專利名稱:輻射檢測器以及用于制造輻射檢測器的方法
技術領域：
本發(fā)明涉及輻射檢測器以及用于制造輻射檢測器的方法。
技術背景
輻射檢測器例如在計算機斷層成像設備中用于把X射線變換為電信號，該電信號用作計算要檢查的患者的二維或者三維斷層圖像的基礎。通常使用所謂的間接變換的輻射檢測器，其中X射線向電信號的變換分兩級進行。在第一級內X射線在閃爍器內被吸收，并且被變換為光學上可見的光信號。接著該光信號在第二級中通過一個與閃爍器光學耦合的光電二極管陣列變換為電信號，通過電子讀取設備讀出并且隨后傳送到計算單元。
作為閃爍器材料例如可以考慮用激活劑摻雜的材料如Gd2AS = Pr和CsI:Tl。在此，為了位置分辨地采集吸收事件，閃爍器以單個閃爍器元件的結構制造，這些閃爍器元件通過間隔彼此分開。通過X射線量子產生的光信號在閃爍器內基本上各向同性地傳播，這將導致一部分光信號在相鄰設置的閃爍器元件上一定的串擾，從而影響位置分辨率。為了抑制這種側向的光傳播并且實現(xiàn)光信號在閃爍器元件之間良好地分開，基于該理由間隔通常用間隔材料填充，該材料使產生的光信號在閃爍器元件內往回反射或者往回散射一定的部分。作為間隔材料可以考慮這樣的結合劑基質，即其混合有高折射率的粉末狀材料，例如 TiO2粒子。折回散射的效果以及因此的位置分辨率隨在相鄰的閃爍器元件之間用作接收反射的材料的間隔的寬度的增加而提高。然而間隔的展寬必然也導致有效的像素面積減小從而導致量子效率減低。由于這一理由在已知的輻射檢測器中必須在量子效率和串擾行為之間選擇折衷。作為提高量子效率的另一種措施是在閃爍器的輻射入射面上設置一個蓋反射器(Deckreflektor)，其應該阻止光射出。
除光學串擾外，另一種串擾如下產生在X射線量子的首次反應后，在閃爍器材料中通過散射或者通過k逃逸產生二次量子(Sekundarquanten ),其到達相鄰的閃爍器元件，并且在那里產生光信號。這一效應不能通過迄今使用的間隔材料阻止。盡管采取該措施，但是經(jīng)常仍然是，產生的光信號的僅約30%由光電二極管為變換而采集，其中，40%通過閃爍器材料中的吸收損失并且約30%通過向相鄰的閃爍器元件的串擾損失。
然而，所產生的電信號的位置分辨率和噪聲不僅通過剛才說明的X射線輻射在閃爍器材料中的相互作用而變差。從X射線源發(fā)出的X射線輻射已經(jīng)在物體中散射，以致除 X射線源的初級射線外雜散射線也入射到相鄰的閃爍器元件上。因此，為了減少雜散輻射影響在閃爍器前面連接一個準直器，其使得僅特定的空間方向上的X射線輻射到達閃爍器元件。以這種方式能夠減少圖像偽影(Bildartefakte)，并且在給定的對比度對噪聲比的情況下能夠顯著地減少在患者身上施加的X射線劑量。準直器通常在把閃爍器與光電二極管陣列組合在一起后才安裝。然而在該時點間隔在閃爍器中的位置在視覺上不再能夠看到，因為間隔由在輻射入射面上設置的蓋反射器覆蓋。因此準直器的對準輔助地在引入 (Einbezug)關于間隔相對于閃爍器外緣的預先知識的條件下相對于閃爍器的外緣進行。然而間隔在閃爍器內的位置關于外緣具有通過加工容差決定的不精確性。由此準直器對于間隔的相對的位置也具有容差。為了在放置準直器時考慮該容差，必須相應大地選擇間隔寬度，由此保證，被準直的輻射每次僅入射到規(guī)定的檢測器元件，而不溢出到相鄰的檢測器元件。然而間隔寬度的加大，如上所述，同時與減小閃爍器元件的輻射入射面積相聯(lián)系。此外， 在錯誤定位準直器的情況下存在通過準直器引起遮蔽輻射入射面的危險。這在兩種情況下都會導致減小量子效率。

發(fā)明內容
