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為平面樣品優(yōu)化的高光譜成像檢測裝置及其光路折疊方法與流程

文檔序號:40426318發(fā)布日期:2024-12-24 14:59閱讀:來源:國知局

技術(shù)特征:

1.為平面樣品優(yōu)化的高光譜成像檢測裝置,包括防護殼(1)、傳動機構(gòu)和掃描盒(5),所述防護殼(1)包括底殼(11)和頂板(12),所述掃描盒(5)通過傳動機構(gòu)水平滑動于底殼(11)內(nèi),其特征在于:所述掃描盒(5)包括底盒(51)和盒蓋(52),所述底盒(51)內(nèi)分別安裝有反射鏡組(511)和高光譜相機(512),所述高光譜相機(512)工作端延伸至底盒(51)內(nèi);

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的為平面樣品優(yōu)化的高光譜成像檢測裝置,其特征在于:所述反射鏡組(511)中一個反射鏡用于接收來自樣品本體的反射,并將該部分漫反射光引導(dǎo)進光路折疊路徑,所述反射鏡組(511)中另一個反射鏡用于將反射后的光送入高光譜相機(512)進行分光;

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的為平面樣品優(yōu)化的高光譜成像檢測裝置,其特征在于:所述反射鏡組(511)中的各反射鏡,其長度都大于或等于入射光固定軸在鏡面反射時的折合長度,且折合長度為固定軸在鏡面處的長度乘以鏡面與光傳播方向夾角的正割乘積,計算公式為:

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的為平面樣品優(yōu)化的高光譜成像檢測裝置,其特征在于:所述頂板(12)內(nèi)安裝有用于放置樣本本體的樣品放置臺(121),所述頂板(12)上通過銷軸鉸接有蓋板(122);

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的為平面樣品優(yōu)化的高光譜成像檢測裝置,其特征在于:所述傳動機構(gòu)包括步進電機(2)和絲桿(3),所述絲桿(3)一端安裝于步進電機(2)輸出端,且所述絲桿(3)另一端通過軸承連接于底殼(11)內(nèi);

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的為平面樣品優(yōu)化的高光譜成像檢測裝置,其特征在于:所述底殼(11)內(nèi)兩側(cè)對稱固定連接有兩個定位桿(4),兩個所述定位桿(4)均貫穿于掃描盒(5)內(nèi)。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的為平面樣品優(yōu)化的高光譜成像檢測裝置,其特征在于:所述底殼(11)與頂板(12)固定連接,所述盒底(51)與盒蓋(52)固定連接,所述盒底(51)與盒蓋(52)構(gòu)成“黑箱結(jié)構(gòu)”,所述“黑箱結(jié)構(gòu)”用于阻擋外界光和雜散光,從而確保只有樣品本體的漫反射光,且經(jīng)狹縫(522)后進入,避免沒有其他的光源光進入到“黑箱結(jié)構(gòu)”中,以及用于承接安裝其上或其內(nèi)部的構(gòu)件。

8.為平面樣品優(yōu)化的高光譜成像檢測裝置的光路折疊方法,其特征在于,包括以下步驟:

9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的為平面樣品優(yōu)化的高光譜成像檢測裝置的光路折疊方法,其特征在于:所述光源結(jié)構(gòu)(521)的作用是對樣品本體進行特定角度分布、特定光譜波長特點的照明,使其產(chǎn)生反射光或熒光;

10.根據(jù)權(quán)利要求7所述的為平面樣品優(yōu)化的高光譜成像檢測裝置的光路折疊方法,其特征在于:折疊光路將來自樣品本體的漫反射光,經(jīng)過多次光學(xué)反射之后,送入到高光譜相機(512)中進行成像,同時,在光學(xué)反射過程中對光進行調(diào)制和折疊,從而減小設(shè)備整體的尺寸、減少雜散光和振動的干擾,以此獲得精準的數(shù)據(jù)。


技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明公開了為平面樣品優(yōu)化的高光譜成像檢測裝置及其光路折疊方法,屬于高光譜成像技術(shù)領(lǐng)域,通過盒底與盒蓋構(gòu)成“黑箱結(jié)構(gòu)”,其用于阻擋外界光和雜散光,確保只有樣品本體的漫反射光,且經(jīng)狹縫后進入,避免沒有其他的光源光進入到“黑箱結(jié)構(gòu)”中,本發(fā)明因為對樣品至高光譜相機之間的光路進行折疊,使設(shè)備體積和重量下降數(shù)倍,從而實現(xiàn)裝置整體體積與重量的大幅下降,且本發(fā)明使用的光源因為貼近樣品表面,因此功率需求僅為傳統(tǒng)技術(shù)的約10%,而通過對光路結(jié)構(gòu)進行折疊,在降低裝置體積和重量的同時獲取高質(zhì)量的高光譜數(shù)據(jù),從而優(yōu)化高光譜技術(shù)對于文件、字畫或屏幕等平面樣品的檢測效果,且本發(fā)明可以根據(jù)實際使用情況,自行組合使用。

技術(shù)研發(fā)人員:任哲,顏謹,韓金平,毛嘉奇,劉蘭平
受保護的技術(shù)使用者:任哲
技術(shù)研發(fā)日:
技術(shù)公布日:2024/12/23
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