本發(fā)明屬于阻抗測(cè)試，尤其涉及一種貼有電磁屏蔽膜的線路的阻抗測(cè)試方法及系統(tǒng)。

背景技術(shù)：

1、在直流電路中，電阻是唯一決定電流大小的因素，然而，在交流電路中，除了電阻，電容和電感也會(huì)對(duì)電流產(chǎn)生影響。阻抗，是衡量交流電路中電流流動(dòng)阻力的量度，不僅包括了電阻，還包括了由于電容或電感引起的電抗。阻抗測(cè)試，是測(cè)量電子電路或系統(tǒng)中元件對(duì)于交流信號(hào)阻礙作用的技術(shù)。

2、現(xiàn)有技術(shù)中，對(duì)于線路的阻抗測(cè)試，具有較多的測(cè)試方法，包括矢量網(wǎng)絡(luò)分析儀、lcr表和阻抗分析儀等，然而，對(duì)于貼有電磁屏蔽膜的線路的阻抗測(cè)試，則沒(méi)有標(biāo)準(zhǔn)、可靠、高效的測(cè)試方法。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

1、本發(fā)明實(shí)施例的目的在于提供一種貼有電磁屏蔽膜的線路的阻抗測(cè)試方法及系統(tǒng)，旨在解決背景技術(shù)中提出的問(wèn)題。

2、為實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明實(shí)施例提供如下技術(shù)方案：

3、一種貼有電磁屏蔽膜的線路的阻抗測(cè)試方法，所述方法具體包括以下步驟：

4、對(duì)完成放置的貼有電磁屏蔽膜的待測(cè)試線路板進(jìn)行水平和豎直對(duì)準(zhǔn)拍攝，并進(jìn)行精準(zhǔn)定位識(shí)別，判斷是否處于標(biāo)準(zhǔn)放置狀態(tài)；

5、在處于標(biāo)準(zhǔn)放置狀態(tài)時(shí)，對(duì)所述待測(cè)試線路板進(jìn)行電磁屏蔽膜的視覺(jué)掃描與缺陷分析，判斷是否處于標(biāo)準(zhǔn)外觀狀態(tài)；

6、在處于標(biāo)準(zhǔn)外觀狀態(tài)時(shí)，自動(dòng)連接所述待測(cè)試線路板的多個(gè)測(cè)試點(diǎn)，執(zhí)行預(yù)設(shè)的頻率掃描任務(wù)進(jìn)行線路阻抗測(cè)試，采集阻抗測(cè)試數(shù)據(jù)；

7、基于預(yù)設(shè)的阻抗規(guī)范數(shù)據(jù)，對(duì)所述阻抗測(cè)試數(shù)據(jù)進(jìn)行分析與對(duì)比，記錄阻抗測(cè)試結(jié)果；

8、按照預(yù)設(shè)的測(cè)試報(bào)告模版，對(duì)所述阻抗測(cè)試結(jié)果進(jìn)行數(shù)據(jù)填充，生成并上傳阻抗測(cè)試報(bào)告。

9、作為本發(fā)明實(shí)施例技術(shù)方案進(jìn)一步的限定，所述對(duì)完成放置的貼有電磁屏蔽膜的待測(cè)試線路板進(jìn)行水平和豎直對(duì)準(zhǔn)拍攝，并進(jìn)行精準(zhǔn)定位識(shí)別，判斷是否處于標(biāo)準(zhǔn)放置狀態(tài)具體包括以下步驟：

10、對(duì)貼有電磁屏蔽膜的待測(cè)試線路板進(jìn)行放置監(jiān)測(cè)，在完成放置之后，生成水平拍攝信號(hào)和豎直拍攝信號(hào)；

11、按照所述水平拍攝信號(hào)，對(duì)所述待測(cè)試線路板進(jìn)行水平拍攝，獲取水平拍攝圖像；

12、按照所述豎直拍攝信號(hào)，對(duì)所述待測(cè)試線路板進(jìn)行豎直拍攝，獲取豎直拍攝圖像；

13、對(duì)所述水平拍攝圖像進(jìn)行高度識(shí)別，對(duì)所述豎直拍攝圖像進(jìn)行定位識(shí)別，判斷是否處于標(biāo)準(zhǔn)放置狀態(tài)。

14、作為本發(fā)明實(shí)施例技術(shù)方案進(jìn)一步的限定，所述在處于標(biāo)準(zhǔn)放置狀態(tài)時(shí)，對(duì)所述待測(cè)試線路板進(jìn)行電磁屏蔽膜的視覺(jué)掃描與缺陷分析，判斷是否處于標(biāo)準(zhǔn)外觀狀態(tài)具體包括以下步驟：

