本發(fā)明涉及水下設(shè)備領(lǐng)域,尤其涉及一種定位基陣及水下設(shè)備。
背景技術(shù):
1、基線基陣是水下聲學(xué)定位系統(tǒng)中用于確定水下載體或設(shè)備方位、距離的技術(shù),根據(jù)基陣基線長度的不同,可以分為長基線、短基線和超短基線三種類型,每種類型都有其特定的應(yīng)用場景和優(yōu)缺點(diǎn)。
2、相比于長基線和短基線系統(tǒng),超短基線以其成本低而受到青睞。超短基線的換能器可以與小型慣導(dǎo)系統(tǒng)進(jìn)行集成安裝,各傳感器之間的相對偏移量在出廠前已進(jìn)行內(nèi)部標(biāo)定并固化在系統(tǒng)內(nèi)部程序中,確保了系統(tǒng)的高精度導(dǎo)航定位,因此可以免去繁瑣的作業(yè)現(xiàn)場校準(zhǔn)工作。
3、超短基線主要由殼體、發(fā)射換能器以及接收基陣組成,現(xiàn)有的超短基線安裝于水下設(shè)備的表面,超短基線在水下設(shè)備運(yùn)動(dòng)過程中受到了較大阻力,殼體表面與水接觸產(chǎn)生較大的再生噪音,影響了超短基線在接收狀態(tài)下的性能。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路
1、本發(fā)明提供一種定位基陣,用以解決現(xiàn)有的超短基線因?yàn)榱髯璐髮?dǎo)致的再生噪音較大的問題。
2、本發(fā)明提供一種定位基陣,包括:
3、法蘭;
4、殼體,所述殼體設(shè)置于所述法蘭的一側(cè),所述殼體與所述法蘭密封配合;沿所述定位基陣的行進(jìn)方向所做的截面為縱向截面,沿垂直所述定位基陣的行進(jìn)方向所做的截面為橫向截面,所述殼體的多個(gè)橫向截面的高度沿所述定位基陣的行進(jìn)方向逐漸減小,所述殼體的每個(gè)橫向截面的寬度沿遠(yuǎn)離所述法蘭的方向逐漸減?。?/p>
5、電子組件,設(shè)置于所述殼體內(nèi)并與所述法蘭連接。
6、根據(jù)本發(fā)明提供的一種定位基陣,所述殼體呈魚背鰭型。
7、根據(jù)本發(fā)明提供的一種定位基陣,所述殼體包括:
8、兩個(gè)側(cè)面,兩個(gè)所述側(cè)面對稱設(shè)置;
9、背鰭面,所述背鰭面位于兩個(gè)所述側(cè)面遠(yuǎn)離所述法蘭的一側(cè),所述背鰭面分別與兩個(gè)所述側(cè)面連接;
10、后端面,所述后端面位于所述殼體背離所述定位基陣的行進(jìn)方向的一側(cè),所述后端面分別與所述背鰭面以及兩個(gè)所述側(cè)面連接。
11、根據(jù)本發(fā)明提供的一種定位基陣,所述背鰭面的橫向截面呈第一弧形。
12、根據(jù)本發(fā)明提供的一種定位基陣,所述背鰭面的縱向截面呈第二弧形。
13、根據(jù)本發(fā)明提供的一種定位基陣,所述第二弧形的曲率沿所述背鰭面遠(yuǎn)離所述法蘭的方向逐漸減小。
14、根據(jù)本發(fā)明提供的一種定位基陣,所述后端面為向所述殼體內(nèi)部凹陷的弧面。
15、根據(jù)本發(fā)明提供的一種定位基陣,所述側(cè)面包括位于靠近所述背鰭面一側(cè)的連接面和位于遠(yuǎn)離所述背鰭面一側(cè)的主側(cè)面,所述主側(cè)面通過所述連接面與所述背鰭面連接,所述連接面為向所述殼體內(nèi)部凹陷的弧面。
16、根據(jù)本發(fā)明提供的一種定位基陣,所述電子組件包括:
17、發(fā)射換能器,與所述法蘭連接;
18、多個(gè)接收基陣,多個(gè)所述接收基陣間隔設(shè)置于所述發(fā)射換能器的外周,并與所述法蘭連接。
19、本發(fā)明還提供一種水下設(shè)備,所述水下設(shè)備包括上述任一項(xiàng)所述的定位基陣。
20、本發(fā)明提供的定位基陣,通過使殼體的多個(gè)橫向截面的高度沿定位基陣的行進(jìn)方向逐漸減小,并使殼體的每個(gè)橫向截面的寬度沿遠(yuǎn)離法蘭的方向逐漸減小,從而構(gòu)成了魚背鰭型殼體,有效減小了定位基陣在水下設(shè)備運(yùn)動(dòng)過程中受到的阻力;同時(shí)由于流阻的降低,降低了殼體表面與水接觸產(chǎn)生的再生噪音,降低了再生噪音對定位基陣接收性能的影響。
1.一種定位基陣,其特征在于,包括:
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的定位基陣,其特征在于,所述殼體(200)呈魚背鰭型。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的定位基陣,其特征在于,所述殼體(200)包括:
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的定位基陣,其特征在于,所述背鰭面(220)的橫向截面呈第一弧形。
5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的定位基陣,其特征在于,所述背鰭面(220)的縱向截面呈第二弧形。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的定位基陣,其特征在于,所述第二弧形的曲率沿所述背鰭面(220)遠(yuǎn)離所述法蘭的方向逐漸減小。
7.根據(jù)權(quán)利要求3至6任一項(xiàng)所述的定位基陣,其特征在于,所述后端面(230)為向所述殼體(200)內(nèi)部凹陷的弧面。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的定位基陣,其特征在于,所述側(cè)面(210)包括位于靠近所述背鰭面(220)一側(cè)的連接面(211)和位于遠(yuǎn)離所述背鰭面(220)一側(cè)的主側(cè)面(212),所述主側(cè)面(212)通過所述連接面(211)與所述背鰭面(220)連接,所述連接面(211)為向所述殼體(200)內(nèi)部凹陷的弧面。
9.根據(jù)權(quán)利要求1至6任一項(xiàng)所述的定位基陣,其特征在于,所述電子組件(300)包括:
10.一種水下設(shè)備,其特征在于,所述水下設(shè)備包括權(quán)利要求1至9任一項(xiàng)所述的定位基陣。