本公開涉及x射線光電子能譜檢測領(lǐng)域，特別涉及一種x射線光電子能譜的處理方法以及x射線光電子能譜系統(tǒng)。

背景技術(shù)：

1、x射線光電子能譜儀廣泛應(yīng)用于工業(yè)量測，在儀器參數(shù)設(shè)置相同的情況下，針對同一樣品的不同次測量得到的光電子能譜會有差異，造成這種差異的主要原因，一是探測器接收到的光電子數(shù)服從泊松分布，二是電源等硬件的輸出也存在不確定度。為了提升x射線光電子能譜儀運(yùn)行的穩(wěn)定性，通常有兩種措施：一是提升x光的強(qiáng)度，但這會導(dǎo)致儀器壽命下降；二是延長采譜時間，但這會導(dǎo)致工作效率降低。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

1、本公開提供了一種x射線光電子能譜的處理方法，包括：

2、接收x射線光電子能譜數(shù)據(jù)；以及

3、通過有限沖激響應(yīng)(fir)濾波器，對x射線光電子能譜數(shù)據(jù)進(jìn)行濾波，以得到經(jīng)濾波的x射線光電子能譜數(shù)據(jù)。

4、本公開還提供了一種x射線光電子能譜系統(tǒng)，包括：

5、x射線光電子能譜儀，用于采集x射線光電子能譜數(shù)據(jù)；以及

6、處理器，與x射線光電子能譜儀通信連接，處理器被配置成執(zhí)行根據(jù)本公開任一項(xiàng)實(shí)施例中的x射線光電子能譜的處理方法，以對x射線光電子能譜儀所采集的x射線光電子能譜數(shù)據(jù)進(jìn)行濾波，以得到經(jīng)濾波的x射線光電子能譜數(shù)據(jù)。

7、本公開還提供了一種計(jì)算機(jī)設(shè)備，包括：

8、存儲器，用于存儲至少一條指令；以及

9、處理器，與存儲器耦合并且用于執(zhí)行至少一條指令以執(zhí)行根據(jù)本公開任一項(xiàng)實(shí)施例中的x射線光電子能譜的處理方法。

10、本公開還提供了一種計(jì)算機(jī)可讀存儲介質(zhì)，用于存儲至少一條指令，至少一條指令由計(jì)算機(jī)設(shè)備執(zhí)行時致使計(jì)算機(jī)執(zhí)行根據(jù)本公開任一項(xiàng)實(shí)施例中的x射線光電子能譜的處理方法。

技術(shù)特征：

1.一種x射線光電子能譜的處理方法，其特征在于，包括：

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的x射線光電子能譜的處理方法，其特征在于，所述fir濾波器包括n個濾波器系數(shù)，其中n是大于1的整數(shù)，

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的x射線光電子能譜的處理方法，其特征在于，所述x射線光電子能譜數(shù)據(jù)包括m個數(shù)值，其中m是大于n的整數(shù)，

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的x射線光電子能譜的處理方法，其特征在于，

5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的x射線光電子能譜的處理方法，其特征在于，所述n個濾波器系數(shù)是基于所述fir濾波器的截止頻率和預(yù)定的階數(shù)n確定的。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的x射線光電子能譜的處理方法，其特征在于，所述n個濾波器系數(shù)是基于所述fir濾波器的截止頻率和sinc函數(shù)確定的。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的x射線光電子能譜的處理方法，其特征在于，所述n個濾波器系數(shù)是基于所述fir濾波器的截止頻率和sinc函數(shù)和blackman窗函數(shù)的乘積確定的。

8.根據(jù)權(quán)利要求5所述的x射線光電子能譜的處理方法，其特征在于，所述fir濾波器的截止頻率是基于先前x射線光電子能譜數(shù)據(jù)預(yù)先確定的。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的x射線光電子能譜的處理方法，其特征在于，所述fir濾波器的截止頻率是基于經(jīng)濾波的x射線光電子能譜面積的相對標(biāo)準(zhǔn)偏差與x射線光電子能譜面積的相對標(biāo)準(zhǔn)偏差之差以及模擬標(biāo)準(zhǔn)差確定的。

10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的x射線光電子能譜的處理方法，其特征在于，所述模擬標(biāo)準(zhǔn)差是基于由所述先前x射線光電子能譜數(shù)據(jù)生成的多組模擬x射線光電子能譜數(shù)據(jù)的x射線光電子能譜面積的相對標(biāo)準(zhǔn)偏差確定的。

11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的x射線光電子能譜的處理方法，其特征在于，每組模擬x射線光電子能譜數(shù)據(jù)的x射線光電子能譜面積的相對標(biāo)準(zhǔn)偏差是基于每組模擬x射線光電子能譜數(shù)據(jù)中的每個模擬x射線光電子能譜數(shù)據(jù)的x射線光電子能譜面積確定的。

12.根據(jù)權(quán)利要求10所述的x射線光電子能譜的處理方法，其特征在于，所述多組模擬x射線光電子能譜數(shù)據(jù)是通過將所述先前x射線光電子能譜數(shù)據(jù)中的任意一個計(jì)數(shù)譜按泊松分布生成多個模擬x射線光電子能譜數(shù)據(jù)并且將所述多個模擬x射線光電子能譜平均分組而產(chǎn)生的。

13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的x射線光電子能譜的處理方法，其特征在于，所述每個模擬x射線光電子能譜數(shù)據(jù)的x射線光電子能譜面積是在對所述每個模擬x射線光電子能譜數(shù)據(jù)進(jìn)行能譜背景的扣除后計(jì)算得到的。

14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的x射線光電子能譜的處理方法，其特征在于，所述能譜背景包括基于多項(xiàng)式擬合的能譜背景，所述x射線光電子能譜面積是基于通過高斯函數(shù)與洛倫茨函數(shù)的和函數(shù)確定的多個能譜參數(shù)而計(jì)算得到的。

15.一種x射線光電子能譜系統(tǒng)，其特征在于，包括：

16.一種計(jì)算機(jī)設(shè)備，其特征在于，所述計(jì)算機(jī)設(shè)備包括：

17.一種計(jì)算機(jī)可讀存儲介質(zhì)，用于存儲至少一條指令，其特征在于，所述至少一條指令由計(jì)算機(jī)設(shè)備執(zhí)行時致使計(jì)算機(jī)執(zhí)行根據(jù)權(quán)利要求1-14中任一項(xiàng)所述的x射線光電子能譜的處理方法。

技術(shù)總結(jié)
本公開涉及X射線光電子能譜檢測領(lǐng)域，公開了一種X射線光電子能譜的處理方法以及X射線光電子能譜系統(tǒng)。X射線光電子能譜的處理方法，包括：接收X射線光電子能譜數(shù)據(jù)；以及通過有限沖激響應(yīng)(FIR)濾波器，對X射線光電子能譜數(shù)據(jù)進(jìn)行濾波，以得到經(jīng)濾波的X射線光電子能譜數(shù)據(jù)。

技術(shù)研發(fā)人員：李鑫,胡鵬,趙嘉峰
受保護(hù)的技術(shù)使用者：費(fèi)勉儀器科技（上海）有限公司
技術(shù)研發(fā)日：
技術(shù)公布日：2025/1/2