15、在處于標(biāo)準(zhǔn)放置狀態(tài)時(shí)，生成視覺(jué)掃描指令；

16、按照所述視覺(jué)掃描指令，對(duì)所述待測(cè)試線路板進(jìn)行電磁屏蔽膜的視覺(jué)掃描，獲取多個(gè)視覺(jué)掃描圖像；

17、對(duì)多個(gè)所述視覺(jué)掃描圖像進(jìn)行裁切拼接，獲取標(biāo)準(zhǔn)視覺(jué)圖像；

18、對(duì)所述標(biāo)準(zhǔn)視覺(jué)圖像進(jìn)行特征識(shí)別，記錄特征識(shí)別信息；

19、對(duì)所述特征識(shí)別信息進(jìn)行缺陷分析，判斷是否處于標(biāo)準(zhǔn)外觀狀態(tài)。

20、作為本發(fā)明實(shí)施例技術(shù)方案進(jìn)一步的限定，所述在處于標(biāo)準(zhǔn)外觀狀態(tài)時(shí)，自動(dòng)連接所述待測(cè)試線路板的多個(gè)測(cè)試點(diǎn)，執(zhí)行預(yù)設(shè)的頻率掃描任務(wù)進(jìn)行線路阻抗測(cè)試，采集阻抗測(cè)試數(shù)據(jù)具體包括以下步驟：

21、在處于標(biāo)準(zhǔn)外觀狀態(tài)時(shí)，生成測(cè)試連接指令；

22、按照所述測(cè)試連接指令，自動(dòng)連接所述待測(cè)試線路板的多個(gè)測(cè)試點(diǎn)；

23、執(zhí)行預(yù)設(shè)的頻率掃描任務(wù)進(jìn)行線路阻抗測(cè)試；

24、在線路阻抗測(cè)試過(guò)程中，采集阻抗測(cè)試數(shù)據(jù)。

25、作為本發(fā)明實(shí)施例技術(shù)方案進(jìn)一步的限定，所述基于預(yù)設(shè)的阻抗規(guī)范數(shù)據(jù)，對(duì)所述阻抗測(cè)試數(shù)據(jù)進(jìn)行分析與對(duì)比，記錄阻抗測(cè)試結(jié)果具體包括以下步驟：

26、對(duì)所述阻抗測(cè)試數(shù)據(jù)進(jìn)行阻抗分析，獲取特性阻抗數(shù)據(jù)；

27、對(duì)所述阻抗測(cè)試數(shù)據(jù)進(jìn)行駐波比分析，獲取駐波比數(shù)據(jù)；

28、基于預(yù)設(shè)的阻抗規(guī)范數(shù)據(jù)，所述特性阻抗數(shù)據(jù)和所述駐波比數(shù)據(jù)進(jìn)行對(duì)比，記錄阻抗測(cè)試結(jié)果。

29、作為本發(fā)明實(shí)施例技術(shù)方案進(jìn)一步的限定，所述按照預(yù)設(shè)的測(cè)試報(bào)告模版，對(duì)所述阻抗測(cè)試結(jié)果進(jìn)行數(shù)據(jù)填充，生成并上傳阻抗測(cè)試報(bào)告具體包括以下步驟：

30、獲取阻抗測(cè)試時(shí)間；

31、按照所述阻抗測(cè)試時(shí)間和預(yù)設(shè)的測(cè)試報(bào)告模版，生成當(dāng)前報(bào)告模版；

32、在所述當(dāng)前報(bào)告模版中，對(duì)所述阻抗測(cè)試結(jié)果進(jìn)行數(shù)據(jù)填充，生成阻抗測(cè)試報(bào)告；

33、按照預(yù)設(shè)的上傳地址，上傳所述阻抗測(cè)試報(bào)告。

34、一種貼有電磁屏蔽膜的線路的阻抗測(cè)試系統(tǒng)，所述系統(tǒng)包括精準(zhǔn)定位識(shí)別單元、屏蔽膜缺陷分析單元、線路阻抗測(cè)試單元、阻抗測(cè)試分析單元和報(bào)告生成上傳單元，其中：

35、精準(zhǔn)定位識(shí)別單元，用于對(duì)完成放置的貼有電磁屏蔽膜的待測(cè)試線路板進(jìn)行水平和豎直對(duì)準(zhǔn)拍攝，并進(jìn)行精準(zhǔn)定位識(shí)別，判斷是否處于標(biāo)準(zhǔn)放置狀態(tài)；

36、屏蔽膜缺陷分析單元，用于在處于標(biāo)準(zhǔn)放置狀態(tài)時(shí)，對(duì)所述待測(cè)試線路板進(jìn)行電磁屏蔽膜的視覺(jué)掃描與缺陷分析，判斷是否處于標(biāo)準(zhǔn)外觀狀態(tài)；

37、線路阻抗測(cè)試單元，用于在處于標(biāo)準(zhǔn)外觀狀態(tài)時(shí)，自動(dòng)連接所述待測(cè)試線路板的多個(gè)測(cè)試點(diǎn)，執(zhí)行預(yù)設(shè)的頻率掃描任務(wù)進(jìn)行線路阻抗測(cè)試，采集阻抗測(cè)試數(shù)據(jù)；

38、阻抗測(cè)試分析單元，用于基于預(yù)設(shè)的阻抗規(guī)范數(shù)據(jù)，對(duì)所述阻抗測(cè)試數(shù)據(jù)進(jìn)行分析與對(duì)比，記錄阻抗測(cè)試結(jié)果；

