本發(fā)明屬于無(wú)損檢測(cè)信號(hào)處理,尤其涉及一種缺陷尺寸量化方法。
背景技術(shù):
1、絕緣構(gòu)件被廣泛應(yīng)用于油氣勘探、開采、運(yùn)輸、加工及存儲(chǔ)過(guò)程中,然而受腐蝕、使用磨損等因素的影響,絕緣構(gòu)件失效問(wèn)題廣泛存在,因此需要對(duì)絕緣材質(zhì)、尤其是高衰減材質(zhì)進(jìn)行及時(shí)的檢測(cè)。
2、其中,電容成像檢測(cè)技術(shù)是實(shí)現(xiàn)對(duì)絕緣構(gòu)件檢測(cè)的一項(xiàng)可行解決方案。發(fā)明人在進(jìn)一步研究后發(fā)現(xiàn),在電容成像檢測(cè)技術(shù)發(fā)展初期,受限于理論知識(shí)和數(shù)據(jù)處理能力,只能對(duì)絕緣構(gòu)件缺陷的存在和位置進(jìn)行判斷。通常是將電容成像檢測(cè)數(shù)據(jù)通過(guò)數(shù)據(jù)可視化方法轉(zhuǎn)換為數(shù)據(jù)圖像,通過(guò)繪制出圖像曲線來(lái)判斷缺陷的存在。而對(duì)于缺陷的具體尺寸,只能通過(guò)技術(shù)人員的經(jīng)驗(yàn)來(lái)判斷,缺乏相關(guān)理論支持,可靠度低。然而隨著工業(yè)生產(chǎn)需求的逐步提高,僅僅對(duì)缺陷的存在和位置進(jìn)行判斷已經(jīng)無(wú)法滿足工業(yè)應(yīng)用需求,缺陷尺寸參數(shù)量化的準(zhǔn)確性和效率逐漸成為一個(gè)重要的技術(shù)指標(biāo),數(shù)據(jù)處理時(shí)要求對(duì)絕緣構(gòu)件缺陷進(jìn)行高精度的量化,其向缺陷尺寸參數(shù)量化方向發(fā)展的必要性和重要性愈發(fā)明顯。因此,有必要提出一種可以有效解決上述技術(shù)問(wèn)題的缺陷尺寸參數(shù)量化方法。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路
1、本發(fā)明提供了一種缺陷尺寸量化方法,該種缺陷尺寸量化方法基于電容成像技術(shù),通過(guò)矩形雙電極傳感設(shè)備對(duì)待測(cè)絕緣構(gòu)件的缺陷進(jìn)行檢測(cè),并對(duì)得到的檢測(cè)信號(hào)求一階導(dǎo)數(shù);進(jìn)一步通過(guò)判斷一階導(dǎo)數(shù)極大值點(diǎn)、極小值點(diǎn)(位置)與雙電極間距之間的關(guān)系,從而準(zhǔn)確判斷待測(cè)絕緣構(gòu)件缺陷的長(zhǎng)度、寬度參數(shù)尺寸。
2、為解決上述技術(shù)問(wèn)題,本發(fā)明采用了如下技術(shù)方案:
3、一種缺陷尺寸量化方法,包括有如下步驟:
4、步驟s101:確定缺陷尺寸量化方法所使用的電極傳感設(shè)備的性能參數(shù);
5、步驟s102:沿方向?qū)Υ郎y(cè)絕緣構(gòu)件進(jìn)行掃描檢測(cè),得到一維線掃描信號(hào);對(duì)一維線掃描信號(hào)求一階導(dǎo)數(shù),得到一階導(dǎo)數(shù)信號(hào);
6、步驟s103:沿方向?qū)Υ郎y(cè)絕緣構(gòu)件進(jìn)行掃描檢測(cè),得到一維線掃描信號(hào);對(duì)一維線掃描信號(hào)求一階導(dǎo)數(shù),得到一階導(dǎo)數(shù)信號(hào)?;
7、步驟s104:判斷一維線掃描信號(hào)、一維線掃描信號(hào)中是否存在有下凹區(qū)域;
8、步驟s105:若一維線掃描信號(hào)、一維線掃描信號(hào)中均不存在有下凹區(qū)域,則判定待測(cè)絕緣構(gòu)件中不存在有缺陷。
9、較為優(yōu)選的,步驟s104中判斷一維線掃描信號(hào)、一維線掃描信號(hào)中是否存在有下凹區(qū)域的過(guò)程,具體可描述為:
10、統(tǒng)計(jì)一維線掃描信號(hào)中的所有信號(hào)值,將各信號(hào)值中的第一個(gè)信號(hào)值記作,將各信號(hào)值中的最小信號(hào)值記作;
11、計(jì)算得到一維線掃描信號(hào)信號(hào)值變化率;其中,一維線掃描信號(hào)信號(hào)值變化率,滿足:;
12、當(dāng)一維線掃描信號(hào)信號(hào)值變化率不大于第一預(yù)設(shè)參數(shù)時(shí),判定一維線掃描信號(hào)中不存在有下凹區(qū)域;反之,則判定一維線掃描信號(hào)中存在有下凹區(qū)域;
13、統(tǒng)計(jì)一維線掃描信號(hào)中的所有信號(hào)值,將各信號(hào)值中的第一個(gè)信號(hào)值記作,將各信號(hào)值中的最小信號(hào)值記作;
14、計(jì)算得到一維線掃描信號(hào)信號(hào)值變化率;其中,一維線掃描信號(hào)信號(hào)值變化率,滿足:
15、;
16、當(dāng)一維線掃描信號(hào)信號(hào)值變化率不大于第二預(yù)設(shè)參數(shù)時(shí),判定一維線掃描信號(hào)中不存在有下凹區(qū)域;反之,則判定一維線掃描信號(hào)中存在有下凹區(qū)域。
