1.一種晶圓外延膜厚量測設(shè)備，其特征在于：包括機(jī)架、周轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)、校正機(jī)構(gòu)、測量機(jī)構(gòu)，所述機(jī)架內(nèi)設(shè)有封閉的測量室，機(jī)架外側(cè)設(shè)有并列設(shè)置的上料臺、下料臺，所述上料臺、下料臺均設(shè)有與測量室連通的取料口，所述周轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)設(shè)于測量室內(nèi)，在校正機(jī)構(gòu)、測量機(jī)構(gòu)及上料臺、下料臺的取料口之間周轉(zhuǎn)，用于輸送物料；所述校正機(jī)構(gòu)、測量機(jī)構(gòu)也設(shè)于測量室內(nèi)，并繞周轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)外側(cè)設(shè)置；校正機(jī)構(gòu)包括校正臺、傳感器組，所述校正臺用于放置晶圓，其上設(shè)有定位晶圓在校正臺上位置的定位組件一，所述傳感器組設(shè)于校正臺上，用于檢測晶圓的基準(zhǔn)位，所述校正臺能根據(jù)檢測的基準(zhǔn)位位置帶動晶圓旋轉(zhuǎn)來校正晶圓的位置；測量機(jī)構(gòu)包括測量臺、光譜測量儀，所述光譜測量儀設(shè)于測量臺上方，用于測量晶圓外延膜厚度，所述測量臺用于放置晶圓，并能帶動晶圓平移和旋轉(zhuǎn)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的晶圓外延膜厚量測設(shè)備，其特征在于：所述測量室被隔板分隔成測量室一、測量室二，所述周轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)、校正機(jī)構(gòu)設(shè)于測量室一內(nèi)，所述測量機(jī)構(gòu)設(shè)于測量室二內(nèi)，所述隔板上設(shè)有供周轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)的機(jī)械臂通過的工作槽；所述測量室一、測量室二頂部均設(shè)有用于潔凈測量室的風(fēng)機(jī)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的晶圓外延膜厚量測設(shè)備，其特征在于：所述周轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)包括移動模組一、機(jī)械臂底座，所述移動模組一固定在機(jī)架的底部，其輸出端設(shè)有機(jī)械臂底座，所述機(jī)械臂臂底座內(nèi)設(shè)有升降組件，所述升降組件的輸出端設(shè)有兩個機(jī)械臂，兩個機(jī)械臂交替取料、放料。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的晶圓外延膜厚量測設(shè)備，其特征在于：所述周轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)還包括設(shè)于機(jī)械臂上的夾持組件，所述夾持組件包括連接臂、伸縮桿、推板、支撐板，所述連接臂與機(jī)械臂的輸出端連接，所述支撐板為y形的叉板，其主體端與連接臂連接，其分叉端的兩個叉形板末端頂面設(shè)有支撐塊一，所述推板設(shè)于支撐板的主體端，并通過插設(shè)在連接臂上的伸縮桿與支撐板滑動連接，所述支撐板上還設(shè)有導(dǎo)向推板滑動的滑槽，所述支撐板主體端還設(shè)有位于推板兩側(cè)的支撐塊二，所述支撐塊一、支撐塊二的頂面均設(shè)有弧形的支撐面，且支撐塊一的支撐面中部還設(shè)有凸出支撐面的止頂塊，所述推板與止頂塊配合定位放置在支撐面上的晶圓。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的晶圓外延膜厚量測設(shè)備，其特征在于：所述校正機(jī)構(gòu)還包括設(shè)于校正臺一側(cè)的識別組件，所述識別組件用于識別晶圓標(biāo)記，包括識別器、安裝座、調(diào)節(jié)座、立桿，所述立桿固定在機(jī)架底部，所述識別器固定在安裝座上，所述安裝座通過連桿與調(diào)節(jié)座連接，所述調(diào)節(jié)座夾設(shè)在立桿上，所述識別器通過調(diào)節(jié)座、連桿能調(diào)節(jié)識別器相對于校正臺的位置。
6.根據(jù)權(quán)利要求1-5任一項所述的晶圓外延膜厚量測設(shè)備，其特征在于：所述定位組件一包括支撐塊三、伸縮夾塊，所述校正臺頂部沿圓周方向設(shè)有多個支撐塊三，校正臺外側(cè)設(shè)有沿圓周方向設(shè)置的多個伸縮夾塊，每個支撐塊三與每個伸縮夾塊一一對應(yīng)設(shè)置，且支撐塊三的頂部設(shè)有支撐斜面，伸縮夾塊的夾持端設(shè)有弧形的夾持凹槽。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的晶圓外延膜厚量測設(shè)備，其特征在于：所述校正臺下方設(shè)有校正底座，所述校正底座內(nèi)設(shè)有驅(qū)動多個伸縮夾塊沿校正臺徑向移動的伸縮模組及驅(qū)動校正臺沿z向旋轉(zhuǎn)的旋轉(zhuǎn)組件。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的晶圓外延膜厚量測設(shè)備，其特征在于：所述測量臺上設(shè)有定位組件二，所述定位組件二包括沿測量臺圓周方向均布的兩個固定夾頭和一個活動夾頭，所述固定夾頭、活動夾頭的外側(cè)端端部均設(shè)有弧形的支撐面及凸出支撐面的止頂臺，所述活動夾頭通過推移組件沿測量臺的徑向移動；所述推移組件包括推移氣缸、輪座、推移輪、推桿、滑座、滑軌，所述推移氣缸通過連接板固定在馬達(dá)安裝座上，其輸出端設(shè)有輪座，所述輪座的頂部設(shè)有推移輪，所述推桿上端與活動夾頭的內(nèi)側(cè)端連接，下端穿過滑座與推移輪外側(cè)面抵接，所述滑座內(nèi)插設(shè)有滑桿，所述滑桿插設(shè)在推桿中部并與推桿滑動連接，所述滑軌設(shè)于活動夾頭底部，所述滑座頂部設(shè)有與滑軌滑動連接的滑塊。
9.根據(jù)權(quán)利要求1或者8所述的晶圓外延膜厚量測設(shè)備，其特征在于：所述測量機(jī)構(gòu)還包括位于測量臺下方的基臺、移動模組二、旋轉(zhuǎn)馬達(dá)，所述基臺一側(cè)上方設(shè)有移動模組二，另一側(cè)設(shè)有安裝光譜測量儀的平臺，所述旋轉(zhuǎn)馬達(dá)通過馬達(dá)安裝座固定在移動模組二的移動端，所述測量臺與旋轉(zhuǎn)馬達(dá)的輸出端連接；所述移動模組二與測量臺之間還設(shè)有包覆旋轉(zhuǎn)馬達(dá)的護(hù)蓋；所述馬達(dá)安裝座一側(cè)還設(shè)有校準(zhǔn)光譜測量儀光路的金鏡組件。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的晶圓外延膜厚量測設(shè)備，其特征在于：所述基臺為氣浮臺，其底部四角設(shè)有固定在機(jī)架上的氣浮減震器，所述氣浮減震器與外部氣源連接。