因此本發(fā)明的任務在于，改進輻射檢測器和用于制造輻射檢測器的方法，使得提供為提高有效的發(fā)光效率和改善位置分辨率的前提。
該任務通過根據(jù)本發(fā)明的輻射檢測器以及通過根據(jù)本發(fā)明的用于制造這樣的輻射檢測器的方法解決。
本發(fā)明的輻射檢測器包括一個閃爍器，其帶有用于分開彼此并排設置的閃爍器元件的間隔，和包括一個準直器，其帶有用于構成側面包圍輻射通道的隔板，其中該隔板為了避免相鄰閃爍器元件之間的串擾而被設置在間隔內。
術語間隔在該關聯(lián)中被理解為在相鄰的閃爍器元件之間構成的空隙，其通常為通道形。相鄰的閃爍器元件之間的串擾意味著，輻射到達相鄰設置的閃爍器元件，其中，輻射指通過進入閃爍器元件內的X射線量子的相互作用在直接的或者間接的路徑上引起的輻射。輻射相應地可以是所產生的光信號，但是也可以是具有在或者接近X射線輻射的范圍內的波長的二次量子。
準直器的隔板根據(jù)本發(fā)明具有雙重功能。一方面它們用于在閃爍器前的區(qū)域內以公知的方式遮蔽由初級射線與物體的相互作用而產生的雜散輻射。另外，現(xiàn)在它們還用于在閃爍器內避免相鄰的閃爍器元件之間的串擾，該串擾通過在閃爍材料中所產生的二次量子或者通過在閃爍材料中產生的光信號的側向的光傳播引起。亦即準直器的隔板在閃爍器內代替通常在間隔內設置的填充材料。
這具有一系列優(yōu)點隔板能夠以這種方式非常精確地匹配準直器的各隔板寬度。 亦即在設計隔板的寬度時不再必須考慮關于隔板和隔板之間的相對位置的容差，如在通過根據(jù)準直器的外緣間接定位準直器進行安裝時期望的那樣。亦即隔板寬度在本發(fā)明的輻射檢測器的情況下與已知的情況下相比可以相應選擇的較小，使得加大了輻射入射面積，并且從而提高了有效的發(fā)光效率。這意味另一種表述，通過在間隔內直接設置隔板提高準直器相對于閃爍器的定位準確度。通過在閃爍器元件之間放入準直器材料特別能夠避免通過二次輻射的串擾，因為準直器材料由功能決定對于χ射線輻射強烈地吸收。此外也完全抑制光學串擾，因為它也在光學區(qū)域內不透明。也就是說通過該措施能夠以簡單的途徑使所產生的光信號更好地分開。由此提高了位置分辨率并且避免了在所產生的電信號中的噪聲。
為提高有效的發(fā)光效率，隔板的至少在間隔內放入的區(qū)域具有涂層，其在由閃爍器產生的光的波長范圍內是反射的。以這種方式光信號在側向向閃爍器元件內傳播時被折回反射，并且被弓丨導到光電二極管上，在其上光信號被轉變?yōu)殡娦盘?。在入射在光電二極管上之前，也考慮在閃爍器壁的反射層上的多重反射。
該涂層優(yōu)選具有氧化鈦或者一種金屬，尤其是鋁或銀。這種材料對于由閃爍器產生的光具有高的折射率，容易得到，并且能夠使用常規(guī)的方法在隔板的至少在間隔內放入的區(qū)域上涂敷。例如可以有利地通過在隔板的區(qū)域上通過涂敷或者噴涂一種用氧化鈦摻雜的復合材料制造涂層。不言而喻這些隔板也可以通過把該隔板浸入該復合材料內相應地潤濕。作為對此的替換，可以有利地通過在隔板的區(qū)域內蒸鍍或者沉積一種金屬尤其是鋁或銀來產生涂層。通過使用電解液的沉積方法特別能夠產生非常薄的同時具有高的反射能力的層。
在本發(fā)明的一種有利的實施方式中用鉬、鉭、鎢或者這些元素的合金制造準直器的隔板。這種材料由于比較高的原子序數(shù)在X射線的波長范圍內具有高的吸收系數(shù)。因此通過在間隔內放入隔板也極為有效地阻止由閃爍器所產生的二次量子在或者接近X射線的波長范圍內的串擾。
