本申請(qǐng)涉及激光加工，尤其涉及一種測(cè)距方法、裝置、終端設(shè)備、激光加工設(shè)備以及存儲(chǔ)介質(zhì)。

背景技術(shù)：

1、在工業(yè)生產(chǎn)中，比如激光雕切機(jī)，精確的測(cè)距可以幫助確定激光束的位置和焦點(diǎn)，以確保切割或雕刻的準(zhǔn)確性。而現(xiàn)有測(cè)距方法一般包括超聲波測(cè)距、三角測(cè)距、線(xiàn)激光式測(cè)距、對(duì)焦針測(cè)距等方法。

2、但是，一方面，超聲波測(cè)距法難以獲得較小范圍內(nèi)的最高點(diǎn)的距離信息，或是攝像頭三角測(cè)距法，需要將測(cè)距光斑斜向打在測(cè)距點(diǎn)上，使得測(cè)距的精度低；另一方面，線(xiàn)激光方法的測(cè)距步驟復(fù)雜，或是對(duì)焦針測(cè)距方法需要對(duì)焦針與測(cè)距點(diǎn)接觸，使得測(cè)距的成本高。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

1、本申請(qǐng)的主要目的在于提供一種測(cè)距方法、裝置、終端設(shè)備、激光加工設(shè)備以及存儲(chǔ)介質(zhì)，旨在解決測(cè)距的精度低、成本高的技術(shù)問(wèn)題。

2、為實(shí)現(xiàn)上述目的，本申請(qǐng)?zhí)峁┮环N測(cè)距方法，所述測(cè)距方法應(yīng)用于光峰測(cè)距傳感器，所述測(cè)距方法包括以下步驟：

3、確定所述光峰測(cè)距傳感器的基準(zhǔn)點(diǎn)；

4、在所述光峰測(cè)距傳感器在待測(cè)物體與所述基準(zhǔn)點(diǎn)之間移動(dòng)的過(guò)程中，獲得對(duì)應(yīng)的目標(biāo)光強(qiáng)波形；

5、基于所述目標(biāo)光強(qiáng)波形確定目標(biāo)光強(qiáng)波峰，并基于所述目標(biāo)光強(qiáng)波峰得到所述待測(cè)物體與所述基準(zhǔn)點(diǎn)之間的距離信息。

6、可選地，所述光峰測(cè)距傳感器包括激光單元及光敏傳感單元，

7、所述在所述光峰測(cè)距傳感器在待測(cè)物體與所述基準(zhǔn)點(diǎn)之間移動(dòng)的過(guò)程中，獲得對(duì)應(yīng)的目標(biāo)光強(qiáng)波形的步驟包括：

8、在所述激光單元發(fā)出光束且所述光束垂直于所述待測(cè)物體時(shí)，控制所述光峰測(cè)距傳感器在所述待測(cè)物體與所述基準(zhǔn)點(diǎn)之間移動(dòng)，使得所述光敏傳感單元檢測(cè)到所述目標(biāo)光強(qiáng)波形。

9、可選地，所述控制所述光峰測(cè)距傳感器在所述待測(cè)物體與所述基準(zhǔn)點(diǎn)之間移動(dòng)，使得所述光敏傳感單元檢測(cè)到所述目標(biāo)光強(qiáng)波形的步驟包括：

10、在控制所述光峰測(cè)距傳感器在所述待測(cè)物體與所述基準(zhǔn)點(diǎn)之間移動(dòng)的過(guò)程中，響應(yīng)于識(shí)別到所述待測(cè)物體進(jìn)入所述光峰測(cè)距傳感器的量程范圍，持續(xù)讀取所述光敏傳感單元檢測(cè)的光強(qiáng)度值；

11、根據(jù)所述光強(qiáng)度值確定所述目標(biāo)光強(qiáng)波形。

12、可選地，所述光敏傳感單元包括光敏傳感器及暗腔，所述暗腔設(shè)于所述光敏傳感器的檢測(cè)方向的一端，用于隔絕除所述檢測(cè)方向之外的其他光束。

13、可選地，所述暗腔的延長(zhǎng)線(xiàn)與所述激光單元發(fā)出的光束匯聚于交匯點(diǎn)，

14、當(dāng)所述激光單元發(fā)出的光束落在所述交匯點(diǎn)時(shí)，所述光敏傳感器將檢測(cè)到所述目標(biāo)光強(qiáng)波峰。

15、可選地，所述基于所述目標(biāo)光強(qiáng)波形確定目標(biāo)光強(qiáng)波峰的步驟包括：

16、分析所述目標(biāo)光強(qiáng)波形，得到若干光強(qiáng)度值；

17、選取所述若干光強(qiáng)度值中符合預(yù)設(shè)峰值條件的光強(qiáng)度值作為所述目標(biāo)光強(qiáng)波峰。

18、可選地，所述在所述光峰測(cè)距傳感器發(fā)出光束且所述光束垂直于待測(cè)物體時(shí)，通過(guò)改變所述光峰測(cè)距傳感器的高度來(lái)獲得對(duì)應(yīng)的目標(biāo)光強(qiáng)波形的步驟之前，還包括：

