專利名稱：一種光學(xué)干涉測量儀器的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實用新型屬于一光學(xué)測量儀器的氣室與氣路系統(tǒng)的改進(jìn)。
現(xiàn)有的光學(xué)干涉測量儀器均依據(jù)同源相關(guān)的兩束光，通過不同氣室，當(dāng)兩氣室成份不同時，兩束光會聚點上的干涉條紋發(fā)生移位的原理設(shè)計而成，如日本產(chǎn)理研18型，東科S6型RIKEN18型，國產(chǎn)GWJ型、AW型、AQG型等型號同屬這種類型，這些儀器廣泛用于礦山瓦斯測定等領(lǐng)域，公知公用和這些產(chǎn)品的參比氣室與測量氣室互相獨立，參比氣室內(nèi)在出廠前充入標(biāo)準(zhǔn)氣體，如新鮮空氣或氧氣，這樣當(dāng)受測氣樣的背景氣體與原產(chǎn)品的標(biāo)準(zhǔn)氣體不同時，儀器將出現(xiàn)極度偏轉(zhuǎn)，無法應(yīng)用，同時，氣壓、溫度的不平衡也會造成測量誤差，使這種儀器的使用范圍受到限制。
本實用新型克服了現(xiàn)有技術(shù)的上述不足設(shè)計了一種不確定背景氣體，在不同的氣體環(huán)境下均能正常工作的光學(xué)干涉測量儀器。
本實用新型是這樣實現(xiàn)的，測量氣體濃度的光學(xué)干涉儀，由光路系統(tǒng)，電源及氣路系統(tǒng)組成，氣室分為參比氣室和測量氣室，其特征是參比氣室與測量氣室相通，兩氣室中間串接一個吸附室，吸附室內(nèi)裝有受測氣體組分的特異吸附劑。這種參比氣室與測量氣室，由吸附室相連成串聯(lián)結(jié)構(gòu)的光學(xué)干涉儀，由于吸附室內(nèi)裝有受測組分的吸附劑，使參比氣室與測量氣室內(nèi)的背景氣體總是保持一致，克服了同類產(chǎn)品特定背景氣體的缺點，減少了氣壓溫度不平衡造成的測量誤差，吸附室為長圓柱容器，有兩個開口，入口與測量氣室出口相連，出口與參比氣室入口相連，連接部位保證氣體密封，其容積應(yīng)保證容納足量的吸附劑。
本實用新型在測量CO2時，吸附室內(nèi)裝有受測氣體組分的特異吸附劑為鈉石灰，在測量麻醉氣體及其它有機(jī)氣體時吸附室內(nèi)裝有吸附劑為活性碳。使用時受測氣體首先進(jìn)入測量氣室，然后流入吸附室，去除受測組分，余下的背景氣體再進(jìn)入?yún)⒈葰馐易鳛闃?biāo)準(zhǔn)對照，即可讀出二室氣體成份不同引起的光柵偏移值。這樣無論受測組分混合在什么背景氣體中，通過吸附室后，參比氣室與測量氣室中的氣體，除被吸附組分外，背景氣體完全一致，均能良好地完成測量，由于二室相通接受同一氣體樣品，故氣壓、溫度仍然平衡，減少了氣壓、溫度不平衡造成的測量誤差，擴(kuò)大了光學(xué)干涉儀的應(yīng)用范圍。
實施例

圖1為已知產(chǎn)品的氣室結(jié)構(gòu)原理示意圖；圖2為本實用新型的氣室結(jié)構(gòu)原理示意圖。
標(biāo)號說明1、參比氣室出口(原產(chǎn)品中連有氣壓平衡回旋管)2、參比氣室3、測量氣室4、測量氣室出口5、測量氣室入口6、光路7、參比氣室入口(原產(chǎn)品中為封閉狀態(tài))8、吸附室出口9、吸附劑10、吸附室11、吸附室入口實施例根據(jù)附圖對實施例做進(jìn)一步的詳述，本實用新型是在原GWJ－1A型光干涉型甲烷測定器的基礎(chǔ)上改進(jìn)的，主要由光路系統(tǒng)6、測量氣室3、5、參比氣室2、7，吸附室8、10、11等組成，氣室分為參比氣室2和測量氣室3，參比氣室2與測量氣室3相通，兩氣室2、3中間串接一個吸附室10，吸附室10內(nèi)裝有受測氣體組分的特異吸附劑9。改進(jìn)后的氣體光學(xué)干涉儀，在使用時，為適應(yīng)特殊組分的測量直讀性，氣室的長度與標(biāo)尺亦應(yīng)做相應(yīng)的改進(jìn)。吸附室10可制成圓柱形容器，尺寸為φ20×100，測量肺泡氣CO2濃度時，內(nèi)裝鈉石灰吸附劑9；測量麻醉氣體時，內(nèi)裝活性碳。使用時，僅需將150ml左右的氣樣由入口(5)注入儀器，經(jīng)測量室3的出口4流入吸附室10，去除受測組分，余下的背景氣體再進(jìn)入?yún)⒈葰馐夜ぷ鳛闃?biāo)準(zhǔn)對照，這時在標(biāo)尺上可讀取干涉條紋的偏移值，其值乘以相應(yīng)的校正系數(shù)(Fco2＝0.95)(FAN＝0.13)即可得到實測百分濃度值。
本實用新型與現(xiàn)有技術(shù)相比具有不指定背景氣體，氣壓、溫度自然平衡，測量準(zhǔn)確測定范圍等優(yōu)點、是一種經(jīng)濟(jì)、實用的光學(xué)氣體測量儀器。
權(quán)利要求1.一種測量氣體濃度的光學(xué)干涉儀，由光路系統(tǒng)、光源、電路及氣路系統(tǒng)組成，氣室分為參比氣室和測量氣室，其特征是參比氣室(2)與測量氣室(3)相通，兩氣室中間串接一個吸附室(10)，吸附室(10)內(nèi)裝有受測氣體組分的特異吸附劑(9)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)干涉儀，其特征在于測量CO2時，吸附室(9)內(nèi)裝有受測氣體組分的特異吸附劑(9)為鈉石灰。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)干涉儀，其特征在于在測量麻醉氣體及其它有機(jī)氣體時，吸附室(10)內(nèi)裝有的吸附劑(9)為活性碳。
專利摘要本實用新型屬于一種光學(xué)測量儀器的氣室與氣路系統(tǒng)的改進(jìn)，主要由光路系統(tǒng)，測量氣室，參比氣室，吸附室等組成，兩氣室相通，中間串接一個吸附室，吸附室內(nèi)裝有受測氣體組分的特異吸附劑，本實用新型與現(xiàn)有技術(shù)相比具有不指定背景氣體，測量準(zhǔn)確、測定范圍廣等優(yōu)點，特別適用于麻醉臨床的氣體監(jiān)測使用。
文檔編號G01N21/31GK2048973SQ8920815
公開日1989年12月6日 申請日期1989年6月10日 優(yōu)先權(quán)日1989年6月10日
發(fā)明者趙加訓(xùn) 申請人:山西省腫瘤醫(yī)院