間隔內的隔板優(yōu)選使用復合材料固定。在本發(fā)明的一種有利的實施方式中復合材料是一種粘合劑，其具有反射材料，尤其是氧化鈦或者鋁。由此能夠得到輻射檢測器的高的機械穩(wěn)定性。因此準直器的隔板通過放入間隔內不僅在一個平面內與閃爍器在輻射入射面上固定。通過把隔板放入間隔內進行原則上在多個平面內的固定，例如另外在垂直于輻射入射面延伸的平面內固定。這提高了這些部件彼此的機械穩(wěn)定性。
在本發(fā)明的一個優(yōu)選的實施例中，準直器借助于一種快速制造技術、尤其是借助于選擇式激光熔化或者借助于噴鑄技術制造。
作為快速制造技術特別考慮選擇式激光熔化。由此準直器的隔板無論在它的寬度還是高度和位置上都具有非常高的精度。特別能夠實現(xiàn)非常薄的隔板。在此，以這種方式制造的準直器在φ和ζ方向都是帶有隔板的整塊的部件，而不是由多個單個的薄片組成。因此具有特別高的機械強度。
本發(fā)明的第二方面涉及一種用于制造具有閃爍器和準直器的輻射檢測器的方法， 具有下述的方法步驟
a)制造帶有間隔的閃爍器，
b)制造帶有隔板的準直器，
c)在間隔內設置粘合劑，
d)把準直器的隔板放入閃爍器的間隔內，
e)固化粘合劑。
根據(jù)本發(fā)明的一種有利的實施方式，步驟a)另外包括下述步驟
al)在載體襯底上提供未結構化的閃爍器層，和
a2)在閃爍器層內在φ和ζ方向上鋸開或者切開間隔。間隔可以以這種方式以非常高的精度簡單地制造。
優(yōu)選地，在步驟al)后執(zhí)行下述步驟
all)在閃爍器層的輻射入射面上設置蓋反射器。亦即在這種情況下間隔通過蓋反射器被貫通切開，使得能夠通過視覺看見間隔的位置，并且能夠通過視覺控制以簡單的方式把隔板插入間隔內。
在步驟a2)后有利地執(zhí)行下述步驟
a3)去除載體襯底，和
a4)研磨和/或拋光閃爍器層的暴露面(freigesetzte Seite)。[0032]此外，步驟 b)優(yōu)選地包括下述方法步驟
bl)沿φ和ζ方向從輻射吸收材料中通過使用快速制造技術逐層地構成隔板。
在本發(fā)明的一種有利的實施方式中，使用選擇式激光熔化技術作為快速制造技術，而使用鉬、鎢、鉭或者這些元素的合金作為吸收輻射的材料。
作為對于快速制造技術的替換，可以具有優(yōu)勢地使用按照下述方法步驟的噴鑄技術制造準直器
bl)提供一個用于噴鑄技術的模具，其沿φ和ζ方向具有隔板，在該模具內注入摻雜有吸收輻射的材料的復合材料，并且在該模具內固化該復合材料。
優(yōu)選使用環(huán)氧樹脂基質(Epoxymatrix)作為復合材料，而使用鉬、鎢、鉭或者這些元素的合金作為吸收輻射的材料。
步驟b)包括具有前面描述的優(yōu)點的下述方法步驟
b2)至少在隔板的在間隔內設置的區(qū)域內設置一個光學反射涂層。
例如可執(zhí)行下述兩個方法步驟用以產生涂層在隔板的區(qū)域上蒸鍍或者沉積一種金屬，尤其是鋁或銀，或者在隔板的區(qū)域上涂敷或者噴涂一種摻雜有氧化鈦的復合材料。


下面根據(jù)實施例和附圖詳細說明本發(fā)明。附圖中
圖1按照示意圖示出了具有本發(fā)明的輻射檢測器的計算機斷層成像設備，
圖2按照側視圖示出了本發(fā)明的輻射檢測器的片段，和
圖3示出了用于制造本發(fā)明的輻射檢測器的方法的流程圖。
附圖中相同的或者功能相同的元件用相同的附圖標記表示。一幅圖中重復的元件為了清楚起見分別僅給一個元件提供附圖標記。附圖中表示是示意性的，并且不一定按照比例，其中附圖之間的比例尺可以變化。
具體實施方式
圖1示出了計算機斷層成像設備12，它包括一個形式為X射線管的輻射源13，X 射線輻射扇15從輻射源13的焦點14出發(fā)。該X射線輻射扇穿透要檢查的物體16或者患者，并且擊中輻射檢測器1 (這里是X射線檢測器)。
