本技術(shù)涉及半導(dǎo)體，尤其涉及一種用于環(huán)形工件的測量裝置。

背景技術(shù)：

1、化學(xué)氣相沉積(chemical?vapor?deposition，cvd)是一種材料表面處理技術(shù)，廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、光伏、涂層和納米技術(shù)等領(lǐng)域。化學(xué)氣相沉積主要用于在基材表面沉積薄膜，通過控制反應(yīng)過程，在高溫和低壓條件下，形成均勻、致密和純凈的薄膜材料。

2、在化學(xué)氣相沉積過程中，基材由支撐件支撐在反應(yīng)腔室內(nèi)。使用專用的支撐件對基材進(jìn)行支撐具有重要的作用。支撐件不僅能確?；谋环€(wěn)定地支撐在反應(yīng)腔室中的正確位置，還能提高沉積過程的均勻性和效率。例如，支撐件可以采用環(huán)形結(jié)構(gòu)，以對基材提供均勻支撐的同時利用支撐件的中心通孔改善氣流流動，提高沉積均勻性。

3、支撐件的尺寸需要與基材的尺寸相匹配。以環(huán)形的支撐件為例，如果支撐件的直徑過大或者過小，都會導(dǎo)致基材無法被穩(wěn)定支撐，從而影響沉積的均勻性和質(zhì)量；支撐件的厚度則直接影響其機械強度和熱傳導(dǎo)性能。此外，支撐件的尺寸還會直接影響其制造成本。

4、為了確?；瘜W(xué)氣相沉積反應(yīng)的質(zhì)量和一致性以及控制制造成本，需要根據(jù)尺寸對支撐件進(jìn)行篩選。因此，如何以高效的方式測量支撐件的幾個關(guān)鍵尺寸從而提高整體生產(chǎn)效率一直是本領(lǐng)域亟需解決的問題。

技術(shù)實現(xiàn)思路

1、為解決上述技術(shù)問題，本實用新型實施例期望提供一種用于環(huán)形工件的測量裝置，通過使用該測量裝置可以一次性測得環(huán)形工件的多個尺寸，顯著提升了測量效率并且提高了測量結(jié)果的準(zhǔn)確性。

2、本實用新型實施例的技術(shù)方案是這樣實現(xiàn)的：

3、本實用新型實施例提供了一種用于環(huán)形工件的測量裝置，所述測量裝置包括：

4、承載部，用于將所述環(huán)形工件承載在預(yù)定平面上；

5、定位部，所述定位部用于將所述環(huán)形工件的圓心定位至所述預(yù)定平面上的預(yù)定點處；

6、第一測量部，所述第一測量部配置成指示在所述預(yù)定平面上經(jīng)過所述預(yù)定點的第一方向上的尺寸；以及

7、第二測量部，所述第二測量部配置成指示垂直于所述預(yù)定平面的第二方向上的尺寸。

8、在一些可選的示例中，所述承載部包括與所述預(yù)定平面平行的用于承載所述環(huán)形工件的承載平面，其中，所述第一測量部包括形成在所述承載平面上的第一長度刻度，并且所述第一長度刻度在所述第一方向上的延長線經(jīng)過所述預(yù)定點。

9、在一些可選的示例中，所述第二測量部包括刻度件，其中，所述刻度件沿所述第二方向延伸，并且所述刻度件上設(shè)置有第二長度刻度。

10、在一些可選的示例中，所述刻度件設(shè)置成能夠沿所述第一方向移動成抵靠所述環(huán)形工件的周向邊緣。

11、在一些可選的示例中，所述承載部包括與所述預(yù)定平面平行的用于承載所述環(huán)形工件的承載平面，其中，所述承載平面上形成有沿所述第一方向延伸的滑槽，并且所述刻度件設(shè)置成能夠沿所述滑槽滑動。

12、在一些可選的示例中，所述第二測量部還包括連接至所述刻度件的指示件，其中，所述指示件設(shè)置成垂直于所述刻度件延伸并且能夠沿所述第二方向移動成抵靠所述環(huán)形工件。

13、在一些可選的示例中，所述定位部設(shè)置在所述預(yù)定點處，以通過與所述環(huán)形工件的中心孔配合將所述環(huán)形工件的所述圓心定位至所述預(yù)定點處。

14、在一些可選的示例中，所述測量裝置包括圍繞所述預(yù)定點設(shè)置的至少三個所述定位部，每個定位部設(shè)置成能夠沿所述第一方向移動成抵靠所述環(huán)形工件。