19、獲取所述光束與所述待測(cè)物體之間的角度，若檢測(cè)到所述光束未垂直于所述待測(cè)物體，則根據(jù)所述角度進(jìn)行方向校準(zhǔn)。

20、可選地，所述交匯點(diǎn)與所述基準(zhǔn)點(diǎn)之間的距離為第一預(yù)設(shè)距離，所述基于所述目標(biāo)光強(qiáng)波峰得到所述待測(cè)物體與所述基準(zhǔn)點(diǎn)之間的距離信息的步驟包括：

21、確定所述目標(biāo)光強(qiáng)波峰發(fā)生時(shí)所述光峰測(cè)距傳感器的移動(dòng)距離；

22、將所述光峰測(cè)距傳感器的移動(dòng)距離與所述第一預(yù)設(shè)距離相加，得到所述待測(cè)物體與所述基準(zhǔn)點(diǎn)之間的距離信息。

23、本申請(qǐng)實(shí)施例還提出一種測(cè)距裝置，所述測(cè)距裝置應(yīng)用于光峰測(cè)距傳感器，包括：

24、確定模塊，用于確定光峰測(cè)距傳感器的基準(zhǔn)點(diǎn)；

25、控制模塊，用于在所述光峰測(cè)距傳感器在待測(cè)物體與所述基準(zhǔn)點(diǎn)之間移動(dòng)的過(guò)程中，獲得對(duì)應(yīng)的目標(biāo)光強(qiáng)波形；

26、距離計(jì)算模塊，用于基于所述目標(biāo)光強(qiáng)波形確定目標(biāo)光強(qiáng)波峰，并基于所述目標(biāo)光強(qiáng)波峰得到所述待測(cè)物體與所述基準(zhǔn)點(diǎn)之間的距離信息。

27、本申請(qǐng)實(shí)施例還提出一種終端設(shè)備，所述終端設(shè)備包括存儲(chǔ)器、處理器及存儲(chǔ)在所述存儲(chǔ)器上并可在所述處理器上運(yùn)行的測(cè)距程序，所述測(cè)距程序被所述處理器執(zhí)行時(shí)實(shí)現(xiàn)如上所述的測(cè)距方法的步驟。

28、本申請(qǐng)實(shí)施例還提出一種激光加工設(shè)備，包括：

29、滑軌；

30、光峰測(cè)距傳感器，所述光峰距離傳感器包括激光單元及光敏傳感單元，所述光峰距離傳感器可滑動(dòng)地設(shè)置于所述滑軌上；

31、通信組件，所述通信組件用于接收根據(jù)如上所述的測(cè)距方法的步驟得到的所述待測(cè)物體與所述基準(zhǔn)點(diǎn)之間的距離信息；

32、控制器，所述控制器控制所述光峰測(cè)距傳感器在所述滑軌上移動(dòng)以進(jìn)行測(cè)距處理。

33、本申請(qǐng)實(shí)施例還提出一種計(jì)算機(jī)可讀存儲(chǔ)介質(zhì)，所述計(jì)算機(jī)可讀存儲(chǔ)介質(zhì)上存儲(chǔ)有測(cè)距程序，所述測(cè)距程序被處理器執(zhí)行時(shí)實(shí)現(xiàn)如上所述的測(cè)距方法的步驟。

34、本申請(qǐng)實(shí)施例提出的測(cè)距方法、裝置、終端設(shè)備、激光加工設(shè)備以及存儲(chǔ)介質(zhì)，所述測(cè)距方法應(yīng)用于光峰測(cè)距傳感器，通過(guò)確定所述光峰測(cè)距傳感器的基準(zhǔn)點(diǎn)；在所述光峰測(cè)距傳感器在待測(cè)物體與所述基準(zhǔn)點(diǎn)之間移動(dòng)的過(guò)程中，獲得對(duì)應(yīng)的目標(biāo)光強(qiáng)波形；基于所述目標(biāo)光強(qiáng)波形確定目標(biāo)光強(qiáng)波峰，并基于所述目標(biāo)光強(qiáng)波峰得到所述待測(cè)物體與所述基準(zhǔn)點(diǎn)之間的距離信息?；诒旧暾?qǐng)方案，將光峰測(cè)距傳感器的光束與待測(cè)物體保持穩(wěn)定的位置關(guān)系實(shí)現(xiàn)測(cè)距，也即，在光峰測(cè)距傳感器發(fā)出光束且光束垂直于待測(cè)物體時(shí)，通過(guò)控制光峰測(cè)距傳感器在待測(cè)物體與基準(zhǔn)點(diǎn)之間移動(dòng)得到對(duì)應(yīng)的目標(biāo)光強(qiáng)波形，通過(guò)分析目標(biāo)光強(qiáng)波形確定目標(biāo)光強(qiáng)波峰，進(jìn)而確定待測(cè)物體與基準(zhǔn)點(diǎn)之間的距離信息，解決了測(cè)距的精度低、成本高的技術(shù)問(wèn)題，可以提高測(cè)距精度，減小測(cè)距誤差，并降低成本。