X射線管13和輻射檢測器1彼此相對在機架(這里未圖示)上以可在φ方向上圍繞計算機斷層成像設備12的系統(tǒng)軸ζ (患者軸)轉動的方式設置。φ方向表示機架的圓周方向，Z方向表示要檢查的物體16的縱向。
在計算機斷層成像設備12運行時X射線管13和輻射檢測器1圍繞物體16轉動， 其中從不同的投影方向從物體16獲得X射線照片。每一次X射線投影都擊中輻射檢測器 1，于是穿過物體16并且由此減弱了 X射線輻射。在此，輻射檢測器1產生電信號，其相應于擊中的X射線輻射的強度。接著，分析單元17按照公知的方式從用輻射檢測器1采集的信號中計算出物體16的一個或者多個二維或者三維圖像，這些圖像可以在顯示單元18上顯不。
如在圖2的側視圖中所示，輻射檢測器1作為重要的組成部分，包括用于減少雜散輻射的準直器5、用于把入射的X射線變換為光的閃爍器2和用于把光信號變換為電信號的光電二極管陣列19。
閃爍器2用一種摻雜有激活劑的材料制造。閃爍器材料通常是閃爍陶瓷，例如 Gd2O2S = Pr和CsI:Tl，其被沉積在載體襯底上。在閃爍器2的與載體襯底相對的一側上設置一個蓋反射器11。該側在閃爍器2的符合規(guī)定的使用中相應于X射線輻射器的輻射入射面20。蓋反射器11在本實施例中是氧化鈦層，其通過蒸鍍或者噴射形成。原則上所有滿足下面的條件的材料都可以考慮，它們在由閃爍器材料產生的光的波長區(qū)域內具有高的折射率，并且具有抵抗X射線輻射的高的化學穩(wěn)定性，以及此外在被涂覆的層厚的情況下在X射線輻射的波長區(qū)域內幾乎是透明的。在這種情況下在閃爍器材料中產生的光被折回反射， 由此提高量子效率。此外，為位置分辨地采集吸收事件，閃爍器2被結構化為單個閃爍器元件4。在此，閃爍器元件4通過間隔3在空間上彼此分開。間隔3通常通過縫隙或者銑削在 ψ和ζ方向上穿過蓋反射器11在閃爍器陶瓷內構成。典型的間隔寬度在50μπι到500 μ m 之間的范圍內。因此間隔3的位置是視覺可見的。這使得能夠在視覺控制下簡單地定位準 W, 5 ο
光電二極管陣列19相應于閃爍器2的細分被結構化為單個的光電二極管34，并且在閃爍器2的下側通過粘合劑與其光學地耦合。同樣可以考慮，把閃爍器2直接在光電二極管陣列19上沉積和結構化。
準直器5由在φ和ζ方向上延伸的隔板6制造，后者用對于X射線輻射高吸收的材料例如鉬、鎢、鉭或者這些元素的合金制成。這里該制造借助一種選擇式激光熔化進行， 亦即借助一種快速的制造技術逐層地在使用計算機支持的可讀的CAD模型的條件下進行。 這種的準直器5能夠以非常高的幾何精度制造，并且由于整塊制造所以具有高的機械穩(wěn)定性。準直器5的隔板6在本發(fā)明的輻射檢測器1的情況下被設置在閃爍器2的間隔3中。 以這種方式準直器5滿足了兩種不同的功能
一方面在輻射方向20上位于閃爍器2之前的隔板6的區(qū)域8如通常一樣用于遮擋雜散輻射，該雜散輻射通過X射線輻射的散射在被檢查的物體16中產生，并且對于各閃爍器元件4具有從X射線管13的焦點14偏離的空間方向。這通過如下實現(xiàn)，隔板6在φ和 ζ方向為各閃爍器元件4構成一條輻射通道，它的縱軸對準X射線管13的焦點14，使得來自X射線管13的焦點14偏離的空間方向的射線在隔板6內被吸收。
另一方面隔板6的設置在間隔3內的區(qū)域7用于有效地抑制在相鄰的閃爍器元件 4之間的串擾。這里避免兩種不同類型的串擾。第一種串擾涉及由二次量子在相鄰的閃爍器元件4上的串擾，它通過入射閃爍器材料的X射線輻射的相互作用過程產生。二次量子具有X射線輻射的波長范圍內的能量。適合于準直器5的材料由根據(jù)功能必須具有為極為有效地吸收雜散輻射的原子序數(shù)，使得在間隔3內設置的隔板6也極為有效地抑制二次量子。也就是說通過隔板6能夠阻止二次量子在閃爍器2內部從一個閃爍器元件4到達另一個閃爍器元件4。