15、在一些可選的示例中，所述第二測量部為所述至少三個定位部中的至少一個定位部。

16、在一些可選的示例中，所述測量裝置包括以預(yù)定的角度間隔開的多個第一測量部。

17、本實用新型實施例提供了一種用于環(huán)形工件的測量裝置。該測量裝置包括定位部和兩個測量部，其中，通過所述兩個測量部，可以在定位部將環(huán)形工件的圓心定位在預(yù)定平面上的預(yù)定點處的情況下，一次性獲得環(huán)形工件的厚度尺寸和一個或更多個徑向尺寸。相比于現(xiàn)有技術(shù)中多次逐一測量各個尺寸的測量方案，本實用新型實施例提供的測量裝置簡化了測量操作流程，并減少了重復(fù)測量和定位的時間，從而顯著提高了測量效率。另外，利用定位部可以確保環(huán)形工件的圓心與承載部上的預(yù)定點對齊，使得能夠確保在測量環(huán)形工件的徑向尺寸時測量點位于環(huán)形工件的圓心點處，以減少因人為操作不當(dāng)導(dǎo)致的中心偏差，從而提高測量精度。

技術(shù)特征：

1.一種用于環(huán)形工件的測量裝置，其特征在于，所述測量裝置包括：

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于環(huán)形工件的測量裝置，其特征在于，所述承載部包括與所述預(yù)定平面平行的用于承載所述環(huán)形工件的承載平面，其中，所述第一測量部包括形成在所述承載平面上的第一長度刻度，并且所述第一長度刻度在所述第一方向上的延長線經(jīng)過所述預(yù)定點。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于環(huán)形工件的測量裝置，其特征在于，所述第二測量部包括刻度件，其中，所述刻度件沿所述第二方向延伸，并且所述刻度件上設(shè)置有第二長度刻度。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的用于環(huán)形工件的測量裝置，其特征在于，所述刻度件設(shè)置成能夠沿所述第一方向移動成抵靠所述環(huán)形工件的周向邊緣。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的用于環(huán)形工件的測量裝置，其特征在于，所述承載部包括與所述預(yù)定平面平行的用于承載所述環(huán)形工件的承載平面，其中，所述承載平面上形成有沿所述第一方向延伸的滑槽，并且所述刻度件設(shè)置成能夠沿所述滑槽滑動。

6.根據(jù)權(quán)利要求3至5中的任一項所述的用于環(huán)形工件的測量裝置，其特征在于，所述第二測量部還包括連接至所述刻度件的指示件，其中，所述指示件設(shè)置成垂直于所述刻度件延伸并且能夠沿所述第二方向移動成抵靠所述環(huán)形工件。

7.根據(jù)權(quán)利要求1至5中的任一項所述的用于環(huán)形工件的測量裝置，其特征在于，所述定位部設(shè)置在所述預(yù)定點處，以通過與所述環(huán)形工件的中心孔配合將所述環(huán)形工件的所述圓心定位至所述預(yù)定點處。

8.根據(jù)權(quán)利要求1至5中的任一項所述的用于環(huán)形工件的測量裝置，其特征在于，所述測量裝置包括圍繞所述預(yù)定點設(shè)置的至少三個所述定位部，每個定位部設(shè)置成能夠沿所述第一方向移動成抵靠所述環(huán)形工件。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的用于環(huán)形工件的測量裝置，其特征在于，所述第二測量部為所述至少三個定位部中的至少一個定位部。

10.根據(jù)權(quán)利要求1至5中的任一項所述的用于環(huán)形工件的測量裝置，其特征在于，所述測量裝置包括以預(yù)定的角度間隔開的多個第一測量部。

技術(shù)總結(jié)
本技術(shù)公開了一種用于環(huán)形工件的測量裝置，所述測量裝置包括：承載部，用于將所述環(huán)形工件承載在預(yù)定平面上；定位部，所述定位部用于將所述環(huán)形工件的圓心定位至所述預(yù)定平面上的預(yù)定點處；第一測量部，所述第一測量部配置成指示在所述預(yù)定平面上經(jīng)過所述預(yù)定點的第一方向上的尺寸；以及第二測量部，所述第二測量部配置成指示垂直于所述預(yù)定平面的第二方向上的尺寸，通過使用該測量裝置可以一次性測得環(huán)形工件的多個尺寸，顯著提升了測量效率并且提高了測量結(jié)果的準(zhǔn)確性。

技術(shù)研發(fā)人員：秦雙亮,劉進(jìn)
受保護(hù)的技術(shù)使用者：重慶欣暉材料技術(shù)有限公司
技術(shù)研發(fā)日：20240716
技術(shù)公布日：2024/12/23