技術(shù)特征：

1.一種測(cè)距方法，其特征在于，所述測(cè)距方法應(yīng)用于光峰測(cè)距傳感器，所述測(cè)距方法包括以下步驟：

2.如權(quán)利要求1所述的測(cè)距方法，其特征在于，所述光峰測(cè)距傳感器包括激光單元及光敏傳感單元，

3.如權(quán)利要求2所述的測(cè)距方法，其特征在于，所述控制所述光峰測(cè)距傳感器在所述待測(cè)物體與所述基準(zhǔn)點(diǎn)之間移動(dòng)，使得所述光敏傳感單元檢測(cè)到所述目標(biāo)光強(qiáng)波形的步驟包括：

4.如權(quán)利要求2所述的測(cè)距方法，其特征在于，所述光敏傳感單元包括光敏傳感器及暗腔，所述暗腔設(shè)于所述光敏傳感器的檢測(cè)方向的一端，用于隔絕除所述檢測(cè)方向之外的其他光束。

5.如權(quán)利要求4所述的測(cè)距方法，其特征在于，所述暗腔的延長(zhǎng)線(xiàn)與所述激光單元發(fā)出的光束匯聚于交匯點(diǎn)，

6.如權(quán)利要求1所述的測(cè)距方法，其特征在于，所述基于所述目標(biāo)光強(qiáng)波形確定目標(biāo)光強(qiáng)波峰的步驟包括：

7.如權(quán)利要求1所述的測(cè)距方法，其特征在于，所述在所述光峰測(cè)距傳感器發(fā)出光束且所述光束垂直于待測(cè)物體時(shí)，通過(guò)改變所述光峰測(cè)距傳感器的高度來(lái)獲得對(duì)應(yīng)的目標(biāo)光強(qiáng)波形的步驟之前，還包括：

8.如權(quán)利要求5所述的測(cè)距方法，其特征在于，所述交匯點(diǎn)與所述基準(zhǔn)點(diǎn)之間的距離為第一預(yù)設(shè)距離，所述基于所述目標(biāo)光強(qiáng)波峰得到所述待測(cè)物體與所述基準(zhǔn)點(diǎn)之間的距離信息的步驟包括：

9.一種測(cè)距裝置，其特征在于，所述測(cè)距裝置應(yīng)用于光峰測(cè)距傳感器，包括：

10.一種終端設(shè)備，其特征在于，所述終端設(shè)備包括存儲(chǔ)器、處理器及存儲(chǔ)在所述存儲(chǔ)器上并可在所述處理器上運(yùn)行的測(cè)距程序，所述測(cè)距程序被所述處理器執(zhí)行時(shí)實(shí)現(xiàn)如權(quán)利要求1至8中任一項(xiàng)所述的測(cè)距方法的步驟。

11.一種激光加工設(shè)備，其特征在于，包括：

12.一種計(jì)算機(jī)可讀存儲(chǔ)介質(zhì)，其特征在于，所述計(jì)算機(jī)可讀存儲(chǔ)介質(zhì)上存儲(chǔ)有測(cè)距程序，所述測(cè)距程序被處理器執(zhí)行時(shí)實(shí)現(xiàn)如權(quán)利要求1至8中任一項(xiàng)所述的測(cè)距方法的步驟。

技術(shù)總結(jié)
本申請(qǐng)公開(kāi)了一種測(cè)距方法、裝置、終端設(shè)備、激光加工設(shè)備以及存儲(chǔ)介質(zhì)，測(cè)距方法應(yīng)用于光峰測(cè)距傳感器，通過(guò)確定光峰測(cè)距傳感器的基準(zhǔn)點(diǎn)；在光峰測(cè)距傳感器在待測(cè)物體與基準(zhǔn)點(diǎn)之間移動(dòng)的過(guò)程中，獲得對(duì)應(yīng)的目標(biāo)光強(qiáng)波形；基于目標(biāo)光強(qiáng)波形確定目標(biāo)光強(qiáng)波峰，并基于目標(biāo)光強(qiáng)波峰得到待測(cè)物體與基準(zhǔn)點(diǎn)之間的距離信息。通過(guò)控制光峰測(cè)距傳感器在待測(cè)物體與基準(zhǔn)點(diǎn)之間移動(dòng)得到對(duì)應(yīng)的目標(biāo)光強(qiáng)波形，通過(guò)分析目標(biāo)光強(qiáng)波形確定目標(biāo)光強(qiáng)波峰，進(jìn)而確定待測(cè)物體與基準(zhǔn)點(diǎn)之間的距離信息，解決了測(cè)距的精度低、成本高的技術(shù)問(wèn)題，可以提高測(cè)距精度，減小測(cè)距誤差，并降低成本。

技術(shù)研發(fā)人員：余揚(yáng)帆
受保護(hù)的技術(shù)使用者：深圳市創(chuàng)客工場(chǎng)科技有限公司
技術(shù)研發(fā)日：
技術(shù)公布日：2024/12/23