第二種串擾涉及在閃爍器材料內所產生的光出現(xiàn)在相鄰的閃爍器元件4上的光學串擾。由于為準直器5使用的材料的高的原子序數(shù)隔板6也在光的波長范圍內并且因此對于閃爍器光是不透過的。因此排除了產生的光在相鄰的像素21上的串擾。為了提高量子效率，隔板6在間隔3的區(qū)域7內具有帶有光學反射材料的涂層9。一種可能性例如在于在隔板6上蒸鍍或者沉積一種金屬，特別是鋁或者銀。作為對此的替換，也可以通過蒸鍍或者噴射一種摻雜有氧化鈦或者其他光學反射材料的復合材料來實現(xiàn)涂層9，這里作為復合材料例如可以考慮環(huán)氧樹脂基質。側向傳播的光因此被折回反射到像素21，并且因此用于
信號變換。
隔板6在間隔3內借助粘合劑10固定。粘合劑10例如可以是UV可固化的塑料組合物。因此準直器5和閃爍器2具有高的硬度，以致即使在高轉速的情況下也能保證精確地對準。
圖3表示制造本發(fā)明的輻射檢測器1的方法的流程圖。該方法包括下面的方法步驟
a) 22如下地制造帶有間隔的閃爍器
al) 23在載體襯底上提供未進行結構化的閃爍器層，
all) 24在閃爍器層的輻射入射面上涂敷蓋反射器，
a2)25在閃爍器層內在φ和z方向上鋸開或者切開間隔，
a3) 26去除載體襯底，
a4) 27研磨和/或拋光閃爍器層的暴露面，
b) 28如下地制造帶有隔板的準直器
bl)29沿φ和ζ方向從輻射吸收材料中通過使用快速制造技術逐層地構成隔板，
b2) 30至少在隔板的被設置在間隔內的區(qū)域內涂敷一個光學反射涂層，
c) 31在間隔內設置粘合劑，
d)32把準直器的隔板放入閃爍器的間隔內，
e) 33固化粘合劑。
在方法步驟bl)內原則上可以使用用于構成2D準直器的任意的制造方法。對于使用快速制造技術的一種替換的方法，例如可以使用按照下面提供的噴鑄技術
bl)提供一個用于噴鑄技術的模具，其沿φ和ζ方向具有隔板6，在該模具內注入摻雜有吸收輻射的材料的復合材料，并且在該模具內固化該復合材料。
可以總結如下
本發(fā)明涉及一種輻射檢測器1，包括閃爍器2，其帶有用于分開彼此并排設置的閃爍器元件4的間隔3;并且包括準直器5，其帶有用于構成側面包圍輻射通道的隔板6，該隔板6為避免相鄰閃爍器元件4之間的串擾而被設置在間隔3內。由此，在同時簡單的結構和高的機械穩(wěn)定性的條件下，極為有效地抑制了相鄰的像素之間的通過光或者二次量子引起的串擾，其結果能夠提高輻射檢測器1的位置分別率和量子效率。此外，本發(fā)明涉及一種用于制造這樣的輻射檢測器1的方法。
權利要求
1.一種輻射檢測器(1)，包括閃爍器O)，其帶有用于分開彼此并排設置的閃爍器元件 (4)的間隔(3)；和包括準直器(5)，其帶有用于構成側面包圍輻射通道的隔板(6)，該隔板 (6)為了避免相鄰閃爍器元件之間的串擾而被設置在間隔(3)內。
2.根據(jù)權利要求
1所述的輻射檢測器(1)，其中，所述隔板(6)的至少被設置在間隔 (3)內的區(qū)域(7)具有在由閃爍器(2)產生的光的波長范圍內反射的涂層(9)。
3.根據(jù)權利要求
2所述的輻射檢測器(1)，其中，所述涂層(9)具有氧化鈦或者一種金屬，尤其是鋁或銀。
4.根據(jù)權利要求
1至3之一所述的輻射檢測器(1)，其中，所述隔板(6)由鉬、鉭、鎢或者這些元素的合金制成。
5.根據(jù)權利要求