17、較為優(yōu)選的,還包括有:步驟s106:若一維線掃描信號(hào)中存在有下凹區(qū)域,則待測(cè)絕緣構(gòu)件中缺陷長(zhǎng)度,滿足:?式(1);
18、其式(1)中,為一階導(dǎo)數(shù)信號(hào)中極大值點(diǎn)和極小值點(diǎn)之間的距離;為電極傳感設(shè)備中相鄰電極極板之間的間距。
19、較為優(yōu)選的,還包括有:步驟s107:若一維線掃描信號(hào)中存在有下凹區(qū)域,則待測(cè)絕緣構(gòu)件中缺陷寬度,滿足:?式(2);
20、其式(2)中,為一階導(dǎo)數(shù)信號(hào)中極大值點(diǎn)和極小值點(diǎn)之間的距離。
21、較為優(yōu)選的,所述步驟s101中所使用的電極傳感設(shè)備由兩個(gè)尺寸參數(shù)相同的矩形電極構(gòu)成;
22、其中,矩形電極的寬度不小于,矩形電極的長(zhǎng)度選擇為,相鄰電極極板之間的間距選擇為。
23、較為優(yōu)選的,電極傳感設(shè)備中還包括有:設(shè)置在相鄰矩形電極之間的屏蔽層;
24、所述屏蔽層接地設(shè)置,用于屏蔽相鄰矩形電極之間的信號(hào)干擾。
25、本發(fā)明提供了一種缺陷尺寸量化方法,該種缺陷尺寸量化方法包括有入選步驟:步驟s101:確定缺陷尺寸量化方法所使用的電極傳感設(shè)備的性能參數(shù);步驟s102:沿方向?qū)Υ郎y(cè)絕緣構(gòu)件進(jìn)行掃描檢測(cè),得到一維線掃描信號(hào);對(duì)一維線掃描信號(hào)求一階導(dǎo)數(shù),得到一階導(dǎo)數(shù)信號(hào);步驟s103:沿方向?qū)Υ郎y(cè)絕緣構(gòu)件進(jìn)行掃描檢測(cè),得到一維線掃描信號(hào);對(duì)一維線掃描信號(hào)求一階導(dǎo)數(shù),得到一階導(dǎo)數(shù)信號(hào);步驟s104:判斷一維線掃描信號(hào)、一維線掃描信號(hào)中是否存在有下凹區(qū)域;步驟s105:若一維線掃描信號(hào)、一維線掃描信號(hào)中均不存在有下凹區(qū)域,則判定待測(cè)絕緣構(gòu)件中不存在有缺陷;步驟s106:若一維線掃描信號(hào)中存在有下凹區(qū)域,則待測(cè)絕緣構(gòu)件中缺陷長(zhǎng)度,滿足:?式(1);步驟s107:若一維線掃描信號(hào)中存在有下凹區(qū)域,則待測(cè)絕緣構(gòu)件中缺陷寬度,滿足:?式(2)。
26、具有上述步驟特征的一種缺陷尺寸量化方法,其相比于現(xiàn)有技術(shù)而言,至少具備有如下技術(shù)優(yōu)勢(shì):
27、1)、填補(bǔ)了現(xiàn)有檢測(cè)技術(shù)中針對(duì)缺陷尺寸量化的技術(shù)空白,可以準(zhǔn)確的計(jì)算出缺陷的長(zhǎng)度和寬度;
28、2)、可實(shí)現(xiàn)實(shí)時(shí)、快速對(duì)待測(cè)絕緣構(gòu)件的原位檢測(cè)及缺陷尺寸參數(shù)量化,且無(wú)需破壞待測(cè)絕緣構(gòu)件試樣進(jìn)行取樣;
29、3)、抗干擾能力強(qiáng)、可靠性高、現(xiàn)場(chǎng)適應(yīng)性較好,缺陷計(jì)算結(jié)果受提離效應(yīng)等因素影響較小,可有效降低缺陷尺寸參數(shù)量化過(guò)程中的誤差;
30、4)、缺陷尺寸量化過(guò)程具有較為廣泛的應(yīng)用場(chǎng)合,可以實(shí)現(xiàn)對(duì)開口缺陷或隱藏缺陷的檢測(cè),并且還可以同時(shí)實(shí)現(xiàn)對(duì)長(zhǎng)度與寬度兩個(gè)方向上的缺陷檢測(cè),且不受提離的影響。
1.一種缺陷尺寸量化方法,其特征在于,包括有如下步驟:
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種缺陷尺寸量化方法,其特征在于,所述步驟s104中判斷一維線掃描信號(hào)、一維線掃描信號(hào)中是否存在有下凹區(qū)域的過(guò)程,具體可描述為:
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種缺陷尺寸量化方法,其特征在于,還包括有:步驟s106:若一維線掃描信號(hào)中存在有下凹區(qū)域,則待測(cè)絕緣構(gòu)件中缺陷長(zhǎng)度,滿足:?式(1);
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種缺陷尺寸量化方法,其特征在于,還包括有:步驟s107:若一維線掃描信號(hào)中存在有下凹區(qū)域,則待測(cè)絕緣構(gòu)件中缺陷寬度,滿足:?式(2);
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種缺陷尺寸量化方法,其特征在于,所述步驟s101中所使用的電極傳感設(shè)備由兩個(gè)尺寸參數(shù)相同的矩形電極構(gòu)成;
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的一種缺陷尺寸量化方法,其特征在于,電極傳感設(shè)備中還包括有:設(shè)置在相鄰矩形電極之間的屏蔽層;