法包括：
10.如權(quán)利要求9所述的方法，其中所述防止雜散光是通過由布置在光源(511)與所述虛擬體積(524)之間的結(jié)構(gòu)化光(511)的外部的遮光罩(550；750；850)屏蔽雜散光來實現(xiàn)的。