1至4之一所述的輻射檢測器(1)，其中，所述隔板(6)被借助復合材料(10)固定在間隔(3)內。
6.根據(jù)權利要求
5所述的輻射檢測器(1)，其中，所述復合材料(10)是具有反射材料， 尤其是氧化鈦、鋁或銀的粘合劑。
7.根據(jù)權利要求
1至6之一所述的輻射檢測器(1)，其中，所述準直器(5)是借助于快速制造技術、尤其是借助于選擇式激光熔化或者借助于噴鑄技術制造的。
8.一種用于制造具有閃爍器( 和準直器(5)的輻射檢測器(1)的方法，具有下述方法步驟a)制造帶有間隔(3)的閃爍器0)，b)制造帶有隔板(6)的準直器(5)，c)在所述間隔(3)內設置粘合劑(10)，d)把準直器(5)的隔板(6)放入閃爍器O)的間隔(3)內，e)固化粘合劑(10)。
9.根據(jù)權利要求
8所述的方法，其中，步驟a)包括下面的方法步驟 al)在載體襯底上提供未進行結構化的閃爍器層，a2)在所述閃爍器層內在φ和ζ方向上鋸開或者切開間隔(3)。
10.根據(jù)權利要求
9所述的方法，其中，在步驟al)后執(zhí)行下述步驟 all)在閃爍器層的輻射入射面上涂敷蓋反射器(11)。
11.根據(jù)權利要求
9或10所述的方法，其中，在步驟后執(zhí)行下述步驟 a3)去除載體襯底，a4)研磨和/或拋光閃爍器層的暴露面。
12.根據(jù)權利要求
8至11之一所述的方法，其中，步驟b)包括下述方法步驟 bl)沿φ和ζ方向從輻射吸收材料中通過使用快速制造技術逐層地構成隔板(6)。
13.根據(jù)權利要求
12所述的方法，其中，作為快速制造技術使用選擇式激光熔化技術， 并且作為吸收輻射的材料使用鉬、鎢、鉭或者這些元素的合金。
14.根據(jù)權利要求
8至11之一所述的方法，其中，步驟b)包括下述方法步驟bl)提供一個用于噴鑄技術的模具，其沿φ和Z方向具有隔板(6)，在該模具內注入摻雜有吸收輻射的材料的復合材料，并且在該模具內固化該復合材料。
15.根據(jù)權利要求
14所述的方法，其中，作為復合材料使用環(huán)氧樹脂基質，并且作為吸收輻射的材料使用鉬、鎢、鉭或者這些元素的合金。
16.根據(jù)權利要求
8至15之一所述的方法，其中，步驟b)包括下述方法步驟b2)至少在所述隔板(6)的被設置在所述間隔(3)內的區(qū)域(7)內涂敷光學反射涂層⑶。
17.根據(jù)權利要求
16所述的方法，其中，步驟W)包括下述方法步驟在所述隔板(6) 的區(qū)域(7)上蒸鍍或者沉積一種金屬，尤其是鋁或銀。
18.根據(jù)權利要求
16所述的方法，其中，步驟W)包括下述方法步驟在所述隔板(6) 的區(qū)域(7)上涂敷或者噴涂一種摻雜有氧化鈦的復合材料。
專利摘要
本發(fā)明涉及一種輻射檢測器(1)，包括閃爍器(2)，其帶有用于分開彼此并排設置的閃爍器元件(4)的間隔(3)；以及包括準直器(5)，其帶有用于構成側面包圍輻射通道的隔板(6)，其中該隔板(6)為了避免相鄰閃爍器元件(4)之間的串擾而被設置在間隔(3)內。由此，在同時簡單的結構和高的機械穩(wěn)定性的條件下，極為有效地抑制了相鄰的像素之間的通過光或者二次量子引起的串擾，其結果能夠提高輻射檢測器(1)的位置分別率和量子效率。此外，本發(fā)明涉及一種用于制造這樣的輻射檢測器(1)的方法。
文檔編號G21K4/00GKCN102243317SQ201110159344
公開日2011年11月16日 申請日期2011年5月16日
發(fā)明者斯蒂芬·沃思, 邁克爾·米斯 申請人:西門子公司導出引文BiBTeX, EndNote, RefMan