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一種接近傳感器及電子設(shè)備的制作方法

文檔序號:40649166發(fā)布日期:2025-01-10 18:55閱讀:5來源:國知局
一種接近傳感器及電子設(shè)備的制作方法

本申請實(shí)施例涉及傳感器,尤其涉及一種接近傳感器及電子設(shè)備。


背景技術(shù):

1、接近傳感器用于檢測探測器上方是否具有物體,若存在物體,則調(diào)節(jié)電子設(shè)備的相應(yīng)組件的開關(guān)打開;否則,保持相應(yīng)組件的開關(guān)關(guān)閉。示例性地,若接近傳感器檢測到指紋探測器上方存在用戶手指,則喚醒屏幕;否則,不會喚醒屏幕,從而避免了息屏誤觸。接近傳感器包括nir?pd(近紅外光電二極管)和nir?led(近紅外發(fā)光二極管),nir?led在近距離下發(fā)出的紅外光照射到存在的物體,形成紅外反射光;nir?pd檢測該紅外反射光,準(zhǔn)確檢測是否存在物體。

2、由于可見光會對紅外反射光形成干擾,嚴(yán)重影響接近傳感器對于是否存在物體的檢測準(zhǔn)確性。電子設(shè)備則因接近傳感器無法準(zhǔn)確地檢測到其上方是否有物體,產(chǎn)生相應(yīng)組件誤開關(guān)。


技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

1、有鑒于此,本申請實(shí)施例提供一種接近傳感器,以至少部分解決上述問題。

2、第一方面,根據(jù)本申請實(shí)施例提供了一種接近傳感器,包括:基底,所述基底上設(shè)有紅外信號接收區(qū);鍍膜層,所述鍍膜層設(shè)置至所述紅外信號接收區(qū)上表面;可見光抑制膜,所述可見光抑制膜設(shè)置至所述鍍膜層的外表面;可見光通過所述可見光抑制膜與所述鍍膜層被截止,紅外光通過所述可見光抑制膜與所述鍍膜層被所述紅外信號接收區(qū)接收。

3、第二方面,根據(jù)本申請實(shí)施例提供了一種電子設(shè)備,包括上述的接近傳感器和顯示屏,所述顯示屏覆蓋在所述接近傳感器的表面。

4、根據(jù)本申請實(shí)施例提供的接近傳感器及電子設(shè)備,在鍍膜層的外表面,增設(shè)可見光抑制膜,可見光抑制膜通過與鍍膜層的配合實(shí)現(xiàn)對可見光的二次截止,并使紅外信號接收區(qū)對可見光的響應(yīng)小于1%,且不影響紅外光通過可見光抑制膜與鍍膜層被紅外信號接收區(qū)接收。本申請實(shí)施例可以使接近傳感器能夠更為準(zhǔn)確地檢測到其上方是否有物體,避免了電子設(shè)備因接近傳感器無法準(zhǔn)確地檢測到其上方是否有物體,所產(chǎn)生的相應(yīng)組件誤開關(guān)。



技術(shù)特征:

1.一種接近傳感器,其特征在于,包括:

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的接近傳感器,其特征在于,所述可見光抑制膜覆蓋所述鍍膜層的上表面。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的接近傳感器,其特征在于,所述可見光抑制膜覆蓋所述鍍膜層的側(cè)表面。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的接近傳感器,其特征在于,所述可見光抑制膜均勻覆蓋至所述鍍膜層的外表面。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的接近傳感器,其特征在于,所述鍍膜層覆蓋至所述紅外信號接收區(qū)的上表面。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的接近傳感器,其特征在于,所述鍍膜層的面積大于所述紅外信號接收區(qū)的面積。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的接近傳感器,其特征在于,所述可見光抑制膜的可見光低透過率小于10%,紅外透過率大于80%。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的接近傳感器,其特征在于,所述可見光抑制膜為圖形化形成的一次性涂布薄膜。

9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的接近傳感器,其特征在于,所述可見光抑制膜的厚度為大于等于0.2微米,小于等于4微米。

10.一種電子設(shè)備,包括:


技術(shù)總結(jié)
本申請實(shí)施例提供了一種接近傳感器及電子設(shè)備,接近傳感器包括:基底,所述基底上設(shè)有紅外信號接收區(qū);鍍膜層,所述鍍膜層設(shè)置至所述紅外信號接收區(qū)上表面;可見光抑制膜,所述可見光抑制膜設(shè)置至所述鍍膜層的外表面;可見光通過所述可見光抑制膜與所述鍍膜層被截止,紅外光通過所述可見光抑制膜與所述鍍膜層被所述紅外信號接收區(qū)接收。本申請實(shí)施例可以使接近傳感器能夠更為準(zhǔn)確地檢測到其上方是否有物體。本申請實(shí)施例避免了電子設(shè)備因接近傳感器無法準(zhǔn)確地檢測到其上方是否有物體,所產(chǎn)生的相應(yīng)組件誤開關(guān)。

技術(shù)研發(fā)人員:周榆涵,韋亞,鄧鑫
受保護(hù)的技術(shù)使用者:深圳市匯頂科技股份有限公司
技術(shù)研發(fā)日:20240308
技術(shù)公布日:2025/1/9
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