39、報(bào)告生成上傳單元，用于按照預(yù)設(shè)的測(cè)試報(bào)告模版，對(duì)所述阻抗測(cè)試結(jié)果進(jìn)行數(shù)據(jù)填充，生成并上傳阻抗測(cè)試報(bào)告。

40、作為本發(fā)明實(shí)施例技術(shù)方案進(jìn)一步的限定，所述精準(zhǔn)定位識(shí)別單元具體包括：

41、放置監(jiān)測(cè)模塊，用于對(duì)貼有電磁屏蔽膜的待測(cè)試線路板進(jìn)行放置監(jiān)測(cè)，在完成放置之后，生成水平拍攝信號(hào)和豎直拍攝信號(hào)；

42、水平拍攝模塊，用于按照所述水平拍攝信號(hào)，對(duì)所述待測(cè)試線路板進(jìn)行水平拍攝，獲取水平拍攝圖像；

43、豎直拍攝模塊，用于按照所述豎直拍攝信號(hào)，對(duì)所述待測(cè)試線路板進(jìn)行豎直拍攝，獲取豎直拍攝圖像；

44、定位識(shí)別模塊，用于對(duì)所述水平拍攝圖像進(jìn)行高度識(shí)別，對(duì)所述豎直拍攝圖像進(jìn)行定位識(shí)別，判斷是否處于標(biāo)準(zhǔn)放置狀態(tài)。

45、作為本發(fā)明實(shí)施例技術(shù)方案進(jìn)一步的限定，所述屏蔽膜缺陷分析單元具體包括：

46、掃描指令生成模塊，用于在處于標(biāo)準(zhǔn)放置狀態(tài)時(shí)，生成視覺(jué)掃描指令；

47、視覺(jué)掃描模塊，用于按照所述視覺(jué)掃描指令，對(duì)所述待測(cè)試線路板進(jìn)行電磁屏蔽膜的視覺(jué)掃描，獲取多個(gè)視覺(jué)掃描圖像；

48、裁切拼接模塊，用于對(duì)多個(gè)所述視覺(jué)掃描圖像進(jìn)行裁切拼接，獲取標(biāo)準(zhǔn)視覺(jué)圖像；

49、特征識(shí)別模塊，用于對(duì)所述標(biāo)準(zhǔn)視覺(jué)圖像進(jìn)行特征識(shí)別，記錄特征識(shí)別信息；

50、缺陷分析模塊，用于對(duì)所述特征識(shí)別信息進(jìn)行缺陷分析，判斷是否處于標(biāo)準(zhǔn)外觀狀態(tài)。

51、作為本發(fā)明實(shí)施例技術(shù)方案進(jìn)一步的限定，所述報(bào)告生成上傳單元具體包括：

52、時(shí)間獲取模塊，用于獲取阻抗測(cè)試時(shí)間；

53、模版生成模塊，用于按照所述阻抗測(cè)試時(shí)間和預(yù)設(shè)的測(cè)試報(bào)告模版，生成當(dāng)前報(bào)告模版；

54、數(shù)據(jù)填充模塊，用于在所述當(dāng)前報(bào)告模版中，對(duì)所述阻抗測(cè)試結(jié)果進(jìn)行數(shù)據(jù)填充，生成阻抗測(cè)試報(bào)告；

55、報(bào)告上傳模塊，用于按照預(yù)設(shè)的上傳地址，上傳所述阻抗測(cè)試報(bào)告。

56、與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明的有益效果是：

57、本發(fā)明實(shí)施例通過(guò)對(duì)完成放置的貼有電磁屏蔽膜的待測(cè)試線路板進(jìn)行精準(zhǔn)定位識(shí)別；在處于標(biāo)準(zhǔn)放置狀態(tài)時(shí)，進(jìn)行電磁屏蔽膜的視覺(jué)掃描與缺陷分析；在處于標(biāo)準(zhǔn)外觀狀態(tài)時(shí)，進(jìn)行線路阻抗測(cè)試，采集阻抗測(cè)試數(shù)據(jù)；基于阻抗規(guī)范數(shù)據(jù)，對(duì)阻抗測(cè)試數(shù)據(jù)進(jìn)行分析與對(duì)比，記錄阻抗測(cè)試結(jié)果；按照預(yù)設(shè)的測(cè)試報(bào)告模版，對(duì)阻抗測(cè)試結(jié)果進(jìn)行數(shù)據(jù)填充，生成并上傳阻抗測(cè)試報(bào)告。能夠進(jìn)行精準(zhǔn)定位識(shí)別、電磁屏蔽膜的視覺(jué)掃描與缺陷分析，再進(jìn)行線路阻抗測(cè)試，記錄阻抗測(cè)試結(jié)果，生成并上傳阻抗測(cè)試報(bào)告，對(duì)于貼有電磁屏蔽膜的線路，實(shí)現(xiàn)標(biāo)準(zhǔn)、可靠、高效的阻抗測(cè)試。