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雙調(diào)諧表面線圈裝置的制作方法

文檔序號:40550653發(fā)布日期:2025-01-03 11:10閱讀:7來源:國知局
雙調(diào)諧表面線圈裝置的制作方法

本技術(shù)涉及線圈成像領(lǐng)域,尤其是涉及一種雙調(diào)諧表面線圈裝置。


背景技術(shù):

1、隨著社會的進步,科技的發(fā)展,現(xiàn)代醫(yī)學(xué)上為了能夠更加準(zhǔn)確的判斷出病人身體的具體情況,通常會采用線圈成像裝置對病患處進行成像,以便于更加直觀的判斷,傳統(tǒng)的線圈成像裝置其線圈通常分部在成像裝置的各個位置處,以便于全方位多角度的對病患處成像,此種形式使得線圈安裝所占用的空間較大,造成線圈成像裝置體積較大,并且傳統(tǒng)的線圈成像裝置在成像過程中其相鄰線圈的磁場也容易相互影響,易出現(xiàn)線圈與線圈之間的交叉耦合,因此仍需進行改進。


技術(shù)實現(xiàn)思路

1、本實用新型為解決上述提出到的問題,為此提供了一種雙調(diào)諧表面線圈裝置,包括殼體,所述殼體設(shè)置成t字形結(jié)構(gòu),所述殼體的一面設(shè)置為平直面,所述殼體的另一面設(shè)置成階梯面,所述殼體內(nèi)設(shè)置有第一環(huán)形線圈和第二環(huán)形線圈,所述第二環(huán)形線圈套設(shè)在第一環(huán)形線圈內(nèi),所述第一環(huán)形線圈和第二環(huán)形線圈處于同一平面上。

2、作為優(yōu)選,所述第一環(huán)形線圈和第二環(huán)形線圈均設(shè)置有獨立的電路和電流驅(qū)動可進行獨立調(diào)節(jié)。

3、作為優(yōu)選,所述第一環(huán)形線圈和第二環(huán)形線圈之間設(shè)置有間距且間距范圍在0.5cm~1cm。

4、作為優(yōu)選,所述第一環(huán)形線圈和第二環(huán)形線圈之間的間距為0.8cm。

5、作為優(yōu)選,所述殼體的末端設(shè)置有信號傳輸端。

6、本實用新型的有益效果是:本實用新型結(jié)構(gòu)設(shè)計合理,使用方便,t字形殼體的設(shè)計能夠使線圈裝置小巧便攜,滿足任意局部位置的線圈成像,并且雙環(huán)共面的線圈布局也能夠使線圈中的互感和自感之間的耦合最大化,增強線圈的耦合效應(yīng),同時也能夠減少線圈之間的交叉耦合。



技術(shù)特征:

1.一種雙調(diào)諧表面線圈裝置,其特征在于,包括殼體(1),所述殼體(1)設(shè)置成t字形結(jié)構(gòu),所述殼體(1)的一面設(shè)置為平直面,所述殼體(1)的另一面設(shè)置成階梯面,所述殼體(1)內(nèi)設(shè)置有第一環(huán)形線圈(2)和第二環(huán)形線圈(3),所述第二環(huán)形線圈(3)套設(shè)在第一環(huán)形線圈(2)內(nèi),所述第一環(huán)形線圈(2)和第二環(huán)形線圈(3)處于同一平面上。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種雙調(diào)諧表面線圈裝置,其特征在于,所述第一環(huán)形線圈(2)和第二環(huán)形線圈(3)均設(shè)置有獨立的電路和電流驅(qū)動可進行獨立調(diào)節(jié)。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種雙調(diào)諧表面線圈裝置,其特征在于,所述第一環(huán)形線圈(2)和第二環(huán)形線圈(3)之間設(shè)置有間距且間距范圍在0.5cm~1cm。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種雙調(diào)諧表面線圈裝置,其特征在于,所述殼體(1)的末端設(shè)置有信號傳輸端(4)。


技術(shù)總結(jié)
本技術(shù)公開了一種雙調(diào)諧表面線圈裝置,包括殼體,所述殼體設(shè)置成T字形結(jié)構(gòu),所述殼體的一面設(shè)置為平直面,所述殼體的另一面設(shè)置成階梯面,所述殼體內(nèi)設(shè)置有第一環(huán)形線圈和第二環(huán)形線圈,所述第二環(huán)形線圈套設(shè)在第一環(huán)形線圈內(nèi);本技術(shù)結(jié)構(gòu)設(shè)計合理,使用方便,T字形殼體的設(shè)計能夠使線圈裝置小巧便攜,滿足任意局部位置的線圈成像,并且雙環(huán)共面的線圈布局也能夠使線圈中的互感和自感之間的耦合最大化,增強線圈的耦合效應(yīng),同時也能夠減少線圈之間的交叉耦合。

技術(shù)研發(fā)人員:汪春生,王秋萍,李葉飛
受保護的技術(shù)使用者:江陰萬康醫(yī)療科技有限公司
技術(shù)研發(fā)日:20240326
技術(shù)公布日:2